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Neue Methode zur Bestimmung der mechanischen Eigenschaften der Kupferschicht von Durchkontaktierungen in mehrlagigen Leiterplatten mittels Zugversuch

机译:通过拉伸试验确定多层印刷电路板中镀通孔铜层机械性能的新方法

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摘要

Durchkontaktierungen in mehrlagigen Leiterplatten werden hohen thermischen Belastungen im Fer-tigungsprozess und im Feldeinsatz ausgesetzt. Die Ursache hierfur ist ein, im Vergleich zu Kupfer, signifikant grosserer thermischer Ausdehnungskoeffizient des Epoxidharzbasismaterials in Dickenrichtung. Fur die Bewertung der Zuverlassigkeit der Durchkontak-tierung ist die Kenntnis der Materialeigenschaften der galvanisch abgeschiedenen Kupferschicht von grosster Bedeutung. In diesem Artikel wird die Lang-lochprobentechnik als neue Herstellungsmethode von Zugversuchsproben vorgestellt. Mit der einfachen und kostengunstigen Methode werden erstmalig Spannungs-Dehnungs-Kurven von Kupferschichten generiert, die ahnliche Abscheideverhaltnisse und Rauheitsprofile aufweisen wie die Schichten innerhalb der Durchkontaktierung. Die Methode ist ohne zusatzlichen Material- und Kostenaufwand in die Leiterplattenserienfertigung integrierbar und eignet sich besonders zur Inline-Prozesskontrolle der Galvaniken. An den folienartigen Proben wurden Zugversuche im Temperaturbereich von 20 °C bis 140 °C erfolgreich durchgefuhrt. Die Materialdaten werden mit Zugproben, die auf der Oberflache eines FR4-Substrats abgeschieden wurden, verglichen.
机译:多层电路板中的通孔在制造过程中和现场使用中都承受高热负荷。其原因是,与铜相比,环氧树脂基材在厚度方向上的热膨胀系数明显更高。为了评估直通连接的可靠性,最重要的是了解电沉积铜层的材料特性。本文介绍了长孔测试技术,作为拉伸测试样品的一种新生产方法。使用简单而廉价的方法,首次生成了铜层的应力-应变曲线,其镀层条件和粗糙度与镀通孔内的镀层相似。该方法可以集成到印刷电路板的批量生产中,而无需额外的材料或成本,并且特别适合于电镀的在线过程控制。在膜状样品上成功进行了20°C至140°C温度范围的拉伸试验。将材料数据与沉积在FR4基材表面的拉伸试样进行比较。

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