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IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

SCIEI

中文名称：IEEE半导体制造事务

ISSN：0894-6507
出版周期：4 issues a year

发文量：2193

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共16条结果

1.2011 Index IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing Vol. 24

机译：2011年IEEE半导体制造卷索引索引。 24
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
2.Wafer Surface Charging Model for Single-Wafer Wet-Spin Processes

机译：单晶圆湿旋转工艺的晶圆表面充电模型
- 作者：Mui D. S. L.;Lenz E. H.;Cyterski C.;Venkataraman K.;Kawaguchi M.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Charge advection;
- charging;
- flow electrification;
- hydrodynamics;
- semiconductor;
- single-wafer;
- space charge;
- spin;
- surface charging;
- wet clean;
3.Study of Bubble Activity in a Megasonic Field Using an Electrochemical Technique

机译：利用电化学技术研究兆声场中气泡的活动
- 作者：Keswani M.;Raghavan S.;Deymier P.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Acoustic streaming;
- bubble size;
- chronoamperometry;
- megasonic;
- wafer cleaning;
4.Uniform, Low-Resistive Ni-Pt Silicide Fabricated by Partial Conversion With Low Metal-Consumption Ratio

机译：低金属消耗率的部分转化制得的均匀，低电阻的Ni-Pt硅化物
- 作者：Futase T.;Kamino T.;Inaba Y.;Tanimoto H.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Diffusion;
- Ni-Pt;
- metal-consumption ratio (MCR);
- partial conversion (PC);
- rapid thermal annealing (RTA);
- resistivity;
- silicide;
5.Editorial from the Outgoing Editor-in-Chief

机译：即将卸任的总编辑的社论
- 作者：Boning D. S.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
6.Blank page [back cover]

机译：空白页[封底]
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
7.Enabling Scatterometry as an In-Line Measurement Technique for 32 nm BEOL Application

机译：将散射测量作为一种在线测量技术用于32 nm BEOL应用
- 作者：Faruk M. G.;Zangooie S.;Angyal M.;Watts D. K.;Sendelbach M.;Economikos L.;Herrera P.;Wilkins R.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- 32 nm BEOL;
- GOF;
- TMU;
- focus-exposure matrix;
- interconnect and low-k dielectrics;
- process monitoring and control;
- scatterometry;
- semiconductor metrology;
- variability;
8.Voltage and Temperature-Aware SSTA Using Neural Network Delay Model

机译：使用神经网络延迟模型的电压和温度感知SSTA
- 作者：Das B. P.;Amrutur B.;Jamadagni H. S.;Arvind N. V.;Visvanathan V.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Linear SSTA;
- PVT-aware delay model;
- neural network;
- random local process variations;
- timing analysis in DVS;
9.2011 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)

机译：2011 IEEE国际电子设备会议（IEDM）
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
10.IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing information for authors

机译：作者的IEEE半导体制造交易信息
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
11.Spectral Evidence of Si Complexes in HVPE-Grown GaAs

机译：HVPE生长GaAs中Si配合物的光谱证据
- 作者：Bohn M. J.;Guiney W.;Lynch C.;Bliss D. F.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- GaAs;
- HVPE;
- orientationally patterned;
- photoluminescence;
- ultrafast;
12.Max Separation Clustering for Feature Extraction From Optical Emission Spectroscopy Data

机译：最大分离聚类用于从发射光谱数据中提取特征
- 作者：Flynn B.;McLoone S.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
13.Nonlinear Sequential Bayesian Analysis-Based Decision Making for End-Point Detection of Chemical Mechanical Planarization (CMP) Processes

机译：基于非线性顺序贝叶斯分析的化学机械平坦化（CMP）过程终点检测决策
- 作者：Kong Z.;Beyca O.;Bukkapatnam S. T.;Komanduri R.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Integrated circuit manufacture;
- intelligent sensors;
- manufacturing automation;
- sequential decision procedures;
14.Physical Model for the Small-Scale Residual Topography in Chemical Mechanical Polishing

机译：化学机械抛光中小规模残留地形的物理模型
- 作者：Urbach J.-P.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
- Semiconductor process modeling;
15.Editorial

机译：社论
- 作者：Cunningham S. P.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期
16.Metrology Sampling Strategies for Process Monitoring Applications

机译：用于过程监控应用的计量采样策略
- 作者：Vincent T. L.;Stirton J. B.;Poolla K.
- 期刊名称：《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》 | 2011年第4期

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