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Micro
>2004年第5期
Micro
SCI
EI
中文名称:微
ISSN:
1081-0595
出版周期:
Monthly
发文量:369
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1.
Using an in-line defect-analysis tool to provide real-time root-cause knowledge of yield loss
机译:
使用在线缺陷分析工具提供产量损失的实时根本原因知识
作者:
Stephanie Blanc-Coquand
;
Benoit Hinschberger
;
Eric Rouchouze
;
Emmanuel Sicurani
;
Janet Teshima
;
Marc Castagna
;
Matt Weschler
;
Larry Dworkin
;
Didier Renard
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
2.
New Materials and Methods for Tool Temperature Measurement from Watlow
机译:
瓦特隆工具温度测量的新材料和新方法
作者:
Bill Schuh
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
3.
Rudolph, SCP Global grab first-to-market honors with new product launches
机译:
SCP Global的鲁道夫(Rudolph)凭借新产品发布抢先入市
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
4.
Optimizing STI etch process control using optical digital profilometry
机译:
使用光学数字轮廓仪优化STI蚀刻工艺控制
作者:
Robert Chong
;
Kevin Lensing
;
Thomas F. Edgar
;
Bryan Swain
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
5.
New photomask facility in Dresden combines R&D, pilot, and production lines
机译:
德累斯顿新的光掩模工厂结合了研发,中试和生产线
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
6.
Integrated Metrology Offers Great Promise But Why Such A Slow Adoption?
机译:
集成计量学提供了巨大的希望,但是为什么采用这样的缓慢方法呢?
作者:
Bijan Moslehi
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
7.
LITHOGRAPHY: Complexity, Costs, Infrastructure, and Data-File Size among Challenges Facing Photomask Community
机译:
光刻:复杂性,成本,基础设施和数据文件大小是光掩模社区面临的挑战
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
8.
Measuring Young's modulus of low-k dielectrics using surface acoustic waves
机译:
使用表面声波测量低k电介质的杨氏模量
作者:
Michael Gostein
;
Alex Mazurenko
;
Alex A. Maznev
;
Michelle T. Schulberg
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
9.
Chew on this
机译:
咀嚼这个
作者:
TOM CHEYNEY
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
10.
Using a noncontact stacked-hot-plate system to cure spin-on dielectrics
机译:
使用非接触式堆叠热板系统固化旋涂电介质
作者:
Mauro Sironi
;
Angelo Pesci
;
Gino Clemente
;
Marco Colli
;
Takashi Fukada
;
Michel Ouaknine
;
Woo Sik Yoo
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
11.
SEMICON WEST 2004
机译:
SEMICON WEST 2004
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
12.
Infineon expands VA fab
机译:
英飞凌扩大VA晶圆厂
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
13.
Atomic-layer deposition maps out its place in the nanoscale world
机译:
原子层沉积描绘了其在纳米世界中的位置
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
14.
Evaluating the use of single-wafer wet cleans with organic spin-on dielectric materials
机译:
使用有机旋涂电介质材料评估单晶圆湿法清洁的使用
作者:
Leo Archer
;
Joost Waeterloos
;
Michael Simmonds
;
Brent Ames
;
Frank Tolic
;
Ketan Itchhaporia
期刊名称:
《Micro》
|
2004年第5期
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