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【24h】减少底部抗反射涂层(BARC)的缺陷:优化和分离过滤和分配过程

【摘要】半导体器件制造是当今世界上最清洁的制造业务之一。一定是那样的。如今,晶圆上的颗粒可以杀死制造商的整个设备,这会以两种方式提高制造公司的成本,从而降低利润:它必须生产更多的晶圆来弥补丢失的芯片,并且产品数量少。卖。在当今最先进的晶圆厂中,所有东西都被过滤到可用的最小孔径。对于气体来说,这种做法相当容易,因为与过滤器的孔径相比,气体分子非常小。过滤液体,尤其是光化学物质(例如光致抗蚀剂和BARC),可能要困难得多,因为形成用于制造光化学物质的聚合物的分子正接近过滤器孔径。结果,过滤器可能堵塞,过滤率可能下降,过滤器上的压降可能增加或过滤器可能退化。这些条件然后会导致聚合物剪切,微气泡形成,凝胶颗粒形成以及BARC化学变化在BARC到达晶圆之前发生。为了研究这些可能的相互作用,在TEL Mk8™轨道上安装了Entegris®IntelliGen®2泵,以查看过滤过程是否会对BARC化学和涂层缺陷产生影响。将各种BARC化学药品(例如DUV112和DUV42P)以不同的过滤速率泵送通过具有各种孔径的各种过滤介质,以研究分配过程和过滤过程之间的相互作用。 IntelliGen2泵具有独立于分配过程过滤BARC的能力。通过使用设计的实验查看各种参数(例如分配速率,过滤速率和分配体积),可以了解整个泵系统的效果,并可以应用适当的条件以产生最清洁的BARC涂覆工艺。结果表明,过滤速率和过滤器孔径在涂覆的晶圆上的缺陷密度中起着重要作用,而实际的分配特性(例如分配晶圆的速度和分配时间)的作用较小。

【作者】Nickolas L. Brakensiek;Gary Martin;Sean Simmons;Traci Batchelder;

【作者单位】Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Dr., Rolla, MO 65401, USA;

【年(卷),期】2006(),

【年度】2006

【页码】P.61532S.1-61532S.7

【总页数】7

【原文格式】PDF

【正文语种】eng

【中图分类】TN304;

【关键词】ArF; KrF;底部抗反射涂层; BARC;涂层;光刻;缺陷;过滤;分配;

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