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1.
Ultra-Pure and Environmentally Friendly Wet Chemistry made Possible through On-site Recycling and Reprocessing
机译:
通过现场回收和后处理使超纯和环保的湿化学成为可能
作者:
John A. Adams
;
David W. Persichini
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
2.
Low Cost Production by Simplified Processing
机译:
通过简化加工生产低成本
作者:
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
3.
Requirements for Contamination Control in G-bit Era
机译:
G比特时代的污染控制要求
作者:
Hiroshi Kitajima
;
Yoshimi Shiramizu
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
4.
Control of Fine Particulate and Gaseous Contaminants by UV/photoelectron Method
机译:
紫外线/光电子法控制细颗粒物和气态污染物
作者:
Takafumi Seto
;
Shin Yokoyama
;
Kikuo Okuyama
;
Masataka Hirose
;
Toshiaki Fujii
;
Hidetomo Suzuki
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
5.
Evaluation for Fab Performance using CPO
机译:
使用CPO评估Fab性能
作者:
Yukiko Ito
;
Hajime Ogawa
;
Hiromichi Tani
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
6.
Recognition and Rewards: Human Elements of Semiconductor Manufacturing Excellence
机译:
认可与奖励:卓越半导体制造的人为因素
作者:
Patricia Mack
;
Michelle Simmons
;
Steve Thornton
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
7.
A Highly Automated Testing Facility For Calibration and Performance Testing of Mass Flow Controllers
机译:
用于质量流量控制器的校准和性能测试的高度自动化的测试设施
作者:
Tim McKnight
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
8.
Recycling of IC Molding Resin Wastes from IC Package Production Processes
机译:
从IC封装生产过程中回收IC模制树脂废料
作者:
Masatoshi IJI
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
9.
Assessing the Environment, Safety and Health Impacts of Semiconductor Manufacturing at the Design and Process Development Stages
机译:
在设计和工艺开发阶段评估半导体制造对环境,安全和健康的影响
作者:
Laura Mendicino
;
Wes Lashbrook
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
10.
Low cost and flexible data analysis system to find appropriate corrective action for yield deteriorations in LSI manufacturing
机译:
低成本,灵活的数据分析系统,可为LSI制造中的良率下降找到适当的纠正措施
作者:
A.Yamanaka
;
M. Mizuno
;
R Ariyoshi
;
O. Nozawa
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
11.
A Hierarchical Scheduling System using New Weight Assigned Function in VLSI development lines
机译:
在VLSI开发线中使用新的权重分配功能的分层调度系统
作者:
Hiroaki Ishizuka
;
Shigeru Matsumoto
;
Kazuki Nakata
;
Shoichi Tanimura
;
Yuichi Hirofuji
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
12.
Impact of Tool Installation Delay on Factory Ramp-Up Performance
机译:
工具安装延迟对工厂升级性能的影响
作者:
L.C. Hoxie
;
Lance Solomon
;
Jerry Thomison
;
Norm Abt
;
Sarah Pittman
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
13.
Role of In-line Defect Sampling Methodology in Yield Management
机译:
在线缺陷采样方法在产量管理中的作用
作者:
Raman K. Nurani
;
Ram Akella
;
Andrzej J. Strojwas
;
Rick Wallace
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
14.
A STATISTICAL STRATEGY FOR DIRECTING PROCESS CAPABILITY IMPROVEMENT EFFORTS
机译:
指示过程能力改进成果的统计策略
作者:
K.D. Hirschman
;
T.J. Fennelly Jr.
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
15.
Contamination issues in gas delivery to a gate oxide process
机译:
气体输送到门氧化物工艺中的污染问题
作者:
Sowmya Krishnan
;
Olivier Laparra
;
Andrew Tudhope
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
16.
A Methodology for the Top-Down Synthesis of Semiconductor Process Flows
机译:
自顶向下合成半导体工艺流程的方法
作者:
Sharad Saxena
;
P. K. Mozumder
;
Amy Unruh
;
Richard Burch
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
17.
Optimal Control Processing to Increase Single Wafer Reactor Throughput In LPCVD
机译:
优化控制处理以提高LPCVD中单晶片反应器的产量
作者:
Peter E. Crouch
;
Lijuan Song
;
Kostas S. Tsakalis
;
Timothy S. Cale
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
18.
A New LSI Manufacturing Scheme in the Large-Diameter Wafer Era for Super-Quick TAT Development and Volume Production
机译:
大直径晶圆时代的新型LSI制造方案,用于超快速TAT开发和批量生产
作者:
A. Koike
;
S. Shimoyashiro
;
K. Kubota
;
N. Suzuki
;
Y. Kiguchi
;
A. Fujisawa
;
A. Takamatsu
;
T. Okabe
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
19.
Control of Si surface characteristics by a new etching solution BHF/H_2O_2
机译:
通过新型蚀刻液BHF / H_2O_2控制Si表面特性
作者:
Yoshinori Muramatsu
;
Mikio Tsuji
;
Nahomi Aoto
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
20.
DEVELOPMENT OF THE YIELD ENHANCEMENT SYSTEM OF A HIGH-VOLUME 8-INCH WAFER FAB
机译:
大规模8英寸晶圆FAB产量增强系统的开发
作者:
Ping Wang
;
Mike Chan
;
Ray Goodner
;
Fourmun Lee
;
Ron Ceton
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
21.
Solvent Recycling for Reuse in Semiconductor Manufacturing
机译:
溶剂回收以在半导体制造中重复使用
作者:
Peter E. Dahlgren
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
22.
Manufacturability Evaluation of Deep Submicron Exposure Tools Using Statistical Metrology
机译:
使用统计计量学的深亚微米接触工具的可制造性评估
作者:
Crid Yu
;
Hua-Yu Liu
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
23.
The Influence of Tungsten Contamination on Electrical Characteristics of MOS Devices in Semiconductor Processing
机译:
钨污染对半导体加工中MOS器件电学特性的影响
作者:
Hiroyuki Kawahara
;
Kenji Yoneda
;
Hiroshi Oishi
;
Yoshihiro Todokoro
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
24.
Enhancible Automation System for Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造的增强型自动化系统
作者:
Yoshio IWATA
;
Sadao SHEMOYASHIRO
;
Tomoyuki MASUI
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
25.
Rapid Failure Analysis Using Contamination-Defect-Fault (CDF) Simulation
机译:
使用污染缺陷故障(CDF)模拟进行快速故障分析
作者:
Jitendra Khare
;
Wojciech Maly
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
26.
EVALUATION AND CONTROL METHOD OF ORGANIC CONTAMINATION ON WAFER SURFACES
机译:
晶圆表面有机污染物的评估与控制方法
作者:
Misako Saito
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
27.
Q-TAT Production and CIM Systems for the Packaging Process within IC Fabrication
机译:
用于IC制造中封装工艺的Q-TAT生产和CIM系统
作者:
Noriki Iwasaki
;
Yoshinobu Shimosato
;
Kiyomi Tamiguchi
;
Kiyoharu Shimano
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
28.
Global Planning at Harris Semiconductor
机译:
哈里斯半导体公司的全球规划
作者:
Srinivas V. Murty
;
Jennifer W. Bienvenu
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
29.
ULTRA FLEXIBLE RD LINE MANAGEMENT FOR Si WAFER PROCESSES
机译:
硅晶片工艺的超灵活研发线管理
作者:
Mamoru Kitamura
;
Yutaka Sakakibara
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
30.
Semiconductor Process Line Scheduling Expert System
机译:
半导体生产线调度专家系统
作者:
M. Ohkura
;
K. Mizuno
;
J. Yugami
;
A. Hikichi
;
T. Nishida
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
31.
Equipment-based Course Development and Implementation: A Teamwork Approach
机译:
基于设备的课程开发和实施:一种团队合作方法
作者:
Steve Thornton
;
Meg Karakekes
;
Thomas White
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
32.
Cost of 'Ad Hoc' Wafer Release Policies
机译:
“临时”晶圆发布政策的成本
作者:
Pranab K. Nag
;
Wojciech Maly
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
33.
Monitoring Multi-Stage Sequential Manufacturing Processes: A Bayesian Approach
机译:
监视多阶段顺序制造过程:贝叶斯方法
作者:
Suraj Rao
;
Andrzej Strojwas
;
John Lehoczky
;
Mark Schervish
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
34.
Possibilities and Limitation of SiO2 Etching with Parallel Plate RF Plasma
机译:
平行平板射频等离子体刻蚀SiO2的可能性与局限性
作者:
Sumio Sekiyama
;
Yoshikazu Motoyama
;
Kenya Iwasaki
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
35.
Next Generation Processes and Equipment that Lead to Positive Environment, Safety and Health Impacts
机译:
下一代对环境,安全和健康产生积极影响的过程和设备
作者:
Phyllis Pei
;
H. Ray Kerby
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
36.
CMP Slurry Particle Size Spectrometer
机译:
CMP浆料粒径谱仪
作者:
John A. Adams
;
Dieter Dornisch
;
Gerald A. Krulik
;
David W. Persichini
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
37.
Analysis of RF Plasma Using Electrical Equivalent Circuit
机译:
等效电路分析射频等离子体
作者:
Masaki Hirayama
;
Kazuhidc Ino
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
38.
THE STATE OF THE JAPANESE SEMICONDUCTOR INDUSTRY IN THE NEXT CENTURY
机译:
二十世纪日本半导体产业的状况
作者:
Tsuyoshi Kawanishi
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
39.
Application of Surface Photovoltage Method to In-Line Monitoring of Metallic Contamination in a Manufacturing Environment
机译:
表面光电压法在生产环境中金属污染在线监测中的应用
作者:
Kazuhiro Nakao
;
Yasushi Matsuda
;
Yoshihiro Inomaki
;
Koichiro Mizukami
;
Minoru Enomoto
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
40.
Automatic Defect Classification System For Patterned Semiconductor Wafers
机译:
图案化半导体晶圆的自动缺陷分类系统
作者:
Louis Breaux
;
Baljit Singh
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
41.
A Multi-Pronged Approach to Defect Management
机译:
多管齐下的缺陷管理方法
作者:
D.E.Paradis
;
R.L.Guldi
;
J.N.Lalena
;
J.W.Ritchison
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
42.
Process Equipment Particle Control with Inline Inspection
机译:
带在线检查的过程设备颗粒控制
作者:
Kiyoshi Mori
;
Nam Nguyen
;
JoAnn Kantapit
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
43.
A High Level Treatment of Fluorine Wastewater to Reduce Sludge
机译:
含氟废水的高水平处理以减少污泥
作者:
Arata Toyoda
;
Tsutomu Taira
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
44.
Yield Enhancement vs. Performance Improvement in VLSI Circuits
机译:
VLSI电路中的良率提高与性能改善
作者:
Venkat K. R. Chiluvuri
;
Israel Koren
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
45.
Process Simplification in Deep Submicron CMOS Fabrication
机译:
深亚微米CMOS制造中的工艺简化
作者:
H. Koike
;
H. Ohtsuka
;
F. Matsuoka
;
M. Kakumu
;
K. Maeguchi
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
46.
A Unique Approach to Yield Enhancement / Defect Characterization Using Electrical Comb Monitors
机译:
使用电梳监控器提高产量/缺陷特性的独特方法
作者:
William R. Morrison
;
John P. Campbell
;
Judy B. Shaw
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
47.
SIMULATING AMHS PERFORMANCE FOR SEMICONDUCTOR WAFER FABRICATION
机译:
模拟半导体晶片制造的AMHS性能
作者:
Neal G. Pierce
;
Richard Stafford
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
48.
ULSI Inspection System Using Digital Scanning Confocal Microscopy with Applications to PZT film
机译:
使用数字扫描共聚焦显微镜的ULSI检查系统及其在PZT胶片上的应用
作者:
Yoshiham Ichikawa
;
Jun-Ichiro Toriwaki
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
49.
Evaluation for Fab Performance using CPO
机译:
使用CPO评估Fab性能
作者:
Yukiko Ito
;
Hajime Ogawa
;
Hiromichi Tani
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
50.
An Investigation of Thermally-Sprayed Aluminum Oxide Coatings for High-Temperature Electrostatic Chucks (ESCs)
机译:
用于高温静电吸盘(ESC)的热喷涂氧化铝涂层的研究
作者:
C.J. Swindeman
;
R.D. Seals
;
W.P. Murray
;
M.H. Cooper
;
K.R. Forbes
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
51.
In-Situ Plasma Cleaning by Rotating Transverse Magnetic Field
机译:
通过旋转横向磁场进行原位等离子体清洁
作者:
T.KAWASIMA
;
S.BANNAI
;
T.CHIBA
;
I.HONBORI
;
T.KISAKIBARU
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
52.
Applications of Queuing Theory and Simulation to Staffing in the Semiconductor Clean Room Environment
机译:
排队论与模拟在半导体洁净室环境人员配置中的应用
作者:
Amnon Raviv
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
|
1995年
53.
Use Case of Process Flow in Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造过程流程的用例
作者:
Etsuo Fukuda
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
54.
A Review of Sensing Technologies for Semiconductor Process Applications
机译:
半导体工艺应用传感技术综述
作者:
Armando Iturralde
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
55.
Dry Cleaning of Si and SiO_2 Surfaces using SiCl_4 System
机译:
使用SiCl_4系统干洗Si和SiO_2表面
作者:
Rinji Sugino
;
Yoshiko Okui
;
Mayumi Shigeno
;
Satoshi Okubo
;
Kanetake Takasaki
;
Takashi Ito
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
56.
Integration of Costing, Yield and Performance Metrics into the TCAD Environment through the Combination of DOE and RSM
机译:
通过DOE和RSM的结合将成本,收益和绩效指标集成到TCAD环境中
作者:
M. Fallon
;
A.J. Walton
;
M.I.Newsam
;
V. Axelrad
;
Y. Granik
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
57.
Analysis of Mixed-Signal Manufacturability with Statistical TCAD
机译:
统计TCAD分析混合信号可制造性
作者:
David A. Hanson
;
Ronald J.G. Goossens
;
Mark Redford
;
Jim McGinty
;
John K. Kibarian
;
Kimon W. Michaels
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
58.
Single-Wafer and Mini-Batch Wet Processing for Improved Process Performance and Process Characterization
机译:
单晶片和小批量湿法处理,可改善工艺性能和工艺特性
作者:
Lonnie Wilson
;
Dieter Dornisch
;
Erik Brown
;
E. Ward
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
59.
AN EFFICIENT PRODUCTION METHOD IN A MIXED PRODUCT MANUFACTURING
机译:
混合产品制造中的有效生产方法
作者:
Eiji Ikemoto
;
Katsumi Kinoshita
;
Kouji Nakagawa
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
60.
Global Planarization Technique/CMP by High Precision Polishing and Its Characteristics
机译:
高精度抛光的全球平面化技术/ CMP及其特性
作者:
Toshiroh Karaki-Doy
;
Haedo Jeong
;
Takeo Nakagawa
;
Hitoshi Ohmori
;
Toshio Kasai
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
61.
Trace Moisture Measurement in HCl Gas by Near-InfraRed Diode LASER Spectroscopy
机译:
用近红外二极管激光光谱法测量HCl气体中的痕量水分
作者:
Yoshio ISHIHARA
;
Hiroshi MASUSAKI
;
Shang-Qian WU
;
Koh MATSUMOTO
;
Tetsuya KIMIJIMA
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
62.
Carrierless system for wet cleaning
机译:
无载体湿式清洁系统
作者:
S.Kitahara
;
M.Sugita
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
63.
Virtual Manufacturing System
机译:
虚拟制造系统
作者:
H.KORIYAMA
;
Y.YAZAKI
;
I.HONBORI
;
Y.KATO
;
T.KISAKIBARU
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
64.
Particle Count and Analysis by using a Cyclone Particle Sampler
机译:
使用旋风粒子采样器进行粒子计数和分析
作者:
N. Tokunaga
;
S.Okamura
;
S. Sasaki
;
S. Nakamura
;
F. Mieno
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
65.
Affordability Concerns in Advanced Semiconductor Manufacturing: The Nature of Industrial Linkage
机译:
先进半导体制造中的可负担性问题:产业联系的本质
作者:
Donald A. Hicks
;
Steven Brown
会议名称:
《International symposium on semiconductor manufacturing》
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1995年
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