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Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications
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1.
UNDERSTANDING DC-BIAS SPUTTERED THORIUM OXIDE THIN FILMS USEFUL IN EUV OPTICS
机译:
了解EUV光学中有用的DC-偏压溅射氧化HOR薄膜
作者:
William R. Evans
;
Sarah C. Barton
;
Michael Clemens
;
David D. Allred
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
band gap;
optical constant;
thickness measurement;
thorium oxide;
spectroscopic ellipsometry;
thoria;
refractive index;
DC-bias;
sputtering;
x-ray diffraction;
2.
Transmittance and extinction coefficient of Ce films measured in situ in the extreme ultraviolet and soft x-rays
机译:
在极紫外和柔和X射线下原位测量的Ce薄膜的透射率和消光系数
作者:
Monica Fernez-Perea
;
Jose A. Aznarez
;
Juan I. Larruquert
;
Jose A. Mendez
;
Luca Poletto
;
Denis Garoli
;
A. Marco Malvezzi
;
Angelo Giglia
;
Stefano Nannarone
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
optical constants;
absorption filters;
multilayers;
optical properties of thin films;
3.
Tunable Highly Efficient Crystal Analyzer Based on Active Optics
机译:
基于有源光学的可调谐高效晶体分析仪
作者:
Klaus Attenkofer
;
Bernhard W. Adams
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
active optics;
X-ray optics;
X-ray fluorescence analysis;
RIXS;
4.
Thermal and mechanical joints to cryo-cooled silicon monochromator crystals
机译:
低温冷却的硅单色仪晶体的热连接和机械连接
作者:
A.MacDowell
;
S.Fakra
;
G.Morrison
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
cryo-cooled monochromator;
cry-cooled joints;
cryo-mechanical joint;
5.
Thorium dioxide thin films in the extreme ultraviolet
机译:
极紫外光中的二氧化thin薄膜
作者:
Nicole F. Brimhall
;
Amy B. Grigg
;
R. Steven Turley
;
David D. Allred
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
thorium dioxide;
thin films;
optical constants;
6.
Reflectivity and stress responses of multilayers upon isothermal treatment
机译:
等温处理后多层膜的反射率和应力响应
作者:
C. Borel
;
C. Morawe
;
A. Rommeveaux
;
C. Huguenot
;
J-C. Peffen
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
x-ray optics;
multilayers;
reflectivity;
stress;
isothermal annealing;
7.
Positioning Errors of Pencil-beam Interferometers for Long Trace Profilers
机译:
长轨迹轮廓仪的笔形光束干涉仪的定位误差
作者:
Valeriy V. Yashchuk
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
pencil-beam interferometer;
long trace profiler;
LTP;
beam positioning;
optical metrology;
error reduction;
8.
Novel Compact Spectrophotometer for EUV-Optics Characterization
机译:
新型紧凑型分光光度计,用于EUV光学表征
作者:
K. Starke
;
H. Blaschke
;
L. Jensen
;
S. Nevas
;
D. Ristau
;
R. Lebert
;
C. Wies
;
A. Bayer
;
F. Barkusky
;
K. Mann
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
compact EUV-spectrophotometer;
EUV-optics metrology;
EUV-reflectometer;
9.
Optical constant measurements of the uppermost layer of a reflection multilayer using reflection and total electron yield spectra
机译:
使用反射和总电子产率谱对反射多层的最上层进行光学常数测量
作者:
Takeo Ejima
;
Tetsuo Harada
;
Atsushi Yamazki
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
optical constants;
refractive index;
extinction coefficient;
phase;
total electron yield;
tey;
reflection;
multilayer;
extreme ultraviolet;
vacuum ultraviolet;
10.
Optical Constants Determination of Neodymium and Gadolinium in the 3 nm to 100 nm wavelength range
机译:
在3 nm至100 nm波长范围内测定钕和d的光学常数
作者:
B. Kjornrattanawanich
;
D. L. Windt
;
Y. A. Uspenskii
;
J. F. Seely
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
optical constants;
rare earth;
Nd;
Gd;
multilayers;
extreme ultraviolet;
solar imager;
11.
Optical constants in the EUV Soft x-ray (5 / 152 nm) spectral range of B_4C thin films deposited by different deposition techniques
机译:
通过不同沉积技术沉积的B_4C薄膜的EUV软X射线(5/152 nm)光谱范围内的光学常数
作者:
G. Monaco
;
D. Garoli
;
R. Frison
;
V. Mattarello
;
P. Nicolosi
;
M.G. Pelizzo
;
V. Rigato
;
L. Armelao
;
A. Giglia
;
S. Nannarone
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
B_4C;
optical coatings;
multilayer;
optical constants;
EUV soft-X;
PLD;
e-beam;
magnetron sputtering;
12.
Narrow-band X-ray Imaging for Core Temperature and Density Maps retrieval of Direct Drive Implosions
机译:
用于直接驱动内爆的核心温度和密度图检索的窄带X射线成像
作者:
Riccardo Tommasini
;
Jeffrey A. Koch
;
Nobuhiko Izumi
;
Leslie A. Welser
;
Roberto C. Mancini
;
Jacques Delettrez
;
Sean P. Regan
;
Vladimir Smalyuk
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
13.
Ion beam sputter deposition of x-ray multilayer optics on large areas
机译:
X射线多层光学器件的离子束溅射沉积在大面积上
作者:
Peter Gawlitza
;
Stefan Braun
;
Sebastian Lipfert
;
reas Leson
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
x-ray optics;
EUV optics;
multilayer;
large area;
ion beam sputter deposition;
Ni/B_4C;
Ni/C;
Mo/Si;
14.
GOES N-P SXI In-Flight Calibration using the Crab Nebula
机译:
使用蟹状星云进行N-P SXI飞行中校准
作者:
Karl K. Klett
;
Jr.
;
Steven Hill
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
X-ray imaging;
space weather;
x-ray calibration;
solar corona;
crab nebula;
15.
Focusing properties of aperiodic zone plates
机译:
非周期性波带片的聚焦特性
作者:
Walter D. Furlan
;
Juan A. Monsoriu
;
Genaro Saavedra
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
zone plates;
imaging;
fractals;
depth of field;
16.
Graded multilayers for focusing hard X rays below 50nm
机译:
渐变多层,用于聚焦50nm以下的硬X射线
作者:
Ch. Morawe
;
O. Hignette
;
P. Cloetens
;
W. Ludwig
;
Ch. Borel
;
P. Bernard
;
A. Rommeveaux
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
x-ray optics;
nano focusing;
x-ray multilayers;
sputter deposition;
17.
Coated Photodiode Technique for the Determination of the Optical Constants of Reactive Elements: La and Tb
机译:
涂层光电二极管技术测定反应性元素的光学常数:La和Tb
作者:
John F. Seely
;
Yurii A. Uspenskii
;
Benjawan Kjornrattanawanich
;
David L. Windt
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
optical constants;
extreme ultraviolet;
La;
Ta;
18.
Development of Mg/SiC multilayer mirrors
机译:
Mg / SiC多层镜的开发
作者:
Go Murakami
;
Kazuo Yoshioka
;
Ichiro Yoshikawa
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
EUV;
planetary atmosphere;
multilayer mirror;
Mo/Si;
Mg/SiC;
19.
Determination of the optical constants of amorphous carbon in the EUV spectral region 40-450 eV
机译:
确定EUV光谱区40-450 eV中无定形碳的光学常数
作者:
Yu.A. Uspenskii
;
J.F. Seely
;
B. Kjornrattanawanich
;
D.L. Windt
;
Ye.A. Bugayev
;
V.V. Kondratenko
;
I.A. Artyukov
;
A.A. Titov
;
E.T. Kulatov
;
A.V. Vinogradov
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
optical constants;
anisotropic EUV absorption;
electronic structure;
graphene sheets;
20.
Compact X-ray microscopes for EUV- and soft X-radiation with spectral imaging capabilities
机译:
紧凑型X射线显微镜,用于具有光谱成像功能的EUV和软X射线
作者:
David Schaefer
;
Thomas Nisius
;
Rolf Frueke
;
Stefan Rausch
;
Marek Wiel
;
Uli Vogt
;
Thomas Wilhein
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
full-field X-ray microscopy;
scanning X-ray microscopy;
zone plate;
laser plasma source;
21.
Construction of an extreme ultraviolet polarimeter based on high- order harmonic generation
机译:
基于高次谐波产生的极紫外旋光仪的构建
作者:
N. Brimhall
;
J. C. Painter
;
M. Turner
;
S. V. Voronov
;
R. S. Turley
;
M. Ware
;
J. Peatross
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
polarimetry;
high-order harmonics;
22.
Evaluation of a modern soft x-ray monochromator with high resolving power over 10,000
机译:
评估具有超过10,000的高分辨率的现代软X射线单色仪
作者:
Haruhiko Ohashi
;
Yasunori Senba
;
Eiji Ishiguro
;
Shunji Goto
;
Shik Shin
;
Tetsuya Ishikawa
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
synchrotron radiation;
soft x-ray;
monochromator;
photoelectron spectroscopy;
23.
EUV radiation from gas-puff laser plasma focused by Multi-foil optics
机译:
多重箔光学聚焦的气喘激光等离子体的EUV辐射
作者:
L. Pina
;
A. Bartnik
;
H. Fiedorowicz
;
R. Havlikova
;
R. Hudec
;
A. Inneman
;
K. Jakubczak
;
V. Semencova
;
L. Sveda
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
EUV radiation;
X-ray optics;
EUV lithography;
gas-puff;
laser plasma;
24.
Design and Characterization of an UHV Compatible Artificial Channel Cut Monochromator
机译:
特高压兼容人工通道切割单色仪的设计与表征
作者:
Suresh Narayanan
;
Deming Shu
;
Alec Sy
;
Michael Sprung
;
Curt Preissner
;
Joseph Sullivan
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
X-ray optics;
synchrotron radiation;
X-ray monochromator;
coherent X-ray scattering;
25.
Beryllium and lithium X-ray lenses at the APS
机译:
APS的铍和锂X射线透镜
作者:
Ali Khounsary
;
Eric M. Dufresne
;
Kristina Young
;
Cameron M. Kewish
;
rew N. Jansen
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
focusing;
X-ray lens;
compound refractive lens;
CRL;
lithium;
beryllium;
gain;
26.
At-wavelength figure metrology of total reflection mirrors in hard x-ray region
机译:
硬X射线区域全反射镜的波长图计量
作者:
Hirokatsu Yumoto
;
Hidekazu Mimura
;
Satoshi Matsuyama
;
Soichiro Ha
;
Akihiko Shibatani
;
Keiko Katagishi
;
Yasuhisa Sano
;
Makina Yabashi
;
Yoshinori Nishino
;
Kenji Tamasaku
;
Tetsuya Ishikawa
;
Kazuto Yamauchi
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
hard X-ray mirror;
X-ray nanofocusing;
at-wavelength wave-front metrology;
surface figure metrology;
fabrication technique;
27.
Wavefront analysis and beam profiling from 40 eV up to 40 keV
机译:
从40 eV到40 keV的波前分析和光束轮廓
作者:
Thomas Nisius
;
David Schaefer
;
Rolf Frueke
;
Thomas Wilhein
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
wavefront sensor;
hartmann principle;
intensity profile;
X-ray;
EUV;
scintillator;
28.
Wave-optical simulations for designing and evaluating hard x-ray reflective optics
机译:
用于设计和评估硬X射线反射光学器件的波光学模拟
作者:
H. Mimura
;
S. Matsuyama
;
H. Yumoto
;
S. Ha
;
A. Shibatani
;
K. Katagishi
;
Y.Sano
;
Y. Nishino
;
M. Yabashi
;
K. Tamasaku
;
T. Ishikawa
;
K. Yamauchi
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
coherent X-ray;
hard X-ray focusing;
wave-optical simulation;
29.
X-ray Optics for beamlines at Diamond Light Source
机译:
钻石光源光束线的X射线光学器件
作者:
S. G. Alcock
;
L. Alianelli
;
K. J. S Sawhney
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
X-ray optics;
metrology;
synchrotron light;
30.
SXR Optical Diagnostics of Capillary Discharge Plasma
机译:
毛细管放电等离子体的SXR光学诊断
作者:
L. Pina
;
A. Jancarek
;
M.Vrbova
;
M.Tamas
;
J. Blazej
;
R. Havlikova
;
P
;
Vrba
;
G. Tomassetti
;
A. Ritucci
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
capillary discharge;
Z-pinch;
EUV radiation;
X-ray optics;
recombination pumping;
31.
ransmittance and reflective coatings for the 50-200 nm spectral range
机译:
50-200 nm光谱范围的透射和反射涂层
作者:
Monica Fernez-Perea
;
Juan I. Larruquert
;
Jose A. Aznarez
;
Jose A. Mendez
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
far ultraviolet;
extreme ultraviolet;
multilayers;
filters;
optical constants;
thin films: optical properties;
32.
Off-plane grazing-incidence fan-groove blazed grating to serve as a high-efficiency spectral purity filter for EUV lithography
机译:
平面掠入射扇形凹槽闪耀光栅,可作为EUV光刻的高效光谱纯度滤光片
作者:
Leonid I. Goray
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
spectral purity filter;
fan-groove blazed grating;
off-plane grazing configuration;
diffraction efficiency;
PCGrate modeling;
33.
Measurement of Zone Plate Efficiencies in the Extreme Ultraviolet and Applications to Radiation Monitors for Absolute Spectral Emission
机译:
极紫外区带效率的测量及其在辐射监测仪中的绝对光谱发射应用
作者:
John Seely
;
Glenn Holl
;
James C. Bremer
;
Tim Zukowski
;
Michael Feser
;
Yan Feng
;
Benjawan Kjornrattanawanich
;
Leonid Goray
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
fresnel zone plate;
extreme ultraviolet;
diffraction;
solar monitor;
34.
High-spatial-resolution scanning X-ray fluorescence microscope with Kirkpatrick-Baez mirrors
机译:
带有Kirkpatrick-Baez镜的高分辨率扫描X射线荧光显微镜
作者:
Satoshi Matsuyama
;
Hidekazu Mimura
;
Mari Shimura
;
Hirokatsu Yumoto
;
Keiko Katagishi
;
Soichiro Ha
;
Akihiko Shibatani
;
Yasuhis Sano
;
Kazuya Yamamura
;
Yoshinori Nishino
;
Kenji Tamasaku
;
Makina Yabashi
;
Tetsuya Ishikawa
;
Kazuto Yamauchi
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
X-ray focusing;
kirkpatrick-baez;
X-ray microscopy;
elemental mapping;
scanning X-ray fluorescence microscope;
diffraction limited focusing;
plasma CVM;
EEM;
MSI;
RADSI;
35.
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror -
机译:
用于X射线和EUV光学器件的表面梯度集成轮廓仪-1m长的平面镜和离轴抛物面镜的3D映射-
作者:
Y.Higashi
;
Y.Takaie
;
K.Endo
;
T.Kume
;
K.Enami
;
K.Yamauchi
;
K.Yamamura
;
H.Sano
;
J. Uchikoshi
;
K.Ueno
;
Y.Mori
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
surface figuring;
slope error;
normal vector;
goniometers;
asymmetric aspheric figure;
36.
EUV multilayer mirrors with enhanced stability
机译:
具有增强稳定性的EUV多层镜
作者:
Nicolas Benoit
;
Sergiy Yulin
;
Torsten Feigl
;
Norbert Kaiser
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
Mo/Si multilayer mirrors;
radiation stability;
thermal stability;
EUVL;
37.
ESAD Shearing Deflectometry: Potentials for Synchrotron Beamline Metrology
机译:
ESAD剪切挠度法:同步辐射线计量学的潜力
作者:
Ralf D. Geckeler
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
deflectometry;
profilometry;
pentaprism;
autocollimator;
slope;
topography;
traceability;
38.
Determination of the transmittance and extinction coefficient of Yb films in the 23-1,700 eV range
机译:
在23-1700 eV范围内确定Yb薄膜的透射率和消光系数
作者:
Juan I. Larruquert
;
Monica Fernez-Perea
;
Jose A. Aznarez
;
Jose A. Mendez
;
Luca Poletto
;
Denis Garoli
;
A. Marco Malvezzi
;
Angelo Giglia
;
Stefano Nannarone
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
optical constants;
absorption filters;
multilayers;
optical properties of thin films;
39.
Compact EUV Source and Optics for Applications apart from Lithography
机译:
紧凑的EUV光源和光学器件,可用于光刻以外的应用
作者:
Armin Bayer
;
Frank Barkusky
;
Christian Peth
;
Holger Toettger
;
Klaus Mann
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
schwarzschild objective;
EUV source;
EUV optics;
13.5 nm;
laser-induced plasma;
micro focus;
Mo/Si;
kirkpatrick-baez;
40.
Air Convection Noise of Pencil-beam Interferometer for Long Trace Profiler
机译:
长轨迹轮廓仪的笔形光束干涉仪的空气对流噪声
作者:
Valeriy V. Yashchuk
;
Steve C. Irick
;
Alastair A. MacDowell
;
Wayne R. McKinney
;
Peter Z. Takacsf
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
pencil-beam interferometer;
long trace profiler;
air convection;
laser beam;
pointing stability;
x-ray optics;
optical metrology;
error reduction;
41.
Dark Field Image of Full-Field Transmission Hard X-ray Microscope in 8-11 keV
机译:
8-11 keV全场透射硬X射线显微镜的暗场图像
作者:
Gung-Chian Yin
;
Fred Duewer
;
Xianghui Zeng
;
Alan Lyon
;
Wenbing Yun
;
Fu-Rong Chen
;
K.S Liang
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
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2006年
关键词:
transmission X-ray microscope;
dark field;
contrast;
42.
Film stress studies and the multilayer Laue lens project
机译:
膜应力研究和多层Laue透镜项目
作者:
Chian Liu
;
R. Conley
;
A. T. Macrer
会议名称:
《Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications》
|
2006年
关键词:
thin films;
multilayers;
film stress;
sputter deposition;
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