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Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III
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1.
Effect of the measurement wavelength on a multi-dielectric mirror wavefront
机译:
测量波长对多介质镜面波前的影响
作者:
Sophiane TOURNOIS
;
Stephane BOUILLET
;
Jerome DAURIOS
;
Eric LAVASTRE
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
thin films;
multi-dielectric mirror;
fizeau interferometer;
phase measurement;
2.
Measuring a laser focal spot on a large intensity range - Effect of optical component laser damages on the focal spot
机译:
在大强度范围内测量激光焦点-光学组件激光损伤对焦点的影响
作者:
Stephane Bouillet
;
Sandrine Chico
;
Laurent Le Deroff
;
Gerard Raze
;
Roger Courchinoux
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
focal spot;
laser damage;
scattering;
high power laser;
3.
Methods for TEM analysis of NIST's single-walled carbon nanotube Standard Reference Material
机译:
NIST单壁碳纳米管标准参考材料的TEM分析方法
作者:
Elisabeth Mansfield
;
Roy Geiss
;
Jeffrey A. Fagan
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
reference material;
single-walled carbon nanotubes;
TEM;
4.
Surface-sensitive strain analysis of Si/SiGe line structures by Raman and UV-Raman spectroscopy
机译:
Si / SiGe线结构的拉曼光谱和紫外拉曼光谱分析
作者:
Marek Roelke
;
Michael Hecker
;
Peter Hermann
;
David Lehninger
;
Yvonne Ritz
;
Ehrenfried Zschech
;
Victor Vartanian
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
silicon;
strain;
raman spectroscopy;
5.
Photo-reflectance characterization of USJ activation in millisecond annealing
机译:
毫秒退火中USJ激活的光反射特性
作者:
Will Chism
;
Michael Current
;
Victor Vartanian
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
photoreflectance;
ultra-shallow junction;
semiconductor;
spectroscopy;
leakage current;
pre-amorphization anneal;
laser anneal;
flash anneal;
dopant activation;
6.
Front-side Illuminated CMOS Spectral Pixel Response and Modulation Transfer Function Characterization: Impact of Pixel Layout Details and Pixel Depletion Volume
机译:
前端照明CMOS光谱像素响应和调制传递函数表征:像素布局细节和像素耗尽量的影响
作者:
Jonathan D. Bray
;
Lee W. Schumann
;
Terrence S. Lomheim
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
precision spectral spot scanning;
CMOS imager;
modulation transfer function;
7.
193 nm Angle-Resolved Scatterfield Microscope for Semiconductor Metrology
机译:
193 nm角分辨散射场显微镜,用于半导体计量
作者:
Yeung Joon Sohn
;
Richard Quintanilha
;
Bryan M. Barnes
;
Richard M. Silver
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
scatterfield microscopy;
conjugate back focal plane;
angle resolved;
illumination;
8.
Interferometric imaging ellipsometry: fundamental study
机译:
干涉成像椭圆仪:基础研究
作者:
Seichi Sato
;
Shigeru Ando
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
ellipsometry;
imaging ellipsometry;
spectroscopic measurement;
9.
Towards accurate and reproducible metrology of manufactured ZnO nanoparticles
机译:
致力于制造出的ZnO纳米颗粒的精确和可复制的计量
作者:
Victoria A. Coleman
;
Amaud La Fontaine
;
Toni Endmann
;
Asa K. Jaemting
;
Jan Herrmann
;
John Miles
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
ZnO;
nanoparticles;
nanometrology;
dynamic light scattering;
transmission electron microscopy;
10.
Independent measurements of force and position in atomic force microscopy
机译:
原子力显微镜中力和位置的独立测量
作者:
Allison B. Churnside
;
Gavin M. King
;
Thomas T. Perkins
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
atomic force microscopy;
scanning probe microscopy;
force spectroscopy;
single molecule;
11.
Spectral effects of AFM tip geometry
机译:
AFM尖端几何形状的光谱效应
作者:
Cornelius Hahlweg
;
Hendrik Rothe
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
AFM;
tip geometry;
distortion;
spectral effects;
12.
Detecting Molecular Stress in metals
机译:
检测金属中的分子应力
作者:
Eduardo Hernandez-Gomez
;
J. G. Suarez-Romero
;
Juan B. Hurtado-Ramos
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
polarization;
refraction;
ellipsometry;
hardness;
molecular stress;
SAE 1045;
13.
Role of supercontinuum in the fragmentation of colloidal Gold nanoparticles in solution
机译:
超连续谱在溶液中胶态金纳米颗粒破碎中的作用
作者:
Fabian A Videla
;
Gustavo A Torchia
;
Daniel S. Schinca
;
Lucia B Scaffardi
;
Pablo Moreno
;
Cruz Mendez
;
Luis Roso
;
L. Giovanetti
;
Jose Ramallo Lopez
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
fragmentation;
supercontinuum;
gold nanoparticles;
optical extinction;
IR;
TEM;
SAXS;
14.
Imaging comparison of reflection and transmission grating systems
机译:
反射和透射光栅系统的成像比较
作者:
Lingyu Wan
;
Weiping Zhang
;
Qingyi Yang
;
xiaoming Shen
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
bi-grating imaging effect;
transmission grating;
reflection grating;
image information;
15.
Silica Nanoparticle Dispersion Size Measurement Using Dielectrophoresis on a Microfabricated Electrode Array
机译:
在微细加工电极阵列上使用介电电泳法测量二氧化硅纳米颗粒的分散尺寸
作者:
Yi Qiao
;
Jack Lai
;
Dave Hofeldt
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
nanoparticle;
density grating;
electrode array;
refractive index grating;
diffusion coefficient;
particle size characterization;
realtime process monitoring;
16.
Measurement Traceability and Quality Assurance in a Nanomanufacturing Environment
机译:
纳米制造环境中的测量可追溯性和质量保证
作者:
Ndubuisi G. Orji
;
Ronald G. Dixson
;
Aaron Cordes
;
Benjamin D. Bunday
;
John A. Allgair
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
traceability;
metrological timelines;
measurement assurance;
reference measurement system;
17.
Measurement of thickness of native silicon dioxide with a scanning electron microscope
机译:
用扫描电子显微镜测量天然二氧化硅的厚度
作者:
V. P. Gavrilenko
;
Yu. A. Novikov
;
A. V. Rakov
;
P. A. Todua
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
silicon;
silicon dioxide;
native silicon dioxide;
scanning electron microscopy;
18.
A Decade of Commitment from the NIST Manufacturing Engineering Laboratory to Nanomanufacturing and Nanometrology
机译:
NIST制造工程实验室对纳米制造和纳米计量学的十年承诺
作者:
Kevin W. Lyons
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
nanomanufacturing;
nanometrology;
standards;
NIST;
NNI;
interagency working group;
IWG;
19.
Nanoscale dimensional metrology in Russia
机译:
俄罗斯的纳米尺度计量
作者:
V. P. Gavrilenko
;
Yu. A. Novikov
;
A. V. Rakov
;
P. A. Todua
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
nanoscale;
nanometrology;
calibration;
scanning electron microscopy;
atomic force microscopy;
traceability;
standards;
transfer standard;
20.
Sub-Nanometer Resolution for the Inspection of Reflective Surfaces Using White Light
机译:
亚纳米分辨率,用于使用白光检查反射表面
作者:
Werner Jueptner
;
Thorsten Bothe
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
shape;
reflectometry;
white light;
nanometer resolution;
topometry;
freeform;
21.
Nonstandard refraction of light from one-dimensional dielectric quasi- periodic surfaces
机译:
来自一维介电准周期表面的光的非标准折射
作者:
Zu-Han Gu
;
Anting Wang
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
rough surface scattering;
refraction;
designer surface;
meta-materials;
22.
Experimental methods for measurement of the modulation transfer function (MTF) for time-delay-and-integrate (TDI) charge coupled device (CCD) image sensors
机译:
测量时滞积分(TDI)电荷耦合器件(CCD)图像传感器的调制传递函数(MTF)的实验方法
作者:
Bruce M. Lambert
;
Jeffrey M. Harbold
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
23.
An improved phase quadrature correction method by fitting the pesudo quadrature phase difference
机译:
通过拟合伪正交相位差的改进的相位正交校正方法
作者:
Chao-Wen Liang
;
Yung-Sheng Tsai
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
24.
Improved diffraction-based overlay metrology by use of two dimensional array target
机译:
通过使用二维阵列目标改进的基于衍射的叠加计量
作者:
Yi-Sha Ku
;
Hsiu-Lan Pang
;
Weite Hsu
;
Deh-Ming Shyu
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
scatterometry;
diffraction;
periodic structure;
25.
Improvements to Spectral Spot-Scanning Technique for Accurate and Efficient Data Acquisition
机译:
光谱点扫描技术的改进,以实现准确,高效的数据采集
作者:
Jonathan D. Bray
;
Kevin M. Gaab
;
Bruce M. Lambert
;
Terrence S. Lomheim
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
precision spectral spot scanning;
small pixels;
modulation transfer function;
CMOS imager;
confocal microscopy;
non-uniform sampling effects;
responsivity mapping;
26.
High-performance, multi-channel, fiber-based absolute distance measuring interferometer system
机译:
高性能,基于光纤的多通道绝对距离测量干涉仪系统
作者:
Leslie L. Deck
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
27.
Non-linear distortions caused by AFM-tip geometry and limitations of reconstruction on discrete data
机译:
由AFM尖端几何造成的非线性失真以及离散数据重建的局限性
作者:
Cornelius Hahlweg
;
Hendrik Rothe
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing III》
|
2009年
关键词:
AFM;
tactile measurement;
non-linear distortion;
phase-modulation;
frequency-modulation;
inverse problem;
reconstruction;
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