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Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA
Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA
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1.
Insertion of EUVL into high volume manufacturing
机译:
将EUVL插入大批量生产
作者:
Peter J. Silverman
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
EUVL;
manufacturing;
cost;
2.
High accurate CD control at stitching region for Electron Beam Projection Lithography
机译:
电子束投影平版印刷在缝合区的高精度CD控制
作者:
Tomoharu Fujiwara
;
Takeshi Irita
;
Sumito Shimizu
;
Hajime Yamamoto
;
Kazuaki Suzuki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
3.
Vacuum delay effect of CAR in mask fabrication
机译:
CAR在掩模制造中的真空延迟效应
作者:
Chang-Hwan Kim
;
Chan-Uk Jeon
;
Sung-Jae Han
;
Won-Il Cho
;
Sung-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
;
Jung-Min Sohn
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
e-beam;
CAR;
FED;
vacuum delay effect;
VDE;
acetal;
acrylate;
ZEP7000;
4.
Theoretical Calculations of Photoabsorption of Polymers in the EUV (Extreme Ultraviolet) Region
机译:
EUV(极端紫外线)区域中聚合物光吸收的理论计算
作者:
Nobuyuki N. Matsuzawa
;
Shigeo Irie
;
Ei Yano
;
Shinji Okazaki
;
Akihiko Ishitani
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
linear absorption coefficient;
graph-theoretical treatment;
13 nm;
11 nm;
resist-film thickness;
5.
Thermomechanical modeling of the EUV reticle during exposure
机译:
曝光过程中EUV掩模版的热力学建模
作者:
Carl J. Martin
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
EUV reticles;
exposure;
finite elements;
thermomechanical response;
6.
Thick silicon membranes as mask blank for SU-8 X-ray deep lithography
机译:
厚硅膜作为SU-8 X射线深光刻的掩模坯
作者:
Izaque A. Maia
;
Luiz O. S. Ferreira
;
Maria Helena O. Piazzetta
;
Graziele C. Natal
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
X-ray mask;
SU-8;
MEMS;
lithography LIGA;
7.
Technology in the Internet Era
机译:
互联网时代的技术
作者:
Dennis D. Buss
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
internet;
IC;
DSP;
analog;
scaling;
system-on-a-chip;
8.
Studies of Chemically Amplified Deep UV Resists for Electron Beam Lithography Applications
机译:
电子束光刻应用中化学增强型深紫外线抗蚀剂的研究
作者:
H. L. Chen
;
C. K. Hsu
;
B. C. Chen
;
F. H. Ko
;
J. Y. Yang
;
T. Y. Huang
;
T. C. Chu
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron-beam lithography;
chemically amplified deep UV resists;
Dry-etching properties;
9.
Substrate Defect Smoothing of EUVL mask blanks using TaSiN Films
机译:
使用TaSiN膜对EUVL掩模坯料进行基底缺陷平滑处理
作者:
J. Wasson
;
T. Hopson
;
PJ.S. Mangat
;
S. Hector
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
extreme ultra-violet lithography;
EUVL;
multi-layers;
defect;
reticle;
smoothing;
10.
Stitching accuracy measurement system for EB direct writing and electron beam projection lithography (EPL)
机译:
EB直写和电子束投影光刻(EPL)的拼接精度测量系统
作者:
Takao Tamura
;
Takahiro Ema
;
Hiroshi Nozue
;
Tomoya Sugahara
;
Akio Sugano
;
Jun Nitta
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron beam;
direct writing;
EPL;
stitching;
SEM;
11.
Shot number analysis on character projection e-beam lithography for random logic device fabrication at 70nm node
机译:
用于70nm节点上的随机逻辑器件制造的字符投影电子束光刻的镜头数量分析
作者:
Yoichi Tomo
;
Isao Shimizu
;
Yoshinori Kojima
;
AkiraYosMida
;
Hiroshi Takenaka
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
character projection electron-beam lithography;
shot number;
logic device;
aperture;
logic cell;
figure;
cell width;
cell height;
12.
Tunable Anti-Reflective Coatings with Built-in Hard Mask Properties Facilitating Thin Resist Processing
机译:
具有内置硬掩模特性的可调谐抗反射涂层,可促进薄抗蚀处理
作者:
Arpan P. Mahorowala
;
Katherina Babich
;
Karen Petrillo
;
John Simons
;
Marie Angelopoulos
;
Vishnubhai Patel
;
Alfred Grill Scott Halle
;
Richard Conti
;
Chung-Hsi J. Wu
;
Richard Wise
;
Linda Chen
;
Alan Thomas
;
Brian Lee
;
Oliver Genz
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
anti-reflective coating;
ARC;
BARC;
Graded ARC;
hard mask;
deep trench;
contacts;
reflectivity;
CD control;
193 nm resist;
248 nm resist;
thin resist;
PECVD;
oxide etch;
13.
SIMULATIONS OF SCALPEL WAFER-HEATING CORRECTION USING AN ADAPTIVE KALMAN FILTER
机译:
自适应卡尔曼滤波器对松饼晶圆加热校正的模拟
作者:
Stuart Stanton
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
SCALPEL;
lithography;
wafer-heating;
correction;
kalman filter;
14.
Progress on the Realization of the Electron Column Modules for SCALPEL High-Throughput/Alpha Electron Projection Lithography Tools
机译:
SCALPEL高通量/α电子投影光刻工具的电子柱模块的实现进展
作者:
D. Stenkamp
;
O. Kienzle
;
A. Orchowski
;
W. D. Rau
;
A. Weickenmeier
;
G. Benner
;
M. Wetzke
;
W. Waskiewicz
;
V. Katsap
;
X. Zhu H. Liu
;
E. Munro
;
J. A. Rouse
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
SCALPEL;
electron projection lithography;
next generation lithography;
15.
Scaling-up a liquid water jet laser plasma source to high average power for Extreme Ultraviolet Lithography
机译:
将液体水射流激光等离子体源放大至高平均功率,以进行极紫外光刻
作者:
Ulrich Vogt
;
Holger Stiel
;
Ingo Will
;
Marek Wieland
;
Thomas Wilhein
;
Peter V. Nickles
;
Wolfgang Sandner
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
laser produced plasma;
liquid water jet source;
high average power lasers;
16.
TaN EUVL Mask Fabrication and Characterization
机译:
TaN EUVL掩模的制作与表征
作者:
Pei-yang Yan
;
Guojing Zhang
;
Andy Ma
;
Ted Liang
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
17.
The Impact of the EUV mask Phase Response on the Asymmetry of Bossung Curves as Predicted By Rigorous EUV Mask Simulations
机译:
严格的EUV掩模仿真预测,EUV掩模相位响应对Bossung曲线的不对称性的影响
作者:
Christof Krautschik
;
Masaaki Ito
;
Iwao Nishiyama
;
Katsura Otaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV mask;
mask phase response;
bossung curve, rigorous mask modeling;
18.
Production x-ray lithography stepper for 100-nm device fabrication
机译:
用于100 nm器件制造的生产X射线光刻步进机
作者:
Xuan Li
;
Tsutomu Miyatake
;
Sayumi Hirose
;
Masaoki Hirose
;
Kiyoshi Fujii
;
Katsumi Suzuki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
X-ray lithography;
stepper;
vertical stage;
proximity gap;
alignment;
overlay accuracy;
throughput;
handing unit;
19.
Reflecting-surface distortion when mirrors are cut to shape
机译:
镜子切成一定形状时的反射面变形
作者:
Gautam Meda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV;
lithography;
ULE;
mirror;
distortion;
figure change;
20.
Performance of the improved JBX-9000MV e-beam lithography system
机译:
改进的JBX-9000MV电子束光刻系统的性能
作者:
T. Komagata
;
YNakagawa
;
N.Gotoh
;
K.Tanaka
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
21.
Progress of the EUVL alpha tool
机译:
EUVL alpha工具的进展
作者:
Hans Meiling
;
Jos Benschop
;
Udo Dinger
;
Peter Kueirz
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
22.
A Vacuum Spark Point Source for X-ray/EUV Lithography
机译:
用于X射线/ EUV光刻的真空火花点源
作者:
Xiaoming Guo
;
Meisheng Xu
;
Rubin Ye
;
Chaofeng Huang
;
K.W. Wirpszo
;
Emilio Panarella
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
X-rays;
vacuum spark;
radiation emission;
radiation sources;
23.
A High Performance -beam Resist Coupling Excellent Dry Etch Resistance and Sub l00nm Resolution for Advanced Mask and Device Making
机译:
高性能的抗光束耦合技术,具有出色的耐干蚀性和低于100nm的分辨率,可用于高级掩模和器件制造
作者:
Wu-Song Huang
;
Ranee Kwong
;
Wayne Moreau
;
Robert Lang
;
Christopher Robinson
;
David Medeiros
;
Karen Petrillo
;
Ari Aviram
;
Arpan Mahorowala
;
Marie Angelopoulos
;
Christopher Magg
;
Mark Lawliss
;
Thomas Faure
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
24.
A New Registration Technique using Voltage Contrast Images for Low Energy Electron Beam Lithography
机译:
利用电压对比图像进行低能电子束光刻的新配准技术
作者:
Tetsuro Nakasugi
;
Atsushi Ando
;
Kazuyoshi Sugihara
;
Motosuke Miyoshi
;
Katsuya Okumura
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
low-energy;
electron-beam;
registration technique;
mark detection;
voltage contrast;
negative charging;
25.
Optical Lithography at a 126nm Wavelength
机译:
波长为126nm的光学光刻
作者:
Hoyoung Kang
;
Anatoly Bourov
;
BruceW.Smith
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
26.
Advances in Graft Polymerization Lithography
机译:
接枝聚合光刻技术的进展
作者:
Colin J. Brodsky
;
Brian C. Trinque
;
Heather F. Johnson
;
C. Grant Willson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
top surface imaging (TSI);
quartz crystal microbalance (QCM);
graft polymerization;
polymer sorption;
27.
Nanoimprint Lithography with a Commercial 4 Inch Bond System for Hot Embossing
机译:
具有商业4英寸粘合系统的纳米压印光刻技术,用于热压花
作者:
Nils Roos
;
Thomas Luxbacher
;
Thomas Glinsner
;
Karl Pfeiffer
;
Hubert Schulz
;
Hella-C. Schee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
wafer bonder;
nanoimprint;
hot embossing;
lithography;
wafer scale;
fluoroalcyltrichlorosilane;
anti-sticking layer;
28.
Nikon EB Stepper: the latest development status
机译:
尼康EB Stepper:最新开发状况
作者:
Kazuaki Suzuki
;
Tomoharu Fujiwara
;
Kazunari Hada
;
Noriyuki Hirayanagi
;
Shintaro Kawata
;
Kenji Morita
;
Kazuya Okamoto
;
Teruaki Okino
;
Sumito Shimizu
;
Takehisa Yahiro
;
Hajime Yamamoto
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron projection lithography (EPL);
electron beam (EB);
scattering contrast;
stencil reticle;
continuous membrane reticle;
proximity effect correction;
stitching;
29.
Mix and match of nanoimprint and UV lithography
机译:
纳米压印和UV光刻的混合搭配
作者:
Freimut Reuther
;
Karl Pfeiffer
;
Marion Fink
;
Gabi Gruetzner
;
Hubert Schulz
;
Hella-Christin Scheer
;
Freddy Gaboriau
;
Christophe Cardinaud
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
nanoimprint lithography;
NIL;
UV lithography;
mix and match;
chemically amplified resist;
SU-8;
30.
Luminescent Materials for EUV Detection Purposes
机译:
用于EUV检测的发光材料
作者:
Mark Kroon
;
Remko Stuik
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
luminescence;
deep-UV;
extreme-UV;
phosphors;
detection;
efficiency;
31.
In-situ stress measurement of molybdenum/silicon multilayers and low-stress multilayers for extreme ultraviolet lithography
机译:
钼/硅多层和低应力多层的原位应力测量,用于极端紫外光刻
作者:
Masayuki Shiraishi
;
Wakana fehiyama
;
Noriaki Kandaka
;
Tetsuya Oshino
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
in-situ stress measurement;
Mo/Si multilayer;
ion-beam sputtering;
low-stress multilayer;
extreme ultraviolet lithography;
32.
Laser-induced EUV source for optics characterization
机译:
激光诱导的EUV光源用于光学表征
作者:
S. Kranzusch
;
K. Mann
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV optics;
13nm radiation;
laser-induced plasma;
multilayer mirror;
wavefront measurement;
hartmann-shack sensor;
33.
Layer-to-Layer Alignment for Step and Flash Imprint Lithography
机译:
步进和闪光压印光刻的层到层对准
作者:
B. J. Choi
;
M. Meissl
;
M. Colburn
;
T. Bailey
;
P. Ruchhoeft
;
S.V. Sreenivasan
;
F. Prins
;
S. Banerjee
;
J.G. Ekerdt
;
C.G. Willson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
step and flash imprint lithography;
alignment;
overlay;
34.
High-Resolution Proximity Printing by Wave-Optically Designed Masks
机译:
通过波光学设计的掩模进行高分辨率接近印刷
作者:
Ton Nellissen
;
Lingli Wang
;
Maarten Dirkzwager
;
Frank Wyrowski
;
E.-Bernhard Kley
;
Harald Aagendal
;
Sven Buehling
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
photolithography;
proximity printing;
wave-optical mask;
resolution improvement;
35.
Impact of positive ions and effect of lens aberrations in projection electron-beam systems
机译:
投射电子束系统中正离子的影响和透镜像差的影响
作者:
Bo Wu
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
beam blur;
lens aberration;
astigmatism;
stochastic blur;
space charge blur;
stochastic interaction;
neutralization;
36.
Improvement of beam-adjustment accuracy by beam-intensity distribution measurement on a 2nd shaping aperture in electron-beam writing systems
机译:
通过电子束写入系统中第二个成形孔径上的束强度分布测量来提高束调整精度
作者:
Shinsuke Nishimura
;
Munehiro Ogasawara
;
Toru Tojo
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron beam;
electron beam writer;
electron optical system;
beam adjustment;
beam alignment;
illumination;
beam intensity distribution;
shaping;
shaping aperture;
shaping aperture image;
beam current;
beam profile;
triangle beam;
AFM;
resist pattern;
re;
37.
Extreme ultraviolet sources for lithography applications
机译:
用于光刻应用的极紫外光源
作者:
Vadim Banine
;
Roel Moors
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV;
source;
lithography;
38.
Fabrication of a fly-eye mirror for an extreme ultraviolet lithography illumination system
机译:
用于极紫外光刻照明系统的蝇眼镜的制造
作者:
Hideo Takino
;
Teruki Kobayashi
;
Norio Shibata
;
Masaaki Kuki
;
Akinori Itoh
;
Hideki Komatsuda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUVL;
illumination;
fly-eye;
multimirror;
integrator;
fabrication;
polishing;
optics;
metal;
surface;
39.
Fabrication of Patterned Surface Reactivity Templates Using Physisorption of Reactive Species in Solvent-imprinted Nanocavities
机译:
使用溶剂印迹纳米腔中反应性物种的物理吸附法制备带图案的表面反应性模板
作者:
Walter J. Dressick
;
Paul F. Nealey
;
Susan L. Brandow
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
nanocavity;
electroless;
patterning;
ultrathin film;
self-assembly;
physisorption;
interconnects;
metallization;
etchmask;
imaging;
40.
Feasibility Study of EUV Scanners
机译:
EUV扫描仪的可行性研究
作者:
Kazuya Ota
;
Katsuhiko Murakami
;
Hiroyuki Kondo
;
Tetsuya Oshino
;
Katsumi Sugisaki
;
Hideki Komatsuda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
41.
Filter windows for EUV lithography
机译:
过滤EUV光刻的窗口
作者:
Forbes R. Powell
;
Terry A. Johnson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
filters;
filter windows;
extreme-ultraviolet;
soft x-ray;
EUV lithography;
filter transmittance;
42.
First Environmental Data from the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程测试台的第一批环境数据
作者:
L. E. Klebanoff
;
M. E. Malinowski
;
P. Grunow
;
W. M. Clift
;
C. Steinhaus
;
A. H. Leung
;
S. J. Haney
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
contamination;
oxidation;
EUV;
lithography;
43.
Flatness Correction of NZTE Mask Blank Substrates
机译:
NZTE掩模空白基板的平整度校正
作者:
Lutz Aschke
;
Fredi Schubert
;
Joerg Kegeler
;
Axel Schindler
;
Thomas Haensel
;
Konrad Knapp
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUVL;
mask blanks;
ffiF;
NZTE material;
ZERODUR~R;
ULE~R;
flatness;
roughness;
44.
Equivalent Multilayer Bandwidth and Comparison between 13.4 nm and 14.4 nm for EUV Throughput Calculation
机译:
等效多层带宽以及13.4 nm和14.4 nm之间的比较,用于EUV吞吐量计算
作者:
Weilun Chao
;
Eric Gullikson
;
David Attwood
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
Mo/Si;
multilayer;
EUV wavelengths;
reflectivity;
bandwidth;
throughput;
optimization;
EUV lithography;
45.
Characterization of a laser-produced x-ray source with a double-stream gas puff target for x-ray and EUV lithography
机译:
具有用于X射线和EUV光刻的双流气嘴靶的激光产生的X射线源的表征
作者:
Henryk Fiedorowicz
;
Andrzej Bartnik
;
Hiroyuki Daido
;
Roman Jarocki
;
Rafal Rakowski
;
Masayuki Suzuki
;
Miroslaw Szczurek
;
Susumu Yamagami
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
laser applications;
laser-produced plasma;
gas puff target;
x-ray optics;
46.
Compact Z-Pinch EUV Source for Photolithography
机译:
用于光刻的紧凑Z夹EUV光源
作者:
G. Schriever
;
M. Rahe
;
U. Stamm
;
D. Basting
;
O. Khristoforov
;
A. Vinokhodov
;
V. Borisov
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
extreme ultraviolet;
EUV source;
gas discharge source;
Z-pinch;
47.
Combined metrology including vuv spectroscopic ellipsometry and grazing x-ray reflectance for precise characterization of thin films and multilayers at 157nm
机译:
结合计量技术,包括紫外光谱椭圆偏振法和掠射X射线反射率,可精确表征157nm处的薄膜和多层膜
作者:
Pierre Boher
;
Patrick Evrard
;
Jean-Philippe Piel
;
Sylvie Janicot
;
Jean-Louis Stehle
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
spectroscopic ellipsometry;
grazing x-ray reflectance;
157nm;
VUV;
UV lithography;
48.
Development of Data Conversion System for Electron Beam Projection Lithography (EPL) Mask
机译:
电子束投影光刻(EPL)掩模数据转换系统的开发
作者:
Yasuhisa Yamada
;
Hideo Kobinata
;
Takao Tamura
;
Mami Miyasaka
;
Tatsuya Sakamoto
;
Yuzo Ogawa
;
Kenichi Takada
;
Hiroshi Yamashita
;
Hiroshi Nozue
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
49.
Application of Advanced 100-kV EB Writer (EB-X3) for 100-nm Node X-ray Mask Fabrication
机译:
先进的100kV EB写入器(EB-X3)在100nm节点X射线掩模制造中的应用
作者:
Hiroshi Watanabe
;
Yoshinori Nakayama
;
Shinji Tsuboi
;
Mizunori Ezaki
;
Hajime Aoyama
;
Yasuji Matsui
;
Tetsuo Morosawa
;
Masatoshi Oda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
X-ray masks;
image placement;
CD accuracy;
X-ray lithography;
EB mask writer;
100 kV;
50.
CD Control Analysis of the SCALPEL-HT/Alpha Optics
机译:
SCALPEL-HT / Alpha光学系统的CD控制分析
作者:
Stuart Stanton
;
Warren Waskiewicz Eric Munro
;
John Rouse
;
Xieqing Zhu
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
SCALPEL;
critical dimension;
electron optics;
dose-latitude;
51.
Bremsstrahlung Emission and Absorption in Electron Projection Lithography
机译:
电子投影平版印刷中的ms致辐射和吸收
作者:
Scott Hector
;
Jonathan Cobb
;
Vladimir Ivin
;
Mikhail V. Silakov
;
George A. Babushkin
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron projection lithography;
monte carlo modeling;
bremsstrahlung;
radiation damage;
52.
An Infinitely Selective Repair Buffer for EUVL Reticles
机译:
EUVL掩模版的无限选择性修复缓冲液
作者:
J. Wasson
;
K. Smith
;
PJ.S. Mangat
;
S. Hector
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
extreme ultra-violet lithography;
EUVL;
multi-layers;
FIB repair;
reticle;
53.
Damage Resistant and Low Stress EUV Multilayer Mirrors
机译:
防损坏和低应力EUV多层镜
作者:
S. Yulin
;
T. Kuhlmann
;
T. Feigl
;
N. Kaiser
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
Mo/Si;
Mo_2C/Si;
multilayer mirrors;
magnetron sputtering;
EUVL;
NIR;
thermal stability;
residual stress;
54.
PREVAIL - EPL Alpha Tool Electron Optics Subsystem
机译:
PREVAIL-EPL Alpha工具电子光学子系统
作者:
H. C. Pfeiffer
;
R. S. Dhaliwal
;
S. D. Golladay
;
S. K. Doran
;
M. S. Gordon
;
R. A. Kendall
;
J. E. Lieberman
;
D. J. Pinckney
;
R. J. Quickie
;
C. F. Robinson
;
J. D. Rockrohr
;
W. Stickel
;
E. V. Tressler
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
PREVAIL;
next generation lithography (NGL);
electron projection lithography (EPL);
curvilinear variable axis lenses;
large field / large NA e-beam projection optics;
geometric aberration corrections;
55.
Optimal lithium targets for laser-plasma lithography
机译:
激光等离子体光刻的最佳锂靶
作者:
A.A. Andreev
;
T. Ueda
;
J. Limpouch
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
soft x-ray source;
laser-produced plasmas;
debris reduction;
56.
Advanced Point Diffraction Interferometer for EUV Aspherical Mirrors
机译:
用于EUV非球面镜的先进点衍射干涉仪
作者:
Kazuya Ota
;
Takahiro Yamamoto
;
Yusuke Fukuda
;
Katsura Otaki
;
Iwao Nishiyama
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
57.
Adding static printing capabilities to the EUV phase-shifting point diffraction interferometer
机译:
为EUV相移点衍射干涉仪增加静态打印功能
作者:
Patrick Naulleau
;
Kenneth A. Goldberg
;
Erik H. Anderson
;
Phillip Batson
;
Paul Denham
;
Keith Jackson
;
Seno Rekawa
;
Jeffrey Bokor
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
synchrotron radiation;
microfield printing;
EUV diffuser;
decoherentizing illuminator;
58.
Multilayer optics for an extreme ultraviolet lithography tool with 70 nm resolution
机译:
用于70 nm分辨率的极紫外光刻工具的多层光学器件
作者:
Regina Soufli
;
Eberhard Spiller
;
Mark A. Schmidt
;
J. Courtney Davidson
;
R. Frederick Grabner
;
Eric M. Gullikson
;
Benjamin B. Kaufmann
;
Stan Mrowka
;
Sherry L. Baker
;
Henry N. Chapman
;
Russell M. Hudyma
;
John S. Taylor
;
Christopher C. Walton
;
Claude Montcal
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
multilayer optics;
reflectivity;
thickness uniformity;
extreme ultraviolet (EUV) lithography;
59.
New data post-processing for E-beam projection lithography
机译:
电子束投影光刻的新数据后处理
作者:
Kazuya Okamoto
;
Koichi Kamijo
;
Shinichi Kojima
;
Hideyuki Minami
;
Teruaki Okino
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron beam projection lithography (EPL);
electron beam;
data post-processing;
data conversion;
LSI pattern;
proximity effect correction;
space charge effect;
stencil reticle;
complementary reticle;
stitching;
60.
New results in high energy proximity x-ray lithography
机译:
高能近距离X射线光刻技术的新成果
作者:
Mumit Khan
;
Geng Han
;
Juan Maldonado
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
proximity X-ray lithography;
PXL;
61.
Micromachining using a focused MeV proton beam for the production of high precision 3D microstructures with vertical sidewalls of high orthogonality
机译:
使用聚焦的MeV质子束进行微加工,以生产具有高正交性的垂直侧壁的高精度3D微结构
作者:
Jeroen A. van Kan
;
Andrew A. Bettiol
;
K. Ansari
;
Frank Watt
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
micromachining;
high aspect ratio;
nuclear microscope;
proton beam;
electroplating;
3D microstructures;
62.
Laser-Produced Plasma (LPP) Scale-up and Commercialization
机译:
激光产生等离子体(LPP)的规模化和商业化
作者:
Richard H. Moyer
;
Harry Shields
;
Armando Martos
;
Steven W. Fornaca
;
Randall J. St. Pierre
;
Michael B. Petach
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
laser-produced plasmas;
63.
Ion Projection Lithography: Advances with Integrated Tool and Resist Processes
机译:
离子投射光刻:集成工具和抗蚀剂工艺的发展
作者:
Andreas Wolter
;
Rainer Kaesmaier
;
Hans Loeschner
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
next generation lithography;
ion projection lithography;
vacuum wafer stage;
resist process;
64.
High-Resolution and High-Stability Electromagnetic-Deflection Control System for EB Lithography System
机译:
EB光刻系统的高分辨率和高稳定性电磁偏转控制系统
作者:
Koji Nagata
;
Masahide Okumura
;
Kenji Maio
;
Akira Fujii
;
Hiroyoshi Andoh
;
Toshiyuki Morimura
;
Hajime Hayakawa
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron-beam lithography;
electromagnetic deflection;
DAC;
noise;
65.
High accuracy aerial image measurement for electron beam projection lithography
机译:
电子束投影光刻的高精度航拍图像测量
作者:
Takehisa Yahiro
;
Noriyuki Hirayanagi
;
Kenji Morita
;
Takeshi Irita
;
Hajime Yamamoto
;
Shohei Suzuki
;
Hiroyasu Shimizu
;
Shintaro Kawata
;
Teruaki Okino
;
Kazuaki Suzuki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron beam lithography;
electron beam projection lithography (EPL);
EB stepper;
aerial image measurement;
image blur;
knife-edge method;
beam edge profile;
system calibration;
66.
Essential reduction of stitching errors in electron-beam lithography using a multiple exposure technique
机译:
使用多重曝光技术可大幅减少电子束光刻中的缝合误差
作者:
Ralf Steingrueber
;
Herbert Engel
;
Werner Lessle
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
electron-beam lithography;
stitching errors;
multiple exposure;
littrow configuration;
67.
EUV Absorption in a Laser Produced Plasma Source
机译:
激光产生等离子体源中的EUV吸收
作者:
Michael Kanouff
;
Harry Shields
;
Luis Bernardez
;
Glenn Kubiak
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
laser produced plasma (LPP);
gasdynamics;
absorption;
modeling;
68.
Evaluation of Shipley XP2040D positive chemically amplified resist for SCALPEL mask fabrication
机译:
用于SCALPEL掩模制造的Shipley XP2040D正化学放大抗蚀剂评估
作者:
Bing Lu
;
Zorian Masnyj
;
Pawitter Mangat
;
Kevin Nordquist
;
Eric Ainley
;
Doug J. Resnick
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
69.
Characteristics of Ru buffer layer for EUVL mask patterning
机译:
用于EUVL掩模图案化的Ru缓冲层的特性
作者:
B.T. Lee
;
E. Hoshino
;
M. Takahashi
;
T. Yoneda
;
H. Yamanashi
;
H. Hoko
;
A. Chiba
;
M. Ito
;
M.H. Ryoo
;
T. Ogawa
;
S. Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
mask patterning;
ru;
buffer layer;
etching selectivity;
70.
Comparison of Different Source Concepts for EUVL
机译:
EUVL不同来源概念的比较
作者:
Rainer Lebert
;
Klaus Bergmann
;
Larissa Juschkin
;
Oliver Rosier
;
Willi Neff
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV-lithography;
EUV sources;
laser produced plasma;
discharge plasma;
pinch plasma;
71.
Deep X-ray Lithography with the SU-8 Resist
机译:
SU-8 Resist的深层X射线光刻
作者:
Laurence Singleton
;
Alexei L. Bogdanov
;
Serguei S. Peredkov
;
Oliver Wilhelmi
;
Andreas Schneider
;
Carsten Cremers
;
Stephan Megtert
;
Andreas Schmidt
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
LIGA;
deep X-ray lithgraphy;
PMMA;
SU-8;
critical dimension;
synchrotron;
72.
Development of a High Average Power Extreme Ultraviolet Electric Capillary Discharge Source
机译:
高平均功率极紫外电毛细管放电源的研制
作者:
Neal R. Fornaciari
;
Howard Bender
;
Dean Buchenauer
;
Mike Kanouff
;
Steve Karim
;
Glenn D. Kubiak
;
Chris Moen
;
Greg Shimkaveg
;
William T. Silfvast
;
Kenneth D. Stewart
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUVL;
EUV source;
plasma discharge source;
capillary discharge source;
73.
Development of an EUV reflectometer using a single line emission from a laser plasma X-ray source
机译:
使用激光等离子X射线源的单线发射技术开发EUV反射仪
作者:
Noriaki Kandaka
;
Hiroyuki Kondo
;
Katsumi Sugisaki
;
Tetsuya Oshino
;
Masayuki Shiraishi
;
Wakana Ishiyama
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
|
2001年
关键词:
EUV;
reflectometer;
laser-plasma source;
multilayer mirror;
74.
Automated Set-up for Extreme Ultraviolet Mask Lithography : The First Step to Count and Clean in One
机译:
极端紫外线掩模光刻的自动设置:一次计数和清洁的第一步
作者:
Jean Hue
;
Viviane Muffato
;
Catherine Pelle
;
Etienne Quesnel
;
Pierre Garrec
;
Francoise Baume
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
extreme ultra violet lithography;
mask;
defect;
laser cleaning;
blank;
mirror;
light scattering;
75.
An Evaluation and Comparison of the Pattern Transfer Induced Image Placement Distortions on E-beam Projection Lithography Masks
机译:
电子束投影光刻掩模上图案转移引起的图像放置畸变的评估和比较
作者:
Christopher Magg
;
Michael Lercel
;
Mark Lawliss
;
Robin Ackel
;
Neal Caldwell
;
Louis Kindt
;
Kenneth Racette
;
Carey Williams
;
Philip Reu
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
next generation lithography;
electron projection lithography;
membrane, mask;
image placement;
pattern transfer;
pattern density gradients;
stencil;
SCALPEL;
76.
Use of Molecular Oxygen to Reduce EUV-induced Carbon Contamination of Optics
机译:
使用分子氧减少EUV引起的光学碳污染
作者:
M. Malinowski
;
P. Grunow
;
C. Steinhaus
;
M. Clift
;
L. Klebanoff
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
multilayer mirror;
extreme ultraviolet;
carbon deposition;
carbon cleaning with oxygen;
ETS;
77.
Vibrational analysis of 200-mm EPL masks
机译:
200毫米EPL面罩的振动分析
作者:
Andrew R. Mikkelson
;
Cheng-fu Chen
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EPL;
SCALPEL;
finite element;
modal analysis;
mask cleaning;
metrology;
vibrometer;
78.
Tantalum nitride films for the absorber material of reflective-type EUVL mask
机译:
反射型EUVL掩模的吸收体材料用氮化钽膜
作者:
M. Takahashi
;
T. Ogawa
;
E. Hoshino
;
H. Hoko
;
B. T. Lee
;
A. Chiba
;
H. Yamanashi
;
S. Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUVL;
mask;
absorber material;
sputtering;
Ta_xN;
low stress;
amorphous like;
DUV;
reflectivity;
79.
System Integration and Performance of the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程测试台的系统集成和性能
作者:
Daniel A. Tichenor
;
Avijit K. Ray-Chaudhuri
;
William C. Replogle
;
Richard H. Stulen
;
Glenn D. Kubiak
;
Paul D. Rockett
;
Leonard E. Klebanoff
;
Karen L. Jefferson
;
Alvin H. Leungl
;
John B. Wronosky
;
Layton C. Hale
;
Henry N. Chapman
;
John S. Taylor
;
James A. F
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUVL;
lithography;
multilayer coatings;
optical fabrication;
optical design;
laser-produced plasma;
laser plasma source;
maglev;
magnetic levitation;
stages;
precision engineering;
80.
Spectroscopic and energetic investigation of capillary discharges devoted to EUV production for new lithography generation
机译:
用于新一代光刻的专门用于EUV生产的毛细管放电的光谱和高能谱研究
作者:
Eric Robert
;
Branimir Blagojevic
;
Remi Dussart
;
Smruti R. Mohanty
;
Moulay M. Idrissi
;
Dunpin Hong
;
Raymond Viladrosa
;
Jean-Michel Pouvesle
;
Claude Fleurier
;
Christophe Cachoncinlle
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUV lithography;
EUV source;
capillary discharge;
EUV spectroscopy;
EUV xenon source;
EUV lamp;
fast pulser;
81.
Recent Developments in EUV Reflectometry at the Advanced Light Source
机译:
先进光源下EUV反射仪的最新发展
作者:
E. M. Gullikson
;
S. Mrowka
;
B. B. Kaufmann
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUV lithography;
reflectometry;
metrology;
multilayer reflectivity;
82.
Quantifying EUV Imaging Tolerances for the 70,50, and 35 nm Modes through Rigorous Aerial Image Simulations
机译:
通过严格的航空影像模拟量化70,50和35 nm模式的EUV成像公差
作者:
Christof Krautschik
;
Masaaki Ito
;
Iwao Nishiyama
;
Takashi Mori
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
lens aberrations;
CD control;
lens flare;
static lens distortion;
ITRS roadmap;
83.
Progress Toward use of a Dense Plasma Focus as a Light Source for Production EUV Lithography
机译:
使用密集等离子体焦点作为生产EUV光刻的光源方面的进展
作者:
W.N. Partlo
;
I.V. Fomenkov
;
R.M. Ness
;
R.I. Oliver
;
S.T. Melnychuk
;
J.E. Rauch
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUV lithography;
dense plasma focus;
solid state pulse power;
xenon emission;
84.
Extremely fine-pitch printing with a 10x Schwarzschild optic at extreme ultraviolet wavelengths
机译:
使用10倍Schwarzschild光学元件在极紫外波长下进行极细间距的打印
作者:
Michael D. Shumway
;
Sang Hun Lee
;
Chang Hyun Cho
;
Patrick Naulleau
;
Kenneth A. Goldberg
;
Jeffrey Bokor
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUV;
schwarzschild objective;
spatial frequency doubling;
imaging;
85.
Progress in Placement Control for Ion Beam Stencil Mask Technology
机译:
离子束模板掩膜技术的位置控制研究进展
作者:
F.-M. Kamm
;
A. Ehrmann
;
T. Struck
;
K. Kragler
;
J. Butschke
;
F. Letzkus
;
R. Springer
;
E. Haugeneder
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
ion projection lithography;
stencil masks;
placement;
finite element modeling;
stress measurement;
86.
Multiple Anion Nonvolatile Acetal (MANA) Resists
机译:
抗多阴离子非挥发性缩醛(MANA)
作者:
Jeffrey M. Guevremont
;
Robert L. Brainard
;
Scott D. Reeves
;
Xin Zhou
;
Thinh B. Nguyen
;
Joseph F. Mackevich
;
Erik H. Anderson
;
Gary N. Taylor
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
87.
Models for characterizing the printability of buried EUV defects
机译:
表征掩埋EUV缺陷可印刷性的模型
作者:
Yunfei Deng
;
Tom Pistor
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
EUV lithography;
defect printability;
electromagnetic scattering;
image models;
88.
Overlay and Critical Dimension Control in 100-nm ULSI Processes using TaBN X-ray Masks and XRA X-ray Stepper
机译:
使用TaBN X射线掩模和XRA X射线步进器的100 nm ULSI工艺中的重叠和关键尺寸控制
作者:
Kiyoshi Fujii
;
Yuusuke Tanaka
;
Toshiyuki Iwamoto
;
Shinji Tsuboi
;
Hiroaki Sumitani
;
Takao Taguchi
;
Katsumi Suzuki
;
Yasuji Matsui
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies Ⅴ Feb 27-Mar 1, 2001, Santa Clara, USA》
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2001年
关键词:
x-ray lithography;
x-ray mask;
stepper;
overlay;
critical dimension control;
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