掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
计算机、自动化
>
Data Analysis and Modeling for Process Control III
Data Analysis and Modeling for Process Control III
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
自动化博览
传感器世界
微型电脑应用
化学传感器
计算机工程与设计
遥感学报
家庭电子(维修版)
自动识别技术与应用
电脑知识与技术
微型计算机
更多>>
相关外文期刊
Distributed Computing
Redmond developer news
Informatie
Release 1.0
Social network analysis and mining
Evolutionary computation
International Journal of Applied Mathematics and Computer Science
Algorithmica
Artificial intelligence for engineering design, analysis and manufacturing
International Journal of Process Systems Engineering
更多>>
相关中文会议
第十二届全国煤矿自动化学术年会
2003信息化与信息资源管理学术研讨会
中国自动化学会华东六省一市第二十届学术年会
2005中国控制与决策学术年会
中国自动化学会中南六省(区)学术年会
第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)
第六届中国系统建模与仿真技术高层论坛
21世纪信息技术发展战略研讨会
1998年容错及应用研讨会
第三届可信计算与信息安全学术会议
更多>>
相关外文会议
Euro-par 2009 parallel processing
Symposium on Adaptive Agents and Multi-Agent Systems(AAMAS); ;
Advanced Signal Processing Algorithms, Architectures, and Implementations XVI
Proceedings of the 1986 workshop on Applied computing
Recent researches in communications, electronics, signal processing and automatic control
Recent advances in intrusion detection
Foundations of software science and computational structures
Discovery science
Rewriting and typed lambda calculi
2013 12th IEEE International Conference on Trust, Security and Privacy in Computing and Communications
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
Marching to the beat of Moore's Law
机译:
迈向摩尔定律的步伐
作者:
Yan Borodovsky
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
2.
First Look at Across-chip Performance and Process Noise Using Non-Contact, Performance-Based Metrology
机译:
使用基于性能的非接触式计量技术,全面了解跨芯片性能和过程噪声
作者:
Majid Babazadeh
;
Bertr Borot
;
Wim Doedel
;
Jose Estabil
;
Jean Galvier
;
Gloria Johnson
;
Nader Pakdaman
;
Gary Steinbrueck
;
James Vickers
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
across-chip linewidth variation (ACLV);
across-chip variation;
process noise;
in-field uniformity;
in-line metrology;
non-contact probe;
embedded ring oscillator;
DFM;
3.
Full-Field Exposure Control Implications of the Mask Error Function
机译:
掩模误差函数的全场曝光控制含义
作者:
Terrence E. Zavecz
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
MEEF;
MEF;
APC;
lithography;
OPC validation;
resist models;
metrology;
spatial model;
scatterometry;
4.
Spatial Modeling of Micron-Scale Gate Length Variation
机译:
微米级闸门长度变化的空间建模
作者:
Paul Friedberg
;
Willy Cheung
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
spatial correlation;
process control;
gate length variation;
circuit performance;
variability;
5.
Process Influence Study On Optical Model Generation During Model Based OPC Development
机译:
基于模型的OPC开发过程中光学模型生成的过程影响研究
作者:
ChinTeong Lim
;
Vlad Temchenko
;
Woong-Jae Chung
;
Dave Wallis
;
Robert Wildfeuer
;
Uta Mierau
;
Sebastian Schmidt
;
Martin Niehoff
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
6.
Real-time spatial control of steady-state wafer temperature during thermal processing in microlithography
机译:
光刻中热处理过程中稳态晶圆温度的实时空间控制
作者:
Arthur Tay
;
Weng-Khuen Ho
;
Ni Hu
;
Kuen-Yu Tsai
;
Ying Zhou
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
semiconductor manufacturing;
microlithography;
temperature control;
photoresist processing;
7.
Optical anisotropy approach in spectroscopic ellipsometry to determine the CD of contact hole patterns
机译:
椭圆偏振光谱中的光学各向异性方法确定接触孔图案的CD
作者:
Jaisun Kyoung
;
Hyuknyeong Cheon
;
Sangbin Noh
;
Jongkyu Cho
;
Ilsin An
;
Sukjoo Lee
;
Hangu Cho
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
contact hole;
ellipsometry;
anisotropy;
effective medium theory;
8.
Matching Poly Layer ADI and AEI Process Windows by Using ADI Index
机译:
使用ADI索引匹配多图层ADI和AEI处理窗口
作者:
Wenzhan Zhou
;
Zheng Zou
;
Alex See
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
etching;
critical dimension;
process control;
photoresist profile;
APC;
multi-variable model;
9.
Layout Optimization for Multilayer Overlay Targets
机译:
多层叠加目标的布局优化
作者:
L. A. Binns
;
N. P. Smith
;
C. P. Ausschnitt
;
J. Morningstar
;
W. Muth
;
J. Schneider
;
R. Yerdon
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
overlay;
optimization;
simulated annealing;
travelling salesman problem;
10.
Advanced Exposure and Focus Control by Proximity Profile Signature Matching
机译:
通过接近轮廓特征匹配进行高级曝光和聚焦控制
作者:
Wenzhan Zhou
;
Alex See
;
Jin Yu
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
advanced process control;
exposure energy;
focus;
scatterometry;
profile;
proximity;
11.
Application of Integrated Scatterometry Measurements for a Wafer-Level Litho Feed-back Loop in a High-Volume 300mm DRAM Production Environment
机译:
晶片级光刻反馈回路的集成散射测量在大规模300mm DRAM生产环境中的应用
作者:
Uwe Kramer
;
Goeran Fleischer
;
Thomas Marschner
;
Steffen Hornig
;
Heiko Weichert
;
Dave Hetzer
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
process control;
scatterometry;
ODP;
CDU;
correlation;
feed-back loop;
integrated metrology;
12.
Statistical shape analysis applied to microlithography
机译:
统计形状分析应用于微光刻
作者:
Alessra Micheletti
;
Ermes Severgnini
;
Filippo Terragni
;
Mauro Vasconi
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
shape descriptor;
size function;
statistical shape analysis;
13.
Predictive modeling for the management of consumable optics in a lithographic system
机译:
用于光刻系统中的可消耗光学器件管理的预测建模
作者:
Christopher Conley
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
modeling;
optics;
forecasting;
degradation;
availability;
14.
Improvement of OPC Accuracy for 65 nm Node Contact Using KIf
机译:
使用KIf改善65 nm节点接触的OPC精度
作者:
Te Hung Wu
;
C. L. Lin
;
Ming Jui Chen
;
Zen Hsiang Tsai
;
Chen Yu Ao
;
H. C. Thuang
;
Jian Shin Liou
;
Chuen Huei Yang
;
Ling Chieh Lin
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
KIF;
contour simulation;
OPC kernel;
15.
Multivariate Visualization Techniques in Statistical Process Monitoring and Their Applications to Semiconductor Manufacturing
机译:
统计过程监控中的多元可视化技术及其在半导体制造中的应用
作者:
Q. Peter He
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
multivariate visualization;
principal component analysis;
fisher discriminant analysis;
support vector machines;
16.
Hyper NA model validation for the 45nm node
机译:
针对45纳米节点的Hyper NA模型验证
作者:
Shane R. Palmer
;
Min Bai
;
Paul J.M. van Adrichem
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
hyper NA modeling;
model accuracy;
17.
Advanced process control of Poly Silicon Gate Critical Dimensions
机译:
多晶硅栅极关键尺寸的高级过程控制
作者:
P. Rudolph
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
APC;
control;
critical dimensions;
poly gate CD;
18.
Combined use of X-ray reflectometry and spectroscopic ellipsometry for characterization of thin film optical properties
机译:
X射线反射仪和光谱椭圆仪的结合使用可表征薄膜的光学性能
作者:
Jason P. Cain
;
Stephen Robie
;
Qiaolin Zhang
;
Bhanwar Singh
;
Iraj Emami
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
X-ray reflectometry;
spectroscopic ellipsometry;
thin film optical properties;
19.
Design and Use of Multivariate Approach Error Analysis APC System
机译:
多元进近误差分析APC系统的设计与使用
作者:
Jean de Caunes
;
Joost Van-Herk
;
Scott Warrick
;
Bertr Le Gratiet
;
Marc Mikolajczak
;
Jean-Damien Chapon
;
Cedric Monget
;
Jan-Willem Gemmink
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
R2R;
multivariate;
control model;
process model;
feed forward;
feedback;
CD;
overlay;
20.
Evaluation of an Advanced Process Control Solution to detect Wafer Positioning Issues within the Hot and Cold Plate Modules of a Lithography Track
机译:
评估先进工艺控制解决方案以检测光刻路线的热板和冷板模块中的晶圆定位问题
作者:
Olivier GUILLAUME
;
Marc BOUCHARDY
;
Louis-Pierre ARMELLIN
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
APC;
FDC;
lithography;
tilt;
plate;
21.
Dry-etch proximity function for model-based OPC beyond 65-nm node
机译:
干蚀刻接近功能,用于基于模型的OPC超过65 nm节点
作者:
Shunichiro Sato
;
Ken Ozawa
;
Fumikatsu Uesawa
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
dry-etch;
micro-loading effect;
modeling;
OPC;
22.
Alignment Performance Monitoring for ASML systems
机译:
ASML系统的对齐性能监控
作者:
Woong-Jae Chung
;
Vlad Temchenko
;
Tarja Hauck
;
Sebastian Schmidt
会议名称:
《Data Analysis and Modeling for Process Control III》
|
2006年
关键词:
ASML;
AWE;
overlay;
alignment;
意见反馈
回到顶部
回到首页