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Advances in metrology for X-ray and EUV optics V
Advances in metrology for X-ray and EUV optics V
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1.
A new optical head tracing reflected light for nanoprofiler
机译:
新型用于纳米轮廓仪的光学头跟踪反射光
作者:
K. Okuda
;
K. Okita
;
Y. Tokuta
;
T. Kitayama
;
M. Nakano
;
R. Kudo
;
K. Yamamura
;
K. Endo
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Profiler;
Direct measurement;
Ultraprecise mirror;
Slope error;
Piezoelectric actuator;
2.
The developmental long trace profiler (DLTP) optimized for metrology of side-facing optics at the ALS
机译:
开发性长迹线轮廓仪(DLTP),针对ALS侧面光学器件的计量进行了优化
作者:
Ian Lacey
;
Nikolay A. Artemiev
;
Edward E. Domning
;
Wayne R. McKinney
;
Gregory Y. Morrison
;
Simon A. Morton
;
Brian V. Smith
;
Valeriy V Yashchuk
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Surface Metrology;
long trace profiler;
surface slope measurement;
x-ray optics;
large measurement range;
accuracy;
stability;
nanoradian repeatability;
synchrotron radiation;
3.
Ultra-high-precision surface processing techniques for nanofocusing ellipsoidal mirrors in hard x-ray region
机译:
硬x射线区域中纳米聚焦椭球面镜的超高精度表面处理技术
作者:
Hirokatsu Yumoto
;
Takahisa Koyama
;
Satoshi Matsuyama
;
Kazuto Yamauchi
;
Haruhiko Ohashi
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Ultra-high-precision surface processing technique;
ellipsoidal mirror;
nanofocusing;
x-ray optics;
computer-controlled figure correction;
surface roughness;
4.
A reflectometer for at-wavelength characterization of XUV-reflection gratings
机译:
用于XUV反射光栅的波长表征的反射仪
作者:
F. Eggenstein
;
P. Bischoff
;
A. Gaupp
;
F. Senf
;
A. Sokolov
;
T. Zeschke
;
F. Schaefers
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
XUV-radiation;
reflectometer;
at-wavelength metrology;
synchrotron radiation;
polarization;
reflection gratings;
5.
An extreme ultraviolet interferometer suitable to generate dense interference pattern
机译:
适用于产生密集干涉图样的极紫外干涉仪
作者:
K. Kolacek
;
J. Schmidt
;
J. Straus
;
O. Frolov
;
V. Prukner
;
R. Melich
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Extreme ultraviolet interferometer;
aspheric interferometer mirrors;
multilayer reflection coating for 46.9 run;
Ar~(8+) laser application;
Ne-like Ar laser application;
6.
Pushing the limits - latest developments in angle metrology for the inspection of ultra-precise synchrotron optics
机译:
超越极限-用于超精密同步加速器光学检查的角度计量学的最新进展
作者:
Tanfer Yandayan
;
Ralf D. Geckeler
;
Frank Siewert
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Angle metrology;
autocollimators;
profilometers;
SR optics;
SI unit radian;
X-Ray and EUV Optics;
XFEL-optics;
form measurement;
7.
Design of a Precision Two-Dimensional Tip-Tilting Stage System for Autocollimator-based Long Trace Profiler Angular Calibration
机译:
基于自动准直仪的长轨迹轮廓仪角度校准的精密二维倾斜平台系统设计
作者:
D. Shu
;
J. Qian
;
W. Liu
;
S. Kearney
;
J. Anton
;
J. Sullivan
;
L. Assoufid
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
x-ray optics;
long trace profiler;
precision motion control;
8.
An XUV Optics Beamline at BESSY Ⅱ
机译:
BESSYⅡ的XUV光学光束线
作者:
A.A. Sokolov
;
F. Eggenstein
;
A. Erko
;
R. Follath
;
S. Kuenstner
;
M. Mast
;
J.S. Schmidt
;
F. Senf
;
F. Siewert
;
Th. Zeschke
;
F. Schaefers
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
At-wavelength metrology;
UV;
EUV;
VUV;
XUV;
reflection gratings;
reflectometry;
polarimetry;
synchrotron instrumentation;
9.
Upgrade of surface profiler for X-ray mirror at SPring-8
机译:
在SPring-8上升级X射线镜的表面轮廓仪
作者:
Y. Senba
;
H. Kishimoto
;
T. Miura
;
H. Ohashi
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Long trace profiler;
Fizeau interferometer;
gravitational deformation;
optical metrology;
synchrotron radiation;
10.
Design consideration for nano-accuracy long trace profiler at BSRF
机译:
BSRF上的纳米精度长轨迹轮廓仪的设计考虑
作者:
Fugui Yang
;
Lichao Wang
;
Shanzhi Tang
;
Qiushi Wang
;
Ming Li
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
LTP;
optical metrology;
X-ray optics;
mirror;
beam positioning;
error reduction;
11.
At-wavelength Metrology of X-ray Optics at Diamond Light Source
机译:
金刚石光源的X射线光学器件的波长计量
作者:
Hongchang Wang
;
Sebastien Berujon
;
John Sutter
;
Simon G. Alcock
;
Kawal Sawhney
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Metrology;
at-wavelength;
in-situ characterization;
grating interferometry;
near field speckle;
synchrotron radiation;
12.
Experimental results for absolute cylindrical wavefront testing
机译:
绝对圆柱波前测试的实验结果
作者:
Patrick J. Reardon
;
Ayshah Alatawi
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
surface metrology;
interferometer;
free-form optic;
cylindrical optics;
absolute measurement;
fiber optic reference;
random ball test;
13.
Angular calibration of surface slope measuring profilers with a bendable mirror
机译:
用可弯曲反射镜对表面坡度测量轮廓仪进行角度校准
作者:
Nikolay A. Artemiev
;
Brian V. Smith
;
Edward E. Domning
;
Ken P. Chow
;
Ian Lacey
;
Valeriy V. Yashchuk
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
Systematic error;
long trace profiler;
metrology of X-ray optics;
bendable mirrors;
characteristic function;
regression analysis;
synchrotron radiation;
14.
A new X-ray optics laboratory (XROL) at the ALS: Mission, arrangement, metrology capabilities, performance, and future plans
机译:
ALS的新X射线光学实验室(XROL):任务,布置,计量能力,性能和未来计划
作者:
Valeriy V. Yashchuk
;
Nikolay A. Artemiev
;
Ian Lacey
;
Wayne R. McKinney
;
Howard A. Padmore
会议名称:
《Advances in metrology for X-ray and EUV optics V》
|
2014年
关键词:
x-ray optics;
optical metrology;
surface slope profilometry;
LTP;
surface interferometry;
microscopy;
error reduction;
calibration;
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