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Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths
Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths
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1.
Calculation of x-ray refraction from near-edge absorption data only
机译:
仅从近边缘吸收数据计算X射线折射
作者:
Chris Jacobsen
;
Steve Wang
;
Wenbing Yun
;
Sean Frigo
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
kramers-kronig;
anomalous dispersion;
XANES;
NEXAFS;
2.
Direct index of refraction measurement of silicon and ruthenium at EUV wavelengths
机译:
在EUV波长下直接测量硅和钌的折射率
作者:
Kristine Rosfjord
;
Chang Chang
;
David Attwood
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
silicon;
ruthenium;
index of refraction;
interferometry;
EUV;
3.
Determination of optical properties of titanium dioxide thin films on different substrates by using spectroscopic ellipsometry
机译:
椭圆偏振光谱法测定不同基材上二氧化钛薄膜的光学性能
作者:
Hyun Jong Kim
;
Yong Jai Cho
;
Hyun Mo Cho
;
Won Chegal
;
Yun Woo Lee
;
Sang Youl Kim
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
vacuum ultraviolet spectroscopic ellipsometry;
titanium dioxide;
refractive index;
extinction coefficient;
optical band gap;
generalized tauc-lorentz (GTL) model;
4.
Determining Ruthenium's Optical Constants in the Spectral Range 11-14 nm
机译:
在11-14 nm光谱范围内测定钌的光学常数
作者:
L. J. Bissell
;
D. D. Allred
;
R. S. Turley
;
W. R. Evans
;
J. E. Johnson
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
Ru;
multilayers;
reflectance;
index of refraction;
extreme ultraviolet (EUV) lithography;
advanced light source;
5.
First-principles ultraviolet and x-ray spectra over broad ranges
机译:
第一性原理,紫外和X射线光谱范围广
作者:
Eric L. Shirley
;
J. A. Soininen
;
J. J. Rehr
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
BeO;
bethe-salpeter;
first-principles;
LiF;
MgO;
optical constants;
Si;
x-ray absorption spectrum;
6.
Extreme ultraviolet optical constants for the design and fabrication of multilayer-coated gratings
机译:
用于多层镀膜光栅设计和制造的极紫外光学常数
作者:
J. Seely
;
L. Goray
;
D. Windt
;
B. Kjornrattanawanich
;
Y. Uspenskii
;
A. Vinogradov
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
multilayer coatings;
diffraction gratings;
extreme ultraviolet;
x-ray optics;
7.
Zirconium and niobium transmission data at wavelengths from 11-16 nm and 200-1200 nm
机译:
锆和铌传输数据在11-16 nm和200-1200 nm的波长下
作者:
Terry A. Johnson
;
Regina Soufli
;
Eric M. Gullikson
;
Miles Clift
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
optical filters;
optical constants;
zirconium;
niobium;
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
8.
Iridium optical constants from synchrotron reflectance measurements over 0.05- to 12-keV x-ray energies
机译:
在0.05至12 keV X射线能量下通过同步加速器反射率测量得到的铱光学常数
作者:
D.E. Graessle
;
R. Soufli
;
A.J. Nelson
;
C.L. Evans
;
A.L. Aquila
;
E.M. Gullikson
;
R.L. Blake
;
A.J. Burek
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
iridium;
optical constants;
synchrotron radiation;
reflectance;
x-rays;
chandra X-ray observatory;
9.
Improved techniques for measuring x-ray mass attenuation coefficients
机译:
测量X射线质量衰减系数的改进技术
作者:
Martin D. de Jonge
;
Chanh Q. Tran
;
Christopher T. Chantler
;
Zwi Barnea
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
mass attenuation coefficient;
atomic form factor;
XERT;
10.
Measurements of the Optical Constants of Scandium in the 50-1300eV Range
机译:
在50-1300eV范围内测量dium的光学常数
作者:
A. L. Aquila
;
F. Salmassi
;
E. M. Gullikson
;
F. Eriksson
;
J. Birch
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
index of refraction;
EUV;
soft x-ray;
Sc;
11.
Measurement of the optical constants of Sc films in the extreme ultraviolet
机译:
极紫外光下Sc膜的光学常数的测量
作者:
Jose A. Aznarez
;
Juan I. Larruquert
;
Jose A. Mendez
;
Sara Covini
;
rea M. Malvezzi
;
Luca Poletto
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
extreme ultraviolet;
far ultraviolet;
optical constants;
absorption filters;
optical properties of thin films;
12.
Rocket Extreme ultraviolet Grating Spectrometer (EGS): Calibrations and results of the solar irradiance on February 8, 2002
机译:
火箭极紫外光栅光谱仪(EGS):2002年2月8日的太阳辐照度的校准和结果
作者:
Phillip C. Chamberlin
;
Thomas N. Woods
;
Francis G. Eparvier
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
calibration;
spectrometer;
solar;
EUV;
multiple orders;
13.
Spectral signatures and optic coefficients of surface and reservoir shales and limestones at COIL, CO_2 and Nd:YAG laser wavelengths
机译:
在COIL,CO_2和Nd:YAG激光波长下表面和储层页岩和石灰石的光谱特征和光学系数
作者:
El Tahir Bailo
;
Ramona M. Graves
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
spectroscopy;
absorption;
reflectance;
laser/rock interaction;
shales;
limestones;
14.
Angle-dependent total electron yield spectra in multilayer films for standing wave measurements
机译:
用于驻波测量的多层膜中与角度相关的总电子产率谱
作者:
Takeo EJIMA
;
Yasuji MURAMATSU
;
Hisataka TAKENAKA
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
angle-dependence;
total electron yield;
TEY;
multilayer;
standing wave;
fluorescence;
interface;
15.
An assessment of yttrium optical constants in the EUV using Mo/Y multilayers designed as linear polarizers
机译:
使用设计为线性偏振器的Mo / Y多层膜评估EUV中的钇光学常数
作者:
B. Kjornrattanawanich
;
R. Soufli
;
S. Bajt
;
D. L. Windt
;
J. F. Seely
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
16.
High-accuracy VUV reflectometry at selectable sample temperatures
机译:
可选样品温度下的高精度VUV反射仪
作者:
Alexer Gottwald
;
Udo Kroth
;
M. Letz
;
Hendrik Schoeppe
;
Mathias Richter
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
reflectometry;
optical constants;
vacuum-ultraviolet radiation;
17.
Measuring Optical Constants from the UV to X-ray Wavelengths; how it was (and is) done
机译:
测量从紫外线到X射线波长的光学常数;它是怎么做的
作者:
William R. Hunter
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
18.
Optical Properties and Application of Uranium-based Thin Films for the Extreme Ultraviolet and Soft X-ray Region
机译:
极紫外和软X射线区域铀基薄膜的光学性质及应用
作者:
Richard L. Sberg
;
David D. Allred
;
Shannon Lunt
;
Marie K. Urry
;
R. Steven Turley
会议名称:
《Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths》
|
2004年
关键词:
soft x-ray;
EUV;
low-angle reflector;
nickel;
uranium oxide;
uranium nitride;
synchrotron;
EUV/soft X-ray astronomy;
optical constants;
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