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11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
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1.
Two-dimensional photomask standards calibration
机译:
二维光掩模标准校准
作者:
Wolfgang Haessler-Grohne
;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
;
Braunschweig
;
Federal Republic of Germany
;
Hans-Helmut Paul
;
Leica GmbH
;
Wetzlar
;
Federal Republic of Germany.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
2.
Reflective masks for 1X deep ultraviolet lithography
机译:
用于1倍深紫外光刻的反光罩
作者:
Robert L. Hsieh
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Julienne Y. Lee
;
Stanford Univ.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Nadim I. Maluf
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Raymond Browning
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Paul Jerabek
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
3.
Reticle defect sizing and printability
机译:
标线缺陷尺寸和可印刷性
作者:
Brian J. Grenon
;
IBM/General Technology Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Karen D. Badger
;
IBM/General Technology Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Michael J. Trybendis
;
IBM/General Technology Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
4.
Phase-shifting mask design tool
机译:
相移掩模设计工具
作者:
David M. Newmark
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
5.
Advanced e-beam lithography system in producing high-quality reticle for 64M-DRAM
机译:
先进的电子束光刻系统,可生产用于64M-DRAM的高质量标线
作者:
Katsuhiro Kawasaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Katsuta-shi
;
Ibaraki-ken
;
Japan
;
Kazumitsu Nakamura
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Katsuta
;
Ibaraki
;
Japan
;
Takashi Matsuzaka
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroya Ohta
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Norio Saitou
;
H
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
6.
Next generation laser-based mask repair tool
机译:
下一代基于激光的面罩修复工具
作者:
John M. OConnor
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA
;
Zbigniew M. Drozdowicz
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA
;
James K. Tison
;
Quantronix Corp.
;
Smithtown
;
NY
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
7.
Lithography process improvements using 'bag-in-a-bottle' chemical packaging and delivery system
机译:
使用“瓶装袋”化学包装和输送系统改进光刻工艺
作者:
Joshua Waldman
;
Now Technologies
;
Inc.
;
Minneapolis
;
MN
;
USA
;
Rick Wilson
;
Now Technologies
;
Inc.
;
Minneapolis
;
MN
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
8.
Improved performance of a CORE-2100 through a joint development program
机译:
通过联合开发计划提高了CORE-2100的性能
作者:
Brett Schafman
;
ATEQ Corp.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Claudia H. Geller
;
ATEQ Corp.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
C.E. Franks
;
Micro Mask
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
9.
Issues associated with the commercialization of phase-shift masks
机译:
与相移掩模商业化相关的问题
作者:
John L. Nistler
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Martindale
;
TX
;
USA
;
Gregory P. Hughes
;
DuPont Photomasks
;
Wilton
;
CT
;
USA
;
Andrew Muray
;
ETEC Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
James N. Wiley
;
KLA Instruments Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
10.
Evolution of the photomask industry
机译:
光掩模行业的发展
作者:
A.T. White
;
LSI Logic Corp. of Canada
;
Inc.
;
Calgary
;
Alberta
;
Canada.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
11.
Economic survival in the '90s
机译:
90年代的经济生存
作者:
James W. Giffin
;
GTech Enterprises
;
Keller
;
TX
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
12.
Comparison of reflective mask technologies for soft x-ray projection lithography
机译:
软X射线投影光刻的反射掩模技术比较
作者:
Donald M. Tennant
;
ATT Bell Labs.
;
Holmdel
;
NJ
;
USA
;
John E. Bjorkholm
;
ATT Bell Labs.
;
Holmdel
;
NJ
;
USA
;
Ludwig Eichner
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Richard R. Freeman
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Tanya E. Jewell
;
ATT Bell
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
13.
Evaluation of practical properties of a spin-on-glass for a shifter of phase-shift masks
机译:
评估用于相移掩模移位器的旋转玻璃的实用性能
作者:
Hiroyuki Miyashita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Koh-ichi Mikami
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hisatake Sano
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
14.
Continuous-slope phase-shift transition
机译:
连续斜率相移过渡
作者:
Anton K. Pfau
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Edward W. Scheckler
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
David M. Newmark
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Be
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
15.
Discriminating submicron lithography process variations with a white light confocal scanning optical microscope
机译:
用白光共聚焦扫描光学显微镜分辨亚微米光刻工艺的变化
作者:
Frank S. Menagh
;
Technical Instrument Co.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Guoquing Xiao
;
Technical Instrument Co.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Mircea V. Dusa
;
Seeq Technology
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
16.
Automated critical dimension and registration communication
机译:
自动化关键尺寸和注册沟通
作者:
Paul DePesa
;
Diamon Images
;
Los Gatos
;
CA
;
USA
;
Todd E. Pegelow
;
Transcription Enterprises Ltd.
;
Los Gatos
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
17.
Alternative to die-to-database mask inspection
机译:
管芯到数据库掩模检查的替代方法
作者:
Parkson Chen
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
18.
Zero-bias PBS process for 5X reticles
机译:
零偏PBS工艺适用于5X标线
作者:
Regine G. Tarascon
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Christophe Pierrat
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Mike Stohl
;
ATT Bell Labs.
;
Coopersburg
;
PA
;
USA
;
Christopher P. Braun
;
ATT Bell Labs.
;
Bath
;
PA
;
USA
;
J.Burdorf
;
ATT Bell Labs.
;
New
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
19.
Specifying phase-shift mask image quality parameters
机译:
指定相移掩模图像质量参数
作者:
Peter D. Buck
;
ATEQ Corp.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Michael L. Rieger
;
ATEQ Corp.
;
Beaverton
;
OR
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
20.
Positional errors due to substrate charging in e-beam lithography tools
机译:
由于电子束光刻工具中的基板充电而导致的位置误差
作者:
Maris A. Sturans
;
IBM/General Technology Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Jacek G. Smolinski
;
IBM/General Technology Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Jeffrey A. Robinson
;
IBM/General Technology Div.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
21.
Printability of pellicle defects in DUV 0.5-um lithography
机译:
Dum 0.5-um平版印刷中的防护膜缺陷可印刷性
作者:
Pei-yang Yan
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Michael S. Yeung
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Henry T. Gaw
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
22.
Organizational dynamics and the pursuit of total quality
机译:
组织动力和对整体质量的追求
作者:
Dennis M. Bradley
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
23.
Pattern generator specification for phase-shift 5X reticles
机译:
5X相移掩模版的码型发生器规范
作者:
Jacques Trotel
;
European Lithography Innovation SA
;
Les Ulis Cedex
;
France.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
24.
Optimization of real phase-mask performance
机译:
优化实际相位掩模性能
作者:
Franklin M. Schellenberg
;
IBM/Almaden Research Ctr.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Marc D. Levenson
;
IBM/Almaden Research Ctr.
;
Saratoga
;
CA
;
USA
;
Phillip J. Brock
;
IBM/Almaden Research Ctr.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
25.
New look at incoming pellicle inspection
机译:
防护膜检查的新外观
作者:
Robert W. Murphy
;
Apex Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
James A. Reynolds
;
Reynolds Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
26.
Focusing on continuous improvement
机译:
专注于持续改进
作者:
Ord Elliott
;
Ord Elliot Enterprises
;
Woodside
;
CA
;
USA.
会议名称:
《11th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
1991年
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