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12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management
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1.
Understanding CD error sources in optical mask processing
机译:
了解光罩处理中的CD错误源
作者:
Peter D. Buck
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
2.
Simple method for rim shifter design: the biased self-aligned rim shifter
机译:
移圈器设计的简单方法:偏置自对准移圈器
作者:
Chris A. Mack
;
FINLE Technologies
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
3.
Performance data from the EBES4 high-speed reticle generator
机译:
来自EBES4高速掩模版生成器的性能数据
作者:
D.C. Fowlis
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Darryl W. Peters
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
C.M. Rose
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
A.R. von Neida
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Herbert A. Waggener
;
Lepton
;
Inc.
;
New Providence
;
NJ
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
4.
New a
机译:
新的
作者:
An Tran
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Christine K. Clevenger
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
5.
Interferometer for phase measurements in phase-shift masks
机译:
用于相移掩模中相位测量的干涉仪
作者:
Derek B. Dove
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
T.C. Chieu
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Amalkumar P. Ghosh
;
IBM Corp.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
6.
Chrome dry-etching for photomask fabrication
机译:
铬干蚀刻用于光掩模制造
作者:
Warren W. Flack
;
TRW
;
Inc.
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Ken E. Tokunaga
;
TRW
;
Inc.
;
Redondo Beach
;
CA
;
USA
;
Kenneth D. Edwards
;
TRW
;
Inc.
;
Los Angeles
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
7.
Defect reduction methodologies: pellicle yield improvement
机译:
减少缺陷的方法:提高防护膜产量
作者:
Susan V. Daugherty
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
8.
Alignment technique for second-level exposure of phase-shifting masks using 10-kV raster-scan electron-beam lithography system
机译:
使用10 kV光栅扫描电子束光刻系统对相移掩模进行二级曝光的对准技术
作者:
Frank E. Abboud
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Jorge L. Freyer
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Andrew Muray
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Robert J. Naber
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
John T. Poreda
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Ha
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
9.
Application of laser scatterometry to characterize phase-shifting masks
机译:
激光散射仪在表征相移掩模中的应用
作者:
Author(s): Susan M. Wilson Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA
;
Gary A. Peterson Jr. Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA
;
S.S. Naqvi Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA
;
John R. McNeil Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
10.
Real and imaginary phase-shifting masks
机译:
实数和虚数相移掩模
作者:
Franklin M. Schellenberg
;
IBM Almaden Research Ctr.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Marc D. Levenson
;
IBM Almaden Research Ctr.
;
Saratoga
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
11.
Vector modeling of defects and defect repair for phase-shifting masks
机译:
相移掩模的缺陷矢量建模和缺陷修复
作者:
Kevin D. Lucas
;
Carnegie Mellon Univ.
;
Pittsburgh
;
PA
;
USA
;
Andrzej J. Strojwas
;
Carnegie Mellon Univ.
;
Pittsburgh
;
PA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
12.
Application of laser scatterometry to characterize phase-shifting masks,
机译:
激光散射法在表征相移掩模方面的应用,
作者:
Susan M. Wilson
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Gary A. Peterson
;
Jr.
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
S.S. Naqvi
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
John R. McNeil
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
13.
Status of x-ray mask inspection and repair
机译:
X射线口罩检查和维修状态
作者:
Steven C. Nash
;
IBM Federal Systems Co.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
James P. Levin
;
IBM Federal Systems Co.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
O.De Hodgins
;
IBM Federal Systems Co.
;
East Fishkill
;
NY
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
14.
Status and trends of laser mask-repair technologies
机译:
激光掩模修复技术的现状与趋势
作者:
James K. Tison
;
Quantronix Corp.
;
Smithtown
;
NY
;
USA
;
John M. OConnor
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
15.
Rational argument for the impracticability of 1x reticles
机译:
1x掩膜版不切实际的理性论证
作者:
Geraint Owen
;
Hewlett-Packard Co.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
R.F. Pease
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Nadim I. Maluf
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Robert L. Hsieh
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Jun Ye
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
C.N. Be
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
16.
Performance and perspective of the newly developed high-accuracy mask-making EB lithography system JBX-7000MV designed for 64M DRAM production
机译:
新开发的用于64M DRAM生产的高精度掩模制造EB光刻系统JBX-7000MV的性能和前景
作者:
Tadashi Komagata
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Hitoshi Takemura
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Nobou Goto
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Ron Espeseth
;
JEOL USA
;
Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Michael H. Shearer
;
JEOL USA
;
Inc.
;
Peabody
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
17.
Performance testing and results of the first Etec CORE-2564
机译:
首个Etec CORE-2564的性能测试和结果
作者:
C.E. Franks
;
Hoya Micro Mask
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Asao Shikata
;
Hoya Micro Mask
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Cathy A. Baker
;
Hoya Micro Mask
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
18.
Point-of-use laser inspection
机译:
使用点激光检查
作者:
Mimi Koehler
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
19.
Primary processes in e-beam and laser lithographies for phase-shift mask manufacturing II
机译:
电子束和激光光刻中用于相移掩模制造的主要过程II
作者:
Masaaki Kurihara
;
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Masumi Arai
;
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroshi Fujita
;
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hisashi Moro-oka
;
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
;
Saitama-ken
;
Japan
;
Yo
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
20.
Printability of particles on 5x reticles
机译:
颗粒在5倍标线上的可印刷性
作者:
Robert W. Murphy
;
Apex Lithography Services
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
David Flesberg
;
Hoya Micro Mask
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Terrence W. Reilly
;
Hitachi Scientific Instruments
;
Mountain View
;
CA
;
USA
;
James A. Reynolds
;
Reynolds Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
21.
Optimizing continuous improvement in the semiconductor industry
机译:
优化半导体行业的持续改进
作者:
Patrick Reilly
;
Council for Continuous Improvement
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
22.
New role of high-sensitivity database inspection
机译:
高灵敏度数据库检查的新作用
作者:
Rosanne LaVoy
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
23.
Implications of 64-MB reticle specifications on metrology tool requirements
机译:
64 MB标线片规格对计量工具要求的影响
作者:
Bert Plambeck
;
SiScan Systems
;
Inc.
;
Campbell
;
CA
;
USA
;
Scott Landstrom
;
SiScan Systems
;
Inc.
;
Campbell
;
CA
;
USA
;
Barry Rockwell
;
Photronics
;
Inc.
;
Milpitas
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
24.
Initial manufacturing performance of an actively controlled PBS resist development process
机译:
主动控制的PBS抗蚀剂显影工艺的初始制造性能
作者:
Anthony E. Novembre
;
ATT Bell Labs.
;
Union
;
NJ
;
USA
;
Regine G. Tarascon
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Larry F. Thompson
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Wallace T. Tang
;
Laserlith Corp.
;
Warren
;
NJ
;
USA
;
C.O. Tange
;
Laserlith Corp.
;
Warr
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
25.
Edge effects in phase-shifting masks for 0.25-um lithography
机译:
用于0.25um光刻的相移掩模的边缘效应
作者:
Alfred K. Wong
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
26.
Coherence probe metrology for phase-shift masks: initial results
机译:
相移掩模的相干探针计量:初步结果
作者:
Mark A. Neil
;
KLA Instruments Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Robert J. Monteverde
;
KLA Instruments Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Stephen Kirkish
;
KLA Instruments Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
27.
Bottom-line empowerment: lessons from the firing line
机译:
底线授权:射击线的教训
作者:
J.P. Miller
;
J.P. Miller Associates
;
Northville
;
NY
;
USA.
会议名称:
《12th Annual BACUS Symp on Photomask Technology and Management》
|
1992年
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