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5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium
5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium
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1.
Dry Cleaning of Organic Contamination on Silicon Wafers Using Rapid Optical Surface Treatment
机译:
使用快速光学表面处理干洗硅晶片上的有机污染物
作者:
A. Danel
;
N. Rochat
;
M. Olivier
;
A. Roche
;
F. Tardif
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
contamination;
organic;
2.
From Piranha to Barracuda: Mechanism of Ozone and Water Vapor Photoresist Strip in a Wet Bench
机译:
从食人鱼到梭子鱼:湿台中臭氧和水蒸气光致抗蚀剂剥离的机理
作者:
T. Riedel
;
K. Wolke
;
S. De Gendt
;
B. Onsia
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
organic removal;
ozone;
stripping;
vapor;
3.
Electrochemical Study for the Characterization of Wet Silicon Oxide Surfaces
机译:
湿法氧化硅表面表征的电化学研究
作者:
V. Bertagna
;
R. Erre
;
F. Rouelle
;
M. Chemla
;
S. Petitdidier
;
D. Levy
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
impedance;
oxide;
silicon;
4.
New Method to Generate the High Concentration Ozonated Water by Using the Ultrapure Water of the Semiconductor Factory
机译:
利用半导体工厂的超纯水生产高浓度臭氧水的新方法
作者:
Makoto Miyamoto
;
Izumi Oya
;
Seiji Noda
;
Masaki Kuzumoto
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
electrification;
hollow fiber module;
ozonated water;
resistivity;
5.
A Controlled Deposition of Organic Contamination and the Removal with Ozone Based Cleanings
机译:
控制性沉积有机污染物并用臭氧基清洁剂去除
作者:
M. Claes
;
S. De Gendt
;
C. Kenens
;
T. Conard
;
H. Bender
;
W. Storm
;
T. Bauer
;
S. Lagrange
;
P. Mertens
;
M.M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
MIR-FTIR;
organic contamination;
ozone cleaning;
ToF-SIMS;
6.
Non-Contact Post Cu CMP Cleaning Using Megasonic Energy
机译:
使用超音速能量进行非接触式Cu Cu CMP清洁
作者:
W. Fyen
;
J. Lauerhaas
;
I. Vos
;
M. Meuris
;
P. Mertens
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
Cu;
megasonics;
post Cu CMP cleaning;
7.
Novel Back Side Processes for Copper and Pre-Lithography Cleans
机译:
铜和光刻前清洗的新型背面工艺
作者:
Brian Aegerter
;
Sebastien Lagrange
;
Curt Dundas
;
Patrick Van Doorne
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
back side clean;
capsule~(TM);
copper (Cu);
ozone;
single side clean;
single wafer;
8.
Pattern Dependent Corrosion Effects in HF Based Post Cu CMP Cleanings
机译:
基于HF的后Cu CMP清洗中取决于图案的腐蚀作用
作者:
W. Fyen
;
I. Teerlinck
;
S. Lagrange
;
S.H. Brongersma
;
A. Steegen
;
P. Mertens
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
corrosion;
hf;
post Cu CMP cleaning;
9.
A Novel Rinsing Tank Concept to Save Dl Water Using an Internal Recirculation Flow: 'Circle Stream Rinser'
机译:
一种新颖的冲洗水箱概念,可通过内部再循环流来节省去离子水:“循环水冲洗器”
作者:
F. Tardif
;
F. de Bourmont
;
T. Vareine
;
V. Oravec
;
A. Di Martino
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cost reduction;
environment;
rinsing;
simulation;
10.
A Hydrogenated Water Application to Semiconductor Manufacturing
机译:
氢化水在半导体制造中的应用
作者:
Ikunori Yokoi
;
Geun-Min Choi
;
Yoshio Yamazaki
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
copper (Cu);
hydrogenated ultrapure water (H_2-UPW);
oxidation;
oxidation-reduction potential (ORP);
11.
Photo Resist Stripping Using an Alkaline Accelerator Containing Wet-Vapor
机译:
使用包含湿蒸汽的碱性促进剂进行光刻胶剥离
作者:
Toshikazu Abe
;
Senri Ojima
;
Takahisa Nitta
;
Nobuhiro Miki
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
alkaline accelerator;
high dose ion implantation;
resist removal;
Wet-Vapor;
12.
A Probe of Chemical Oxide Growth Conditions
机译:
化学氧化物生长条件的探讨
作者:
Larry W. Shive
;
Claire Frey
;
Carissima Vitus
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
photo-thermal reflection spectroscopy;
silicon dioxide;
stress;
13.
Particle Removal Efficiency Evaluation at 40 nm Using Haze Particle Standard
机译:
使用霾颗粒标准品评估40 nm处的颗粒去除效率
作者:
Seong Ho Yoo
;
Benjamin Y.H. Liu
;
James Sun
;
Natraj Narayanswami
;
Gregory Thomes
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
haze;
wafer cleaning;
wafer scanner;
14.
Preparation and Characterization of Time Dependent Haze on Silicon Surfaces
机译:
硅表面时变雾度的制备与表征
作者:
N. Muenter
;
B.O. Kolbesen
;
W. Storm
;
T. Mueller
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
adhesion;
contamination;
pulsed force mode;
15.
Silicon Wafer Cleaning Processes Monitoring by the Surface Charge Profiler Method
机译:
通过表面电荷分析仪方法监控硅晶圆清洗过程
作者:
A. Danel
;
P. Besson
;
T. Lardin
;
F. Tardif
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
contamination;
monitoring;
16.
Post Copper CMP: a Two Steps Cleaning Recipe
机译:
铜CMP后:两步清洁配方
作者:
A. Beverina
;
J.M. Fabbri
;
D. Levy
;
F. Tardif
;
P. Besson
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
CMP;
copper (Cu);
17.
Rinsing and Drying Effects on Heterogeneous Substrates
机译:
漂洗和干燥对异质基材的影响
作者:
W. Fyen
;
R. Vos
;
K. Devriendt
;
M. Meuris
;
P. Mertens
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
drying;
heterogeneous substrate;
post-CMP cleaning;
rinsing;
18.
Structural and Electrical Characterization of Ultra-Thin SiO_2 Films Prepared by Catalytic Oxidation Method
机译:
催化氧化法制备超薄SiO_2薄膜的结构和电学表征
作者:
Akira Izumi
;
Manabu Kudo
;
Hideki Matsumura
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
low temperature;
oxidation;
ultra thin SiO_2;
19.
Single Chemistry Cleaning Solution for Advanced Wafer Cleaning
机译:
用于高级晶圆清洗的单一化学清洗解决方案
作者:
R. Vos
;
O. Doll
;
A. Fester
;
B.O. Kolbesen
;
M. Lux
;
K. Kenis
;
B. Onsia
;
S. Degendt
;
E. Schellkes
;
Z. Hatcher
;
P. Mertens
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
ARM;
complexing agents;
metal contamination;
SC1;
20.
The Origins of Fluorine in Dry Ultrathin Silicon Oxides
机译:
干燥超薄氧化硅中氟的来源
作者:
G. Vereecke
;
E. Roehr
;
R.J. Carter
;
T. Conard
;
H. De Witte
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
fluorine contamination;
subsurface fluorine;
ultrathin silicon oxides;
21.
The Evolution of Chemical Oxides Into Ultrathin Oxides: A Spectroscopic Characterization
机译:
化学氧化物演变成超薄氧化物的光谱表征
作者:
J. Eng
;
R.L. Opila
;
J.M. Rosamilia
;
B.J. Sapjeta
;
Y.J. Chabal
;
T. Boone
;
R. Masaitis
;
T. Sorsch
;
M. L. Green
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
spectroscopy;
ultrathin silicon oxides;
wet chemical oxides;
22.
The Role of Oxidant in HF-Based Solution for Noble Metal Removal from Substrate
机译:
氧化剂在HF基溶液中去除基底上贵金属的作用
作者:
Geun-Min Choi
;
Ikunori Yokoi
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
FOM (HF/O_3);
FPM (HF/H_2O_2);
metallic impurity;
removal efficiency;
23.
Wet Preparation of Defect-Free Hydrogen-Terminated Silicon Wafer Surface and Its Characterization in Atomic-Scale
机译:
无缺陷氢封端硅晶片表面的湿法制备及其原子尺度表征
作者:
Takayuki Takahagi
;
Shoso Shingubara
;
Hiroyuki Sakaue
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
24.
Application of Megasonic Single Wafer Cleaning Technology to LSI Mass Production Line
机译:
Megasonic单晶圆清洗技术在LSI大规模生产线中的应用
作者:
Yutaka Shimada
;
Hiroshi Itou
;
Yoshiaki Ishii
;
Tatsumi Shirasu
;
Akihiro Tomozawa
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
25.
Contamination and Cleaning of Oxide Areas Exposed During Copper CMP in Hydroxylamine Based Slurries
机译:
羟胺基浆料中铜CMP期间暴露的氧化区域的污染和清洁
作者:
C. Shang
;
W. Huang
;
S. Raghavan
;
Z. Chen
;
R. Small
;
M. Peterson
;
J. Jeon
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
chemical mechanical planarization;
contamination;
copper (Cu);
hydroxylamine;
26.
Use of Surfactants for Improved Particle Performance of dHF-Based Cleaning Recipes
机译:
使用表面活性剂改善基于dHF的清洁配方的颗粒性能
作者:
R. Vos
;
K. Xu
;
M. Lux
;
W. Fyen
;
R. Singh
;
Z. Chen
;
P. Mertens
;
Z. Hatcher
;
M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
hydrophobic interactions;
particle removal efficiency;
surface charge;
27.
Wet Cleaning of Trenches and Vias after Oxide/Nitride Dry Etch with Cu Exposed
机译:
暴露于铜的氧化物/氮化物干法刻蚀后,对沟槽和通孔进行湿法清洁
作者:
Steven Verhaverbeke
;
Jason Chi-Hao Shao
;
Lewis Liu
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
Cu clean;
post dry etch cleaning;
via cleaning;
28.
Control of Ozonated Water Cleaning Process for Photoresist Removal
机译:
去除光阻剂的臭氧水清洗工艺的控制
作者:
Sang Woo Lim
;
Christopher E.D. Chidsey
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
ozone decomposition;
photoresist removal;
rrocess optimization;
29.
Characterization of Dl Water/O_3 Oxidation of Si (100) and Si (111) Surfaces by OCP Measurements
机译:
通过OCP测量表征Si(100)和Si(111)表面的去离子水/ O_3氧化
作者:
H.F. Okorn-Schmidt
;
C. DEmic
;
R. Murphy
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
OCR;
ozone;
roughness;
30.
Detection and Identification of Organic Contamination on Silicon Substrates
机译:
硅基板上有机污染物的检测和鉴定
作者:
A. Roche
;
S. Marthon
;
J.F. Pie
;
N. Rochat
;
A. Danel
;
M. Olivier
;
M. Juhel
;
F. Tardif
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
characterisation;
organic;
31.
Controlling Silicon Surface Roughness During Photochemical Cleaning
机译:
在光化学清洗过程中控制硅表面粗糙度
作者:
Jeffery W. Butterbaugh
;
Brent Schwab
;
Thomas Sorsch
;
Martin L. Green
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dry cleaning;
silicon roughness;
UV/Chlorine;
32.
Effect of Copper on the Breakthrough Voltage of Poly-Si - Poly-Si Capacitors
机译:
铜对多晶硅电容器的击穿电压的影响
作者:
M. Boehringer
;
J.E. Pillion
;
V. Erdmann
;
M. Rygula
;
K. Winz
;
P. Brauchle
;
D. Aquino
;
H. Zhang
;
J. Zahka
;
G. Zielonka
;
J. Hauber
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
copper (Cu);
hydrofluoric acid;
polysilicon;
33.
Electronic Properties of Wet-Chemically Prepared Oxide Layers
机译:
湿化学制备的氧化物层的电子性质
作者:
H. Angermann
;
W. Henrion
;
M. Rebien
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
interface state density;
spectroscopic ellipsometry (SE);
wet chemical oxides;
34.
Influence of Cleaning on the Quality of the Bonding Interface in Direct Bonded Silicon Wafers
机译:
清洗对直接键合硅片键合界面质量的影响
作者:
W.A. Nevin
;
D.L. Gay
;
G. ONeill
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
impurity gettering;
silicon bonding;
Si-Si interface;
35.
Iron Bulk Concentration Effect on the Yield Reliability of Thin Oxides
机译:
铁体积浓度对薄氧化物产率和可靠性的影响
作者:
Kah Keen Lai
;
Chee Kong Leong
;
Hwee Ling Yeo
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
l_(dd) (off-state standby current;
j factor (current density in a/cm~2), q_(bd) (charge to breakdown);
36.
Megasonic, Non-Contact Cleaning Followed by 'Rotagoni' Drying of CMP Wafers
机译:
Megasonic,非接触式清洗,然后对CMP晶圆进行“ Rotagoni”干燥
作者:
Jeff Lauerhaas
;
Paul W. Mertens
;
Tom Nicolosi
;
Karine Kenis
;
Wim Fyen
;
Marc Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
drying;
megasonics;
rotagoni;
37.
Layer-By-Layer Oxidation of Silicon
机译:
硅的逐层氧化
作者:
T. Hattori
;
K. Takahashi
;
H. Nohira
;
T. Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
38.
Metal Wet Cleaning with No Corrosion: A Novel Approach
机译:
无腐蚀的金属湿法清洁:一种新颖的方法
作者:
Francesco Pipia
;
Geun-Min Choi
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
etch rate;
metal;
particle removal;
wet cleaning;
39.
Megasonic Silicon Wafer Cleaning and Its Influence on LSI Devices
机译:
Megasonic硅晶圆清洗及其对LSI器件的影响
作者:
Akihiro Tomozawa
;
Akihiro Ohnishi
;
Hideo Kinoshita
;
Takashi Nakano
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
megasonics;
schlieren method;
single wafer cleaning;
40.
Modification of Low-K SiCOH Film Porosity by a HF Solution
机译:
HF溶液对低K SiCOH薄膜孔隙率的改性
作者:
D. Shamiryan
;
M. R. Baklanov
;
G. Verenckee
;
S. Vanhaelemeersch
;
K. Maex
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
low-k material;
porosity;
41.
Materials Compatibility and Organic Build-Up during Ozone-Based Cleaning of Semiconductor Devices
机译:
半导体器件基于臭氧的清洁过程中的材料相容性和有机堆积
作者:
F. De Smedt
;
S. De Gendt
;
M.M. Heyns
;
C. Vinckier
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
carboxylic acids;
ion-chromatography;
organic;
ozone;
semiconductor cleaning;
42.
Effect of Surface Charge and Fluid Properties on Particle Removal Characteristics of a Surface-Optimized REB Filter
机译:
表面电荷和流体性质对表面优化的REB过滤器颗粒去除特性的影响
作者:
Wayne P. Kelly
;
Donald C. Grant
;
Joseph Zahka
;
Wayne Huang
;
Srini Raghavan
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
filters;
retention;
zeta potential;
43.
New Single Wafer Double Sided Spin Cleaning Method
机译:
新的单晶圆双面旋转清洗方法
作者:
Walter Starflinger
;
Reinhard Sellmer
;
Stefan Detterbeck
;
Alfred Lechner
;
Joerg Leberzammer
;
Hans-Juergen Kruwinus
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
DHF/DI-O_3;
spin process;
wafer cleaning;
44.
Particle Removal Mechanism of Hydrogenated Ultrapure Water with Megasonic Irradiation
机译:
超音速辐射去除加氢超纯水的颗粒机理
作者:
Hiroshi Morita
;
Jun-ichi Ida
;
Osamu Ota
;
Kazumi Tsukamoto
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
hydrogenated ultrapure water;
particle removal mechanism;
surplus radical model;
45.
Particle Deposition Studies in Acidic Solutions
机译:
酸性溶液中的颗粒沉积研究
作者:
D. Martin Knotter
;
Yolaine Dumesnil
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
electrostatic double layer;
megasonics;
particle removal;
46.
Pre-Diffusion Cleaning Using Ozone and HF
机译:
使用臭氧和氟化氢进行扩散前清洁
作者:
Eric J. Bergman
;
Sebastien Lagrange
;
Martine Claes
;
Stefan De Gendt
;
Erika Roehr
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
clean;
ozone;
pre-diffusion;
47.
Optimisations of SC-1 Conditions for Sub 0.18μm Technologies in an Industrial Environment
机译:
适用于工业环境中0.18μm以下技术的SC-1条件的优化
作者:
S. Petitdidier
;
H. Bernard
;
E. Bellandi
;
F. Landa
;
H. Shirakawa
;
D. Levy
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
COPs;
SC-1;
silicon consumption;
48.
SC-1 Clean Improvements for Post STI CMP
机译:
SC-1后STI CMP的SC-1清洁改进
作者:
Kenneth McAvey
;
Andrew Hoadley
;
Chad Binkerd
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
CMP cleaning;
megasonics;
STI;
49.
Post SiN Etching Cleaning During Copper and Low K Integration
机译:
铜和低K集成期间的SiN蚀刻后清洁
作者:
A. Beverina
;
D. Louis
;
C. Arvet
;
E. Lajoinie
;
P. Besson
;
C. Peyne
;
D. Holmes
;
D. Maloney
;
S. Lee
;
W.M. Lee
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
copper (Cu);
low k;
50.
Reduced Water Consumption for Post Clean Treatment and Metal Ion Contamination on VLSI Structures
机译:
减少了VLSI结构上的后清洁处理和金属离子污染的耗水量
作者:
Robert Small
;
Zhefei Chen
;
Cherry Wang
;
Becky Hon
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
51.
Silicon Surface Cleaning after Spacer Dry Etching
机译:
垫片干法刻蚀后的硅表面清洁
作者:
Denis Shamiryan
;
Mikhail Baklanov
;
Serge Vanhaelemeersch
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
ellipsometry;
post dry etch cleaning;
spacer etching;
52.
Surface Characterization after Different Wet Chemical Cleans
机译:
不同湿化学清洗后的表面特性
作者:
M. Claes
;
E. Roehr
;
T. Conard
;
F. De Smedt
;
S. De Gendt
;
W. Storm
;
T. Bauer
;
P. Mertens
;
M.M. Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
ozone cleaning;
surface characterization;
ToF-SIMS;
XPS;
53.
The Ozone Solubility and its Decay in Aqueous Solutions: Crucial Issues in Ozonated Chemistries for Semiconductor Cleaning
机译:
臭氧的溶解度及其在水溶液中的衰减:臭氧清洁化学中用于半导体清洗的关键问题
作者:
F. De Smedt
;
S. De Gendt
;
M.M. Heyns
;
C. Vinckier
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
decomposition;
kinetics;
ozone;
semiconductor cleaning;
solubility;
54.
Synchronous Schlieren Image Analysis of Megasonic Single Wafer Cleaning
机译:
兆声波单晶片清洗的同步Schlieren图像分析
作者:
Takashi Azuma
;
Akihiro Tomozawa
;
Hideo Kinoshita
;
Shin-ichiro Umemura
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
lamb wave;
megasonics;
schlieren method;
55.
The Effect of Ion Implantation on the Metal Contamination of Silicon Surfaces in Aqueous Solution
机译:
离子注入对水溶液中硅表面金属污染的影响
作者:
Lee M. Loewenstein
;
Paul Mertens
;
Marc Heyns
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
56.
The Effect of Dl Water and Intermediate Rinse Solutions on Post Metal Etch Residue Removal Using Semi-Aqueous Cleaning Chemistries
机译:
去离子水和中间冲洗溶液对使用半水清洗化学去除金属后蚀刻残留物的影响
作者:
Simon J. Kirk
;
Robert Small
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
corrosion;
Dl water rinsing;
semi-aqueous cleaning;
57.
Wettability Modification of Polysilicon for Stiction Reduction in Silicon Based Micro-electromechanical Structures
机译:
硅的微机电结构中用于减少静摩擦力的多晶硅的润湿性改性
作者:
Angeles Marcia Almanza-Workman
;
Srini Raghavan
;
Pierre Deymier
;
David J. Monk
;
Ray Roop
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
polysilicon;
self-assembled monolayers;
stiction;
water dispersible silanes;
58.
An Exploration on the Bridge Formation Mechanism of Cylindrical Storage Poly-Silicon by Water Marks in High Performance 4Gigabit DRAM Capacitor
机译:
高性能4Gb DRAM电容器中通过水印形成圆柱形存储多晶硅的桥形成机理的探讨
作者:
Kuntack Lee
;
Woogwan Shim
;
Hyungho Ko
;
Hoyoung Kim
;
Yongpil Han
;
Sangrock Hah
;
Jootae Moon
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
capacitor;
DRAMs;
water marks;
59.
Behaviors of Metallic Contaminants in Si Wafer Processing
机译:
硅晶片加工中金属污染物的行为
作者:
Joong S. Jeon
;
Stefan De Gandt
;
Srini Raghavan
;
Marcia Almanza-Workman
;
Cynthia Gonsalves
;
Bob Ogle
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
Co;
contamination;
Fe;
lifetime;
metal;
Ni;
oxide;
Ti;
60.
Chemical Processing and Materials Compatibility of High-K Dielectric Materials for Advanced Gate Stacks
机译:
先进栅堆叠的高K介电材料的化学处理和材料兼容性
作者:
J.J. Guan
;
G.W. Gale
;
G. Bersuker
;
M. Jackson
;
H.R. Huff
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
chemical processing;
gate stack;
high k dielectrics;
MOSFET;
61.
Characterization and Production Metrology of Thin Transistor Gate Dielectric Films
机译:
薄晶体管栅介质膜的表征和生产计量
作者:
William Chism
;
Alain Diebold
;
Jesse Canterbury
;
Curt Richter
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dispersion models;
ellipsometry;
gate dielectrics;
62.
Defects and Contamination in Microelectronic Device Production: State-of-the-Art and Prospects
机译:
微电子器件生产中的缺陷和污染:最新技术和前景
作者:
B.O. Kolbesen
;
H. Cerva
;
G. Zoth
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dislocation;
DRAMs;
electrical failures;
extended crystalline defects;
material specifications;
metal contamination;
metal precipitates;
physical analysis;
process chemicals;
process optimization;
stacking fault;
transmission electron microscopy TEM;
63.
Dual Gate Oxide for 0.18μm Technologies and Below: Optimization of the Wet Processing Sequence
机译:
适用于0.18μm及以下技术的双栅氧化层:湿法工艺顺序的优化
作者:
D. Levy
;
S. Petitdidier
;
H. Bernard
;
F. Guyader
;
C. Dezauzier
;
C. Pizzetti
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dual gate oxide;
overetch;
wet cleaning;
64.
Determination of Photoresist Degradation Products in O_3/DI Processing
机译:
O_3 / DI处理中光致抗蚀剂降解产物的测定
作者:
H. Vankerckhoven
;
F. De Smedt
;
B. Van Herp
;
M. Claes
;
S. De Gendt
;
M.M. Heyns
;
C. Vinckier
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
carboxylic acids;
ion chromatography;
ozone;
photoresist;
semiconductor cleaning;
65.
Barium, Strontium and Bismuth Contamination in CMOS Processes
机译:
CMOS工艺中的钡,锶和铋污染
作者:
H. Boubekeur
;
T. Mikolajick
;
J. Hoepfner
;
C. Dehm
;
W. Pamler
;
J. Steiner
;
G. Kilian
;
B.O. Kolbesen
;
A. Bauer
;
L. Frey
;
H. Ryssel
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
FeRAMs;
high-K DRAMs;
metal contamination;
66.
Effect of Chemical Oxides Formed During Pre-Gate Oxide Cleaning on the Properties of Sub 20 Thick Ultra -Thin Stack Gate Dielectrics
机译:
预栅极氧化物清洁过程中形成的化学氧化物对20微米以下超薄叠栅栅极电介质性能的影响
作者:
Joong S. Jeon
;
Bob Ogle
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
chemical oxide;
cleaning;
CV;
leakage current;
RTCVD;
stack gate dielectrics;
67.
Investigation of Trace Metals Analyses of Dry Residue on Silicon Wafer Surfaces by TXRF and ICP-MS
机译:
用TXRF和ICP-MS研究硅晶片表面干燥残留物的痕量金属分析
作者:
J. Wang
;
M. Balazs
;
P. Pianetta
;
K. Baur
;
S. Brennan
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dry residue;
ICP-MS;
SR-TXRF;
TXRF;
VPD;
wafer surface;
68.
Improved Phosphoric Acid Mixtures for Nitride Strip
机译:
氮化物带的改良磷酸混合物
作者:
R. Vos
;
M. Lux
;
T. Conard
;
H. De Witte
;
Paul Mertens
;
M. Heyns
;
Z. Hatcher
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
nitride etch selectivity;
oxide etch selectivity;
particle removal;
wafer cleaning;
69.
Gap States at the Interface of Ultra-Thin Oxide and Organic Films on Si(100)
机译:
Si(100)上超薄氧化物与有机膜界面的能隙状态
作者:
T. Bitzer
;
T. Rada
;
N.V. Richardson
;
T. Dittrich
;
F. Koch
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
dap states;
organic film/silicon interface;
ultra-thin oxide;
70.
Influence of Boron and Fluorine Incorporation on the Network Structure of Ultrathin SiO_2
机译:
硼和氟的掺入对超薄SiO_2网络结构的影响
作者:
Seiichi Miyazaki
;
Kohichi Morino
;
Masataka Hirose
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
impurity pileup;
SiO_2/Si interface;
structural relaxation;
71.
Low Consumption Front End of the Line Cleaning: LC-FEOL
机译:
低能耗生产线前端清洁:LC-FEOL
作者:
P. Besson
;
C. Cowache
;
J.M. Fabbri
;
F. Tardif
;
A. Beverina
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
cleaning;
megasonics;
silicon consumption;
72.
New Insights into Particle Adhesion
机译:
颗粒附着力的新见解
作者:
Sean Eichenlaub
;
Kevin Cooper
;
Anand Gupta
;
Stephen Beaudoin
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
73.
New Aqueous Clean for Aluminum Interconnects: Part I. Fundamentals
机译:
铝互连件的新型水性清洁剂:第一部分。基础
作者:
D.L. Rath
;
R. Ravikumar
;
D.J. Delehanty
;
R.G. Filippi
;
E.W. Kiewra
;
G. Stojakovic
;
K.J. McCullough
;
D.D. Miura
;
B.N. Rhoads
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
aqueous acid;
DRAMs;
galvanic corrosion;
passivation;
post Al RIE clean;
74.
New Aqueous Clean for Aluminum Interconnects: Part II. Applications
机译:
铝互连的新型水性清洁剂:第二部分。应用领域
作者:
R. Ravikumar
;
D.L. Rath
;
D.J. Delehanty
;
R.G. Filippi
;
E.W. Kiewra
;
G. Stojakovic
;
K.J. McCullough
;
D.D. Miura
;
J. Gambino
;
F. Schnabel
;
B.N. Rhoads
会议名称:
《5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS), 5th, Sep 18-20, 2000, Ostend, Belgium》
|
2000年
关键词:
post Al RIE clean;
reliability;
via clean;
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