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Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.
Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.
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1.
Particle and uv-imaging with position sensitive mcp-detectors - three-dimensional momentum space imaging
机译:
带有位置敏感mcp探测器的粒子和uv成像-三维动量空间成像
作者:
V. mergel
;
O. Jagutzki
;
L. Spielberger
;
K. Ullmann-Pfleger
;
R. Dorner
;
H. Schmidt-Bocking
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
2.
Real time observation of material deformation processes by synchrotron white beam X-ray topography
机译:
通过同步加速器白束X射线形貌实时观察材料变形过程
作者:
Z. B. Zhao
;
J. Hershberger
;
Z. U. Rek
;
J. C. Bilello
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
3.
Real-time feedback control of thermal Cl_2 etching of GaAs based on in-situ spectroscopic ellipsometry
机译:
基于原位光谱椭偏仪的GaAs热Cl_2刻蚀的实时反馈控制
作者:
T. Parent
;
R. Heitz
;
P. Chen
;
A. Madhukar
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
4.
Rotating-compensator multichannel ellipsometry: applications in process development for nanocrystalline diamond thin films
机译:
旋转补偿器多通道椭圆偏振法:在纳米晶金刚石薄膜工艺开发中的应用
作者:
R. W. Collins
;
Joungchel LEE
;
P. I. Rovira
;
Ilsin AN
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
5.
Spectral-component monitoring of the plumes generated during the deposition of re(y,Nd) Ba_2Cu_3O_(7-x) films by pulsed laser ablation
机译:
脉冲激光烧蚀沉积re(y,Nd)Ba_2Cu_3O_(7-x)薄膜过程中产生的羽流的光谱成分监测
作者:
R. Biggers
;
C. Varanasi
;
I. Maartense
;
D. Dempsey
;
D. Mast
;
D. Liptak
;
J. Jones
;
T.L. Peterson
;
T. Murray
;
J. Busbee
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
6.
In-situ diagnostics at high pressures: ellipsometric and rheed studies of the growth of YBa_2Cu_3O_7
机译:
高压原位诊断:YBa_2Cu_3O_7生长的椭偏和恒变研究
作者:
Dave H. A. Blank
;
Horst Rogalla
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
7.
In situ characterization of functional organic thin films by energy dispersive grazing incidence x-ray diffraction
机译:
能量色散掠入射x射线衍射原位表征功能有机薄膜
作者:
Yuji Yoshida
;
Hiroshi Takiguchi
;
Nobutaka Tanigaki
;
Kiyoshi Yase
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
8.
Infrared emission spectra of indium phosphide at elevated temperatures
机译:
高温下磷化铟的红外发射光谱
作者:
H. Rogne
;
P. J. Timans
;
H. Ahmed
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
9.
Closed-loop control of mbe using an integrated multi-sensor system
机译:
使用集成的多传感器系统对mbe进行闭环控制
作者:
John A. Roth
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
10.
Diode-laser-based atomic absorption monitors for physical vapor deposition process control
机译:
基于二极管激光的原子吸收监测器,用于物理气相沉积过程控制
作者:
Weizhi Wang
;
R. H. Hammond
;
M. M. Fejer
;
M. R. Beasley
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
11.
Effect of current distribution on quartz crystal microbalance measurements
机译:
电流分布对石英晶体微量天平测量的影响
作者:
James J. Kelly
;
Christopher
;
J. Durning
;
Alan C. West
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
12.
Atomic-scale analysis of laser mbe growth of oxide thin films by in situ rheed and caiciss
机译:
原位Rhee和Caiciss原子尺度分析激光薄膜生长的MBE
作者:
M. Yoshimoto
;
T. Ohnishi
;
G-H. Lee
;
K. Sasaki
;
H. Maruta
;
H. Koinuma
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
13.
Spectroscopic determination of C_2 densities in Ar/H_2/CH_4 and Ar/H_2/C_(60) microwave plasmas for nanocrystalline diamond synthesis
机译:
光谱法测定纳米晶金刚石合成中Ar / H_2 / CH_4和Ar / H_2 / C_(60)微波等离子体中C_2的密度
作者:
A.N. Goyette
;
J.E. Lawler
;
L.W. Anderson
;
D.M. Gruen
;
T.G. McCauley
;
D. Zhou
;
A.R. Krauss
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
14.
In situ and ex situ ellipsometric characterization of oxygen plasma and uv radiation effects on spacecraft materials
机译:
氧等离子体和紫外辐射对航天器材料的原位和异位椭圆表征
作者:
C.L. Bungay
;
T.E. Tiwald
;
M.J. DeVries
;
B.J. Dworak
;
John A. Woollam
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
15.
Growth of La_(2-x)Sr_xCuO_4 and La_2CuO_(4+ delta ) thin films by reactive coevaporation
机译:
通过反应共蒸发生长La_(2-x)Sr_xCuO_4和La_2CuO_(4+ delta)薄膜
作者:
H. Sato
;
H. Yamamoto
;
M. Naito
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
16.
In situ monitoring of the effects of gas mixtures on ion beam depositions of diamond-like carbon films
机译:
原位监测气体混合物对类金刚石碳膜离子束沉积的影响
作者:
R. L. C. Wu
;
W. Lanter
;
R. Monreal
;
P. B. Kosel
;
K. Miyoshi
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
17.
In situ ftir spectroscopic detection of adsorbed species on sapphire substrates in a diamond ecr-pacvd system
机译:
在钻石ecr-pacvd系统中原位红外光谱检测蓝宝石衬底上的吸附物质
作者:
F. Shahedipour
;
S. Zhu
;
H. W. White
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
18.
Characterization of a solid-source delivery system for metal organic chemical vapor deposition by in-situ laser reflectance
机译:
通过原位激光反射表征金属有机化学气相沉积的固体源传输系统
作者:
C. Dubourdieu
;
G. Y. Kim
;
J.D. Meyer
;
B. Gallois
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
19.
In situ plasma characterization of laser-ablated Ba_xSr_(1-x)TiO_3
机译:
烧蚀Ba_xSr_(1-x)TiO_3的等离子体原位表征
作者:
D.T. Venizelos
;
S. Sengupta
;
R.C. Sausa
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
20.
CVD growth and excimer laser processing of SiGe alloys monitored by single wavelength ellipsometry and atomic force microscopy
机译:
通过单波长椭圆光度法和原子力显微镜监测SiGe合金的CVD生长和准分子激光加工
作者:
R. Larciprete
;
G. Padeletti
;
S. Cozzi
;
S. Pieretti
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
21.
SPA monitoring of GaN movpe surface
机译:
SPA监测GaN膜表面
作者:
Naoki Kobayashi
;
Yasuyuki Kobayashi
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
22.
Reflection high-energy electron diffraction as an intrinsic material property sensor for machine condition transfer function in molecular beam epitaxial growth of III-V compound semiconductors
机译:
反射高能电子衍射作为III-V化合物半导体分子束外延生长中机器条件传递函数的固有材料特性传感器
作者:
P. Chen
;
C. Wang
;
A. Madhukar
;
T. Khan
;
A. Small
;
Z. Yan
;
R. Viswanatham
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
23.
X-ray Diffraction Study of Laser-Material Interactions with an Ultrafast Table-Top X-ray Source
机译:
超快速台式X射线源与激光相互作用的X射线衍射研究
作者:
T. Guo
;
C. Rose-Petruck
;
R. X. Jimenez
;
J. A. Squier
;
B. C. Walker
;
K. R. Wilson
;
C. P. J. Barty
会议名称:
《》
|
1997年
24.
Silicon rapid thermal processing with ripple pyrometry
机译:
硅快速热处理与波纹高温法
作者:
A.T. Fiory
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
25.
Real-time monitoring of semiconductor growth by spectroscopic ellipsometry
机译:
通过光谱椭偏仪实时监控半导体的生长
作者:
B. Johs
;
J. Hale
;
C. Herzinger
;
D. Doctor
;
K. Elliott
;
G. Olson
;
D. Chow
;
J. Roth
;
I. Ferguson
;
M. Pelczynski
;
C.H. Kuo
;
S. Johnson
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
26.
Polycapillary optics for in situ diagnostics
机译:
多毛细管光学原位诊断
作者:
F. A. Hofmann
;
N. Gao
;
S.M. Owens
;
W.M. Gibson
;
C.A.Macdonald
;
S.M. Lee
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
27.
Rheed monitoring of rotating samples during large-area homogeneous deposition of oxides
机译:
大面积均匀沉积氧化物期间对旋转样品进行的Rheed监控
作者:
V.C. Matijasevic
;
Z. Lu
;
K. Von Dessonneck
;
C. Taylor
;
D. Barlett
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
28.
Rheed studies of a-axis oriented DyBa_2Cu_3O_7 films grown by all-mbe
机译:
全mbe生长的a轴取向DyBa_2Cu_3O_7膜的Rheed研究
作者:
Ivan Bozovic
;
J. N. Eckstein
;
Natasha Bozovic
;
J. ODonnell
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
29.
X-ray absorption spectroscopy as an in-situ tool in materials science
机译:
X射线吸收光谱法作为材料科学中的现场工具
作者:
T. Ressler
;
Joe Wong
;
W. Metz
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
30.
Microanalysis of soot particulates using stem
机译:
使用杆对烟尘颗粒进行微量分析
作者:
David C. Bell
;
Lenore C. Rainey
;
Arpad B. Palotas
;
John B. Vandersande
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
31.
In-Situ RF diagnostic for PECVD process control
机译:
用于PECVD工艺控制的原位RF诊断
作者:
S. Raoux
;
K. S. Liu
;
X. Guo
;
D. Silvetti
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
32.
In-situ fourier transform infrared spectroscopy for real-time diagnostics of thin film processes
机译:
原位傅立叶变换红外光谱技术,用于薄膜工艺的实时诊断
作者:
P.R. Solomon
;
S. Charpenay
;
W. Zhang
;
A.S. Bonanno
;
P.A. Rosenthal
;
J.E. Cosgrove
;
K.K. Kinsella
;
P. J. Kung
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
33.
In-situ monitoring during pld of complex oxides using rheed at high oxygen pressure
机译:
在高氧气压力下使用Rhe进行复杂氧化物的原位监测
作者:
Guus J.H.M. Rijnders
;
Gertjan Koster
;
Dave H.A. Blank
;
Horst Rogalla
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
34.
In-situ characterization of laser deposited Fe/Ag multilayers by a combination of time-of-flight, rheed and resistance measurements
机译:
通过飞行时间,流变和电阻测量的组合,对激光沉积的Fe / Ag多层膜进行原位表征
作者:
Sebastian Fahler
;
Martin Weisheit
;
Hans-Ulrich Krebs
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
35.
Monitoring and control in vapor phase epitaxy
机译:
气相外延的监测与控制
作者:
T. P. Pearsall
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
36.
Monitoring of sidewall spacer etch by optical emission spectroscopy and mass spectroscopy
机译:
通过光发射光谱法和质谱法监测侧壁间隔物蚀刻
作者:
K. Min
;
J. J. Chambers
;
G. N. Parsons
;
J. R. Hauser
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
37.
Material balance modeling of end-point uniformity in silicon dioxide plasma etching
机译:
二氧化硅等离子体蚀刻中终点均匀性的材料平衡建模
作者:
J. J. Chambers
;
K. Min
;
J. R. Hauser
;
G. N. Parsons
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
38.
In situ monitoring of anodic oxide growth on Si (001) by interface second-harmonic generation
机译:
通过界面二次谐波生成原位监测Si(001)上的阳极氧化物生长
作者:
S. Janz
;
J.A. Bardwell
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
39.
In situ initial growth studies of (Sr,Ca)CuO_2 on SrTiO_3 by high pressure rheed
机译:
(Sr,Ca)CuO_2在SrTiO_3上高压高压原位生长的原位研究
作者:
Gertjan Koster
;
Guus J.H.M. Rijnders
;
Dave H.A. Blank
;
Horst Rogalla
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Intelligent Materials Processing held December 2-5, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
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1997年
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