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Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium
Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium
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1.
On the Structure of the Helmholtz Layer and its Implications on Electrode Kinetics
机译:
亥姆霍兹层的结构及其对电极动力学的影响
作者:
H.J. Lewerenz
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
关键词:
Helmholtz layer structure;
electrochemical kinetics;
electroreflectance;
distance tunneling spectroscopy;
electron injection;
transition state concept;
2.
EC-STM Study of Two-Dimensional Complex Adlayer Directly Formed on Au(111)
机译:
直接在Au(111)上形成二维复合层的EC-STM研究
作者:
Soichiro Yoshimoto
;
Katsuhiko Nishiyama
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
3.
The Effects of Sonication on Electrodeposited Nickel-based Carbon Nanotube Composite Coatings
机译:
超声处理对电沉积镍基碳纳米管复合涂层的影响
作者:
T. Suzuki
;
M. Kato
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
4.
Influence of Glycine as Additive on Cobalt Electrodeposition
机译:
甘氨酸作为添加剂对钴电沉积的影响
作者:
Renan A. J. Critelli
;
Paulo T. A. Sumodjo
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
5.
Mechanistic Studies of Zinc Electrodeposition from Deep Eutectic Electrolytes
机译:
深共晶电解质电沉积锌的机理研究
作者:
L. Vieira
;
A. H. Whitehead
;
B. Gollas
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
6.
Crystal Orientation of Iron Produced by Electrodeoxidation of Hematite Particles
机译:
赤铁矿颗粒电脱氧产生的铁的晶体取向
作者:
M. Tokushige
;
O.E. Kongstein
;
G.M. Haarberg
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
7.
The Electrodeposition of Zinc-Bismuth Alloys
机译:
锌铋合金的电沉积
作者:
B. Gollas
;
A. Luegger
;
J. Zidar
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
8.
AFM Analysis for Initial Stage of Electroless Displacement Deposition of Silver on Silicon Surface
机译:
硅表面上化学镀银初始阶段的AFM分析
作者:
Takuma Ego
;
Taizo Hagihara
;
Yuma Morii
;
Naoki Fukumuro
;
Shinji Yae
;
Hitoshi Matsuda
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
9.
High Temperature Hardness of Electrodeposited Nickel-based Carbon Nanotube Composite Coatings
机译:
电沉积镍基碳纳米管复合涂层的高温硬度
作者:
T. Suzuki
;
M. Kato
;
T. Matsuda
;
S. Kobayashi
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
10.
Characterisation of the Deposition of n-Octanohydroxamate on Copper Surfaces
机译:
铜表面正辛基异羟肟酸酯沉积的表征
作者:
G. K. Parker
;
S. A. Holt
;
G. A. Hope
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
11.
Surface Morphology and Stress in Electrodeposited Copper Nanofilms
机译:
电沉积铜纳米膜的表面形貌和应力
作者:
M. OGrady
;
C. Lenihan
;
D. N. Buckley
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
12.
Application of Artificial Neural Networks to Prediction of Chemical Composition of Electrodeposited Ni-Mo Thin Films
机译:
人工神经网络在电沉积Ni-Mo薄膜化学成分预测中的应用
作者:
M.H. Allahyarzadeh
;
A.S. Rouhaghdam
;
M. Aliofkhazraie
;
T. Shahrabi
;
A. Ashrafi
;
A. Seddighian
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
13.
Study of the Copper Electrodeposition Mechanism on Molybdenum Substrate
机译:
钼基体上铜电沉积机理的研究
作者:
Elise Delbos
;
Hanane El Belghiti
;
Dimitri Mercier
;
Jackie Vigneron
;
Muriel Bouttemy
;
Amaud Etcheberry
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
14.
Fabrication of Low CTE Metal Masks by the Invar Fe-Ni Alloy Electroforming Process for Large and Fine Pitch OLED Displays
机译:
用于大型和精细间距OLED显示器的Invar Fe-Ni合金电铸工艺制造低CTE金属掩模
作者:
T. Nagayama
;
T. Yamamoto
;
T. Nakamura
;
Y. Mizutani
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
15.
Electrochemical Assembly of Ruthenium Complexes during the Multilayering Process of MnO_2
机译:
MnO_2多层沉积过程中钌配合物的电化学组装
作者:
Kazuaki Tomono
;
Ryota Yamaguchi
;
Masaharu Nakayama
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
16.
Electrochemical Formation of Functional Silver Coatings: Nanostructural Peculiarities
机译:
功能性银涂层的电化学形成:纳米结构特性
作者:
O. L. Bersirova
;
V.S. Kublanovsky
;
H. Cesiulis
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
17.
Prof. Dr. Dieter M. Kolb (1942-2011)
机译:
Dieter M.Kolb教授(1942-2011)
会议名称:
《Electrodeposition fundamentals and new materials (General) - 222nd ECS meeting/PRiME 2012: Dieter M. Kolb Memorial symposium》
|
2012年
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