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Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology

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1.Non-Linear Device Metrology and Modeling

机译：非线性设备计量和建模
- 作者：D. DeGroot;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
2.Thin Film Metrology Using X-Rays

机译：使用X射线的薄膜计量
- 作者：R. J. Matyi;R. D. Deslattes;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
3.Packaging Reliability

机译：包装可靠性
- 作者：E.S. Drexler;A.J. Slifka;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
4.Solders and Solderability Measurements for Microelectronics

机译：微电子的士兵和可焊性测量
- 作者：F. W. Gayle;W. J. Boettinger;C. A. Handwerker;U. R. Kattner;M. E. Williams;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
5.Measurements for Complex Electronic Systems

机译：复杂电子系统的测量
- 作者：Gerad N. Stenbakken;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
6.Interconnect Dielectric Characterization Using Transmission-Line Measurement

机译：使用传输线测量互连介电表征
- 作者：Michael Janezic;Dylan Williams;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
7.Advanced Gate Dielectric Metrology

机译：先进的栅极介电计量
- 作者：E. Steel;D. L. Kaiser;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
8.Metrology for Simulation and Computer-Aided Design

机译：模拟和计算机辅助设计的计量
- 作者：Allen R. Hefner;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
9.Nuclear Measurement Methods for Chemical Characterization of As and P Implant Standards

机译：核测量方法和P植入标准的化学表征
- 作者：Richard M. Lindstrom;Robert R. Greenberg;Rick L. Paul;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
10.Monte Carlo Methods For Optimizing the Quantitative Analysis Of Thin Layers, Microparticles and Irregular Surfaces

机译：用于优化薄层，微粒和不规则表面的定量分析的蒙特卡罗方法
- 作者：John T. Armstrong;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
11.Phase Identification From sub 200 nm Particles by Electron Backscatter Diffraction (EBSD)

机译：通过电子反向散射衍射（EBSD）从亚200nm粒子的相位识别
- 作者：John A. Small;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
12.Ultra Shallow Depth Profiling by ToF-SIMS

机译：TOF-SIMS的超浅深度分析
- 作者：A. J. Fahey;S. R. Roberson;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
13.Wire Bonding to Cu/Low-k Semiconductor Devices

机译：引线键合到Cu / Low-K半导体器件
- 作者：George Harman;David Kelley;Chris Johnson;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
14.Lithographic Polymers

机译：光刻聚合物
- 作者：Eric K. Lin;Christopher L. Soles;Wen-li Wu;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
15.Standards for Low Concentrations of Water Vapor in Gases

机译：低浓度水蒸气中的标准
- 作者：J. T. Hodges;G. E. Scace;P. H. Huang;W.W. Miller;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
16.Thermophysical Properties of Gases Used in Semiconductor Processing

机译：半导体加工中使用的气体热物理性质
- 作者：J.J. Hurly;K.A. Gillis;M.R. Moldover;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
17.At-Speed Test of Digital Integrated Circuits

机译：数字集成电路的速度试验
- 作者：Dylan Williams;John Moreland;Joseph Kopanski;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
18.Measurements and Modeling of Electrodeposited Interconnects

机译：电沉积互连的测量和建模
- 作者：G.R. Stafford;T.P Moffat;D. Josell;L. Richter;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
19.Effects of Elastic-Electron Scattering on Measurements of Silicon Dioxide Film Thickness by X-ray Photoelectron Spectroscopy

机译：弹性 - 电子散射对X射线光电子谱测量二氧化硅膜厚度测量的影响
- 作者：C. J. Powell;A. Jablonski;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
20.Optical Metrology of Si/Dielectric Interface

机译：Si /介电接口的光学计量
- 作者：S.T. Cundiff;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
21.NIST/SEMATECH Engineering Statistics Internet Handbook

机译：NIST / SEMATECH工程统计互联网手册
- 作者：M.C. Croarkin;W.F. Guthrie;A. Heckert;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
22.Ferroelectric Domain Stability Measurements

机译：铁电畴稳定性测量
- 作者：G.S. White;J.E. Blendell;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
23.Models and Data for Chemical Vapor Deposition

机译：化学气相沉积的模型和数据
- 作者：R. W. Davis;D. R. Burgess;J. E. Maslar;E. F. Moore;R. L. Axelbaum;S. H. Ehrman;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
24.X-Ray Tomography of Microstructures

机译：微观结构的X射线断层扫描
- 作者：Zachary H. Levine;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
25.Interconnect Materials and Reliability Metrology

机译：互连材料和可靠性计量
- 作者：D. T. Read;R. R. Keller;F. R. Fickett;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
26.Texture Measurements in Thin Film Electronic Materials

机译：薄膜电子材料的纹理测量
- 作者：M.D. Vaudin;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
27.Development of Quantitative Measurements for Vacuum Process Control

机译：真空过程控制定量测量的开发
- 作者：J.P. Looney;R.F. Berg;D.S. Green;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
28.Solder Interconnect Design

机译：焊料互连设计
- 作者：J.A. Warren;C.A. Handwerker;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
29.Tin Whisker Mechanisms

机译：锡晶须机制
- 作者：C. E. Johnson;W. J. Boettinger;Kil-won Moon;M. E. Williams;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
30.Permittivity of Polymer Films in the Microwave Range

机译：微波范围内聚合物膜的介电常数
- 作者：J. Obrzut;C. K. Chiang;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
31.X-ray Studies of Electronic Materials

机译：电子材料的X射线研究
- 作者：T.A. Siewert;D. Balzar;Chris McCowan;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
32.Temperature Measurements and Standards for Rapid Thermal Processing

机译：快速热处理的温度测量和标准
- 作者：K.G. Kreider;C.W. Meyer;V.P. Scheuerman;W.C. Ausherman;D.P. DeWitt;B.K. Tsai;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
33.Porous Thin Films Metrology for Low K Dielectrics

机译：低k电介质的多孔薄膜计量
- 作者：Barry J. Bauer;Eric K. Lin;Wen-li Wu;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
34.Wafer and Chuck Flatness Metrology

机译：晶圆和夹头平整度计量
- 作者：Angela Davies;Chris Evans;Tony Schmitz;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
35.Boron and Nitrogen Thin Film and Implant Standards using Neutron Depth Profiling

机译：硼和氮薄膜和使用中子深度分析的植入标准
- 作者：George P. Lamaze;Heather Chen-Mayer;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
36.Wafer Level Underfill Experiment and Modeling

机译：晶圆级底线填充实验和建模
- 作者：D.Josell;W.E. Wallace;D. Wheeler;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
37.Metrology Supporting Deep Ultraviolet Lithography

机译：支撑深紫外光刻的计量学
- 作者：J. Burnett;M. Dowell;R. Gupta;T. Scott;T. Lucatorto;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
38.Electrical-Based Dimensional Metrology

机译：基于幂的维度计量
- 作者：Michael W. Cresswell;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
39.Advanced Gate Dielectrics - MOS Device Characterization and Reliability

机译：先进的栅极电介质 - MOS器件表征和可靠性
- 作者：Eric M. Vogel;J. S. Suehle;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
40.Thin Film Process Metrology

机译：薄膜工艺计量
- 作者：J.R. Ehrstein;C.A Richter;N.V. Nguyen;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
41.Two- and Three-Dimensional Profiling

机译：二维和三维分析
- 作者：Joseph J. Kopanski;Jay F. Marchiando;David S. Simmons;Greg Gillen;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
42.Modeling, Measurements, and Standards for Wafer Surface Inspection

机译：晶圆表面检查的建模，测量和标准
- 作者：T. A. Germer;G. W. Mulholland;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
43.High-Resolution Microcalorimeter X-Ray Spectrometer for Chemical Analysis

机译：用于化学分析的高分辨率微量高压仪X射线光谱仪
- 作者：David Wollman;Sae Woo Nam;Gene Hilton;Kent Irwin;John Martinis;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
44.Atom-Based Dimensional Metrology

机译：基于原子的维度计量
- 作者：R.M. Silver;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
45.Model-Based Dimensional Metrology

机译：基于模型的维度计量
- 作者：J. S. Villarrubia;A. E. Vladar;M. T. Postek;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
46.Plasma Process Metrology

机译：等离子体工艺计量
- 作者：M. Sobolewski;K. Steffens;J. Olthoff;Y. Wang;L. Christophorou;A. Goyette;E. Benck;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
47.Metrology Supporting Extreme Ultraviolet Lithography

机译：支持极端紫外线光刻的计量
- 作者：T. Lucatorto;A. Davies;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
48.Scanning Probe Microscope-Based Dimensional Metrology

机译：扫描探针基于显微镜的尺寸计量
- 作者：R. Dixson;J. A Dagata;M. T. Postek;T.V. Vorburger;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
49.Scanning Electron Microscope-Based Dimensional Metrology

机译：扫描电子显微镜的维度计量
- 作者：A.E. Vladar;M.T. Postek;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年
50.Optical-Based Dimensional Metrology

机译：基于光学维度计量
- 作者：R. Silver;J. Potzick;T. Doiron;NTIS
- 会议名称：《Silicon microelectronics programs at the national institute of standards and technology》 | 2001年