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European Conference on Chemical Vapour Deposition
European Conference on Chemical Vapour Deposition
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1.
Technology and application of transition metal oxide of W-V-O as functional layers and NiO thin films as counter electrode material in electrochromic 'Smart Windows'
机译:
W-V-O过渡金属氧化物作为功能层和NIO薄膜作为电致变色“智能窗口”反电极材料的技术及应用
作者:
Georgi Bodurov
;
Tatyana Ivanova
;
Kostadinka Gesheva
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
atmospheric pressure chemical vapour deposition;
thin optical coatings;
transition metal oxide films;
vanadium oxide;
new mixed precursor;
vanadyl acetylacetonate;
2.
Raman characterisation of diamond coatings using different laser wavelengths
机译:
使用不同激光波长的金刚石涂层的拉曼表征
作者:
Roland Haubner
;
Moritz Rudigier
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Diamond morphology;
Raman;
laser wavelength;
boron doping;
3.
Growth of boron nitride on (0001) A1N templates by High Temperature- Hydride Vapor Phase Epitaxy (HT-HVPE).
机译:
高温 - 氢化气相外延(HT-HVPE)的(HT-HVPE)在(0001)A1N模板上的氮化硼生长。
作者:
Nicolas Coudurier
;
Raphael Boichot
;
Frederic Mercier
;
Roman Reboud
;
Sabine Lay
;
Elisabeth. Blanquet
;
Michel Pons
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Boron nitride;
Boron trichloride;
HT-HVPE;
nanowire;
4.
Multifunctional manganese single source precursor for the selective deposition of MnF_2 or Mn_3O_4
机译:
用于选择性沉积MNF_2或MN_3O_4的多功能锰单源前兆
作者:
Maria R. Catalano
;
Graziella Malandrino
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Manganese (II) precursor;
nanorod assembly;
manganese difluoride;
hausmannite film;
5.
The influence of F-doping in SnO_2 thin films
机译:
F掺杂在SnO_2薄膜中的影响
作者:
H.M. Yates
;
P. Evans
;
D.W. Sheel
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
tin oxide;
atmospheric pressure chemical vapour deposition;
F-dopant;
6.
Development of the automatic modeling system for reaction mechanisms using REX+JGG
机译:
使用REX + JGG的反应机制自动建模系统的开发
作者:
Takahiro Takahashi
;
Kohei Kawai
;
Hiroyuki Nakai
;
Yoshinori Ema
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Chemical Vapor Deposition;
Reaction Mechanism;
Genetic Algorithms;
Real-Coded Genetic Algorithms;
Automatic Modeling;
Simulation;
7.
Thermochromic vanadium oxide coatings grown by APCVD at low temperatures
机译:
在低温下由APCVD产生的热致变色钒氧化物涂层
作者:
Dimitris Louloudakis
;
Dimitra Vernardou
;
Emmanuel Spanakis
;
Nikolaos Katsarakisas
;
Emmanuel Koudoumas
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Atmospheric pressure chemical vapor deposition;
Vanadium dioxide;
Thermochromics;
Transition temperature;
8.
N,N- and O,N- coordinated Co(II) β - diketonate derivatives: synthesis, structures, thermal properties and MOCVD application
机译:
N,N-和O,N-协调CO(II)β - DikeTonate衍生物:合成,结构,热性能和MOCVD应用
作者:
S. I.Dorovskikh
;
E. S. Filatov
;
P.A. Stabnikov
;
N.B.Morozova
;
I.K Igumenov
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
cobalt complexes;
thermal properties;
cobalt films;
9.
Super-Hydrophobic and Oloephobic Crystalline Coatings by Initiated Chemical Vapor Deposition
机译:
通过引发的化学气相沉积超级疏水和OLOEPHOBIC结晶涂层
作者:
Anna Maria Coclite
;
Yujun Shi
;
Karen K. Gleason
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
iCVD;
perfluoroacrylate coatings;
PFDA;
super-hydrophobicity;
10.
Patterned PPy Polymer and PPy/Ag Nanocomposites Thin Films by Photo-DLICVD
机译:
图案化的PPY聚合物和PPY / AG纳米复合材料通过光 - DLICVD薄膜
作者:
C.C. Manole
;
F. Maury
;
I. Demetrescu
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Patterned;
Nanocomposites;
Photo-DLICVD;
11.
High power pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition: a brief overview of general concepts and early results
机译:
高功率脉冲等离子体增强化学气相沉积:一般概念和早期结果的简要概述
作者:
Daniel Lundin
;
Henrik Pedersen
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
PECVD;
Pulsed plasma discharges;
Substrate bias;
Al_2O_3;
Amoiphous Carbon;
HiPIMS;
12.
A calculation method of deposition profiles in CVD reactors using genetic algorithms
机译:
使用遗传算法CVD反应器沉积谱的计算方法
作者:
Takahiro Takahashi
;
Ken Kawamura
;
Kazuya Takahashi
;
Yoshinori Ema
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Chemical vapor deposition;
Process simulator;
Genetic algorithms;
13.
Effect of Spatial Image Transfer in a Pulse MOC VD Process
机译:
空间图像传递在脉冲MOC VD过程中的影响
作者:
Yuri V. Shevtsov
;
Boris M. Kuchumov
;
Vladimir N. Kruchinin
;
Evgeni V. Spesivtsev
;
Igor F. Golovnev
;
Igor K. Igumenov
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Pulse MOCVD;
Transferred image;
layer deposition;
HfO_2;
MgO;
14.
Low pressure chemical vapour deposition of crystalline Ga_2Te_3 and Ga_2Se_3 thin films from single source precursors using telluroether and selenoether complexes
机译:
使用碲和硒醚配合物,从单源前体的低压化学气相沉积结晶Ga_2Te_3和Ga_2Se_3薄膜
作者:
Kathryn George
;
C. H. (Kees) de Groot
;
Chitra Gurnani
;
Andrew L. Hector
;
Ruomeng Huang
;
Marek Jura
;
William Levason
;
Gillian Reid
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
gallium selenide;
gallium telluride;
low pressure;
single source precursor;
selenoether;
telluroether;
15.
The use of Additives to Control the Morphology of Thin Films Synthesized Using Aerosol Assisted Chemical Vapour Deposition
机译:
添加剂以控制使用气溶胶辅助化学气相沉积合成的薄膜形态
作者:
Karl Kaye
;
David Turner
;
Dayid McKenna
;
Adam Cackett
;
Geoffrey Hyett
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
zinc oxide;
aerosol assisted chemical vapour deposition;
strucutre directing addtives;
morphology;
16.
New heteroleptic copper(II) complexes as MOCVD precursors
机译:
新的异铜铜(II)复合物作为MOCVD前体
作者:
V.V. Krisyuk
;
S.V. Sysoev
;
Y.M. Rumyantsev
;
S.A. Prokhorova
;
E.V. Maximovskiy
;
M.L. Kosinova
;
I.K. Igumenov
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
volatile copper(II) complexes;
heteroleptic complexes;
copper films;
MOCVD;
saturated vapor pressure;
17.
Thermodynamic Analysis And Growth Of Zirconium Carbide By Chemical Vapor Deposition
机译:
化学气相沉积的热力学分析和碳化锆的生长
作者:
Sun Wei
;
Hao Zheng Hua
;
Xiong Xiang
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Equibibrium analysis;
Chemical vapor deposition;
Zirconium carbide;
18.
Titania coated mica via chemical vapour deposition, post N-doped by liquid ammonia treatment.
机译:
二氧化钛通过化学气相沉积涂覆云母,通过液氨处理N-掺杂。
作者:
Michael J. Powell
;
Ivan P. Parkin
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Photocatalysis;
N-doped TiO_2;
self-cleaning surfaces;
19.
Bis(trimethylsilyl)ethylamine: synthesis, properties and its use as CVD precursor
机译:
双(三甲基甲硅烷基)乙胺:合成,性质及其作为CVD前体的用途
作者:
Evgeniya Ermakova
;
Alexey Lis
;
Marina Kosinova
;
Yuri Rumyantsev
;
Eugene Maximovskii
;
Vladimir Rakhlin
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Silicon carbonitride films;
PECVD;
organosilicon precursor;
vapor pressure;
hardness;
optical band gap;
20.
Electric And Ferro-Electric Behaviour Of Polymer-Coated Graphene-Oxide Thin Film
机译:
聚合物涂层石墨烯氧化膜的电气和铁电动
作者:
Sekhar C. Ray
;
Susanta Kumar Bhunia
;
Arindam Saha
;
Nikhil R. Jana
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Graphene Oxide;
Polymer Coated Graphene Oxide;
Polarization;
21.
Reactive Chemical Vapour Deposition of titanium carbide from H_2-TiCl_4 gas mixture on pyrocarbon: A comprehensive study
机译:
从H_2-TiCl_4气体混合物对Pyrocarbon的反应性化学气相沉积:综合研究
作者:
O. Ledain
;
W.Woelffel
;
J. Roger
;
G. Vignoles
;
L. Maillé
;
S. Jacques
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
CVD;
R-CVD;
TiC coating;
pyrocarbon;
solid state diffusion;
FTIR;
simulation;
22.
A Comparative Study Of A Series Of Dimethylgold(III) Complexes With S,S Chelating Ligands Used As MOCVD Precursors
机译:
用作MOCVD前体的S,S螯合配体的一系列二甲基(III)配合物的对比研究
作者:
Asiya Turgambaeva
;
Roman Parkhomenko
;
Vladimir Aniskin
;
Vladislav Krisyuk
;
Igor Igumenov
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
gold films;
MOCVD;
volatile dimethylgold(III) complexes;
thermolysis mechanism;
23.
Scandium(III) Beta-Diketonate Derivatives As Precursors For Oxide Film Deposition By CVD
机译:
钪(III)β-二酮衍生物作为CVD氧化膜沉积的前体
作者:
Kseniya V. Zherikova
;
Ludmila N. Zelenin
;
Tamara P. Chusova
;
Natalia B. Morozova
;
Sergey V. Trubin
;
Eugeniia S. Vikulova
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
scandium beta-diketonates;
DSC;
vapour pressure;
MOCVD;
SC_2O_3 films;
24.
Thin film optical coatings of Vanadium Oxide and mixed Tungsten/Vanadium Oxide deposited by APCVD employing precursors of Vanadyl Acetylacetonate and a mixture with tungsten hexacarbonyl
机译:
薄膜光学涂层氧化钒和混合钨/钒涂覆通过APCVD沉积的乙酰丙酮烷基丙酯的前体和六烷羰基的混合物
作者:
Georgi Bodurov
;
Tatyana Ivanova
;
Miroslav Abrashev
;
Zoya Nenova
;
Ko?tadin?a Gesheva
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
atmospheric pressure chemical vapour deposition;
thin films optical coatings;
transition metal oxide films;
vanadium oxide;
new mixed precursor;
vanadyl acetylacetonate;
25.
In Situ Deposition Monitoring by a Tilted Fiber Bragg Grating Optical Probe: Probing Nucleation in Chemical Vapour Deposition of Gold
机译:
通过倾斜光纤布拉格光栅光学探针的原位沉积监测:金色蒸汽沉积中的探测成核
作者:
David J. Mandia
;
Matthew B. E. Griffiths
;
Wenjun Zhou
;
Peter G. Gordon
;
Jacques Albert
;
Seán T. Barry
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Deposition;
Bragg;
Chemical;
26.
Pulsed direct liquid injection ALD of TiO_2 films using titanium tetraisopropoxide precursor
机译:
使用钛四异丙氧化钛前体脉冲直接液体注射ALD TiO_2膜
作者:
L. Avril
;
J.M. Decams
;
L. Imhoff
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Pulsed liquid injection ALD;
Titanium oxides;
Titanium tetraisopropoxide precursor;
Thin films;
27.
Silicon chemical vapor deposition process using a half-inch silicon wafer for Minimal Manufacturing System
机译:
使用半英寸硅晶片进行硅化学气相沉积工艺,用于最小的制造系统
作者:
Ning Li
;
Hitoshi Habuka
;
Shin-ichi Ikeda
;
Shiro Hara
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Chemical vapour deposition;
concentrated infrared flux;
chlorine trifluoride;
28.
On the concentration unsteadiness of chemical vapour deposition with a precursor sublimated from packed bed of solid source. Problems with multicomponent coatings
机译:
用叠在固体源覆盆床升掺杂的前体浓度不稳定性。多组分涂层的问题
作者:
Georgi Peev
;
Irene Tsibranska
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
CVD;
unsteadiness avoidance;
mathematical modelling;
carbonyl precursors;
29.
Upscaling the chemical vapor infiltration process of activated carbon with TMS
机译:
用TMS升高了活性炭的化学蒸汽渗透过程
作者:
B. Curdts
;
M. Helmich
;
C. Pasel
;
D. Bathen
;
B. Atakan
;
C. Pflitsch
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
CVD;
activated carbon;
TMS;
adsorption;
30.
SiCN film quality characterization by etch pit measurement method
机译:
蚀刻坑测量方法SICN薄膜质量表征
作者:
Akira Izumi
;
Toshiaki Kimura
;
Noriaki Yabe
;
Yutaka Kadotani
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
Thin film;
etch pit;
pinhole;
SiCN;
HWCVD;
potassium hydroxide;
31.
Design of Ordered Wrinkled Patterns with Dynamically Tuned Properties
机译:
具有动态调谐属性的有序皱纹模式的设计
作者:
Jose Luis Yagüe
;
Jie Yin
;
Mary C. Boyce
;
Karen K. Gleason
会议名称:
《European Conference on Chemical Vapour Deposition》
|
2013年
关键词:
iCVD;
buckling;
patterning;
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