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Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia
Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia
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1.
WAYS OF COOPERATION IN THE FIELD OF THE SILICON TECHNOLOGY
机译:
硅技术领域的合作方式
作者:
BRILLOUEET Michel
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
2.
GROWTH TECHNOLOGY FOR 200 MM ANTIMONY HEAVILY DOPED SILICON SINGLE CRYSTALS
机译:
200毫米锑重掺杂硅单晶的生长技术
作者:
Qigang Zhou
;
Fu Qin
;
James Zhou
;
Feng Fang
;
Jing Wang
;
Hailing Tu
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
3.
LONG-TERM PRODUCTIVITY MECHANISMS OF THE SEMICONDUCTOR INDUSTRY
机译:
半导体行业的长期生产率机制
作者:
Randal Goodall
;
Denis Fandel
;
Alan Allan
;
Paul Landler
;
Howard R. Huff
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
4.
Oxidation-induced stacking faults in nitrogen doped Czochralski silicon
机译:
氮掺杂的切克劳斯基硅中的氧化诱导堆垛层错
作者:
Deren YANG
;
Jia CHU
;
Xiangyang Ma
;
Liben Li
;
Duanlin QUE
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
5.
IMEC'S RESEARCH PROGRAM AND THE ITRS CHALLENGES
机译:
IMEC的研究计划和ITRS面临的挑战
作者:
Gilbert J. Declerck
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
6.
IMPACT OF NITROGEN DOPING IN SILICON ONTO GATE OXIDE INTEGRITY
机译:
硅中氮掺杂对门氧化物完整性的影响
作者:
A. Huber
;
M. Kapser
;
J. Grabmeier
;
U. Lambert
;
W. v. Ammon
;
R. Pech
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
7.
MIRAI Project
机译:
未来计划
作者:
Masataka Hirose
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
8.
RARE EARTH METAL OXIDES FOR HIGH-K GATE INSULATOR
机译:
用于高K门绝缘子的稀土金属氧化物
作者:
S. Ohmi
;
S. Akama
;
A. Kikuchi
;
I. Kashiwagi
;
C. Ohshima
;
J. Taguchi
;
H. Yamamoto
;
K. Sato
;
M. Takeda
;
H. Ishiwara
;
H. Iwai
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
9.
SILICON EPITAXY AND PARTICLE DYNAMICS: A THEORETICAL AND EXPERIMENTAL STUDY
机译:
硅表位和颗粒动力学:理论和实验研究
作者:
Srikanth Kommu
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
10.
Study of Diffusivity and Electrical Properties of Zr and Hf in Silicon
机译:
Zr和Hf在硅中的扩散率和电学性质的研究
作者:
O.F. Vyvenko
;
R. Sachdeva
;
A.A. Istratov
;
R. Armitage
;
E.R. Weber
;
Y. Gao
;
H. R. Huff
;
P. N. K. Deenapanray
;
C. Jagadish
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
11.
SUPER SILICON INITIATIVE AND FUTURE LARGE WAFER SIZE DIAMETERS
机译:
超级硅引发剂和未来的大晶圆尺寸直径
作者:
Makoto Kuramoto
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
12.
THERMOPHYSICAL PROPERTIES OF INTRINSIC POINT DEFECTS IN CRYSTALLINE SILICON
机译:
晶体硅内在缺陷的热物理性质
作者:
Talid Sinno
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
13.
Control of Point Defects, Impurities, and Extended Defects in CZ Si: The Original/Ongoing Silicon Nanoscale Engineering Defect Science
机译:
CZ Si中点缺陷,杂质和扩展缺陷的控制:原始/正在进行的硅纳米级工程缺陷科学
作者:
George A. Rozgonyi
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
14.
DEFECTS IN SILICON CRYSTALS AND THEIR IMPACT ON TRENCH CAPACITOR DRAM DEVICE CHARACTERISTICS
机译:
硅晶体的缺陷及其对沟槽电容器DRAM器件特性的影响
作者:
E. Dornberger
;
D. Temmler
;
W. von Ammon
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
15.
ARGON -ANNEALED 300 MM WAFERS COMPLEMENTING PP- EPITAXIAL LAYERS
机译:
氩气退火的300毫米晶圆补充PP-外延层
作者:
T. Mueller
;
W. Siebert
;
K. Messmann
;
R. Wahlich
;
P. Krottenthaler
;
R. Hoelzl
;
A. Ikari
;
W. V. Ammon
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
16.
300MM SUBSTRATE REQUIREMENTS FOR ADVANCED DRAM TECHNOLOGIES
机译:
先进DRAM技术对300MM基板的要求
作者:
H. Dietrich
;
C. Kupfer
;
J. Martin
;
F. Katzwinkel
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
17.
EFFECT OF VACANCY DOUBLE ACCEPTOR LEVEL ON Si SELF-DIFFUSION UNDER HEAVY DOPING CONDITION
机译:
空位双受主水平对重掺杂条件下Si自扩散的影响
作者:
Hirman I. Osman
;
Yukio Nakabayashi
;
Sakaguchi Tomohisa
;
Kazunari Toyonaga
;
Satoru Matsumoto
;
Junichi Murota
;
Kazumi Wada
;
Takao Abe
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
18.
ATOMIC-LAYER DOPING OF N IN Si EPITAXIAL GROWTH ON Si(lOO) AND ITS THERMAL STABILITY
机译:
Si(100)上硅表观生长中N的原子层掺杂及其热稳定性
作者:
Youngcheon Jeong
;
Masao Sakuraba
;
Takahashi Matsuura
;
Junichi Murota
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
19.
A TECHNIQUE FOR DELINEATING DEFECTS IN SILICON
机译:
定义硅缺陷的技术
作者:
Luciano MuleStagno
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
20.
INTERFACE REACTIONS DURING OXYGEN PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF YTTRIUM OXIDE ON SILICON
机译:
硅上氧等离子体辅助氧化钇化学气相沉积过程中的界面反应
作者:
D. Niu
;
R. W. Ashcraft
;
S. Stemmer
;
G. N. Parsons
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
21.
ESTABLISHMENT OF A DEVICE PROCESS PLATFORM FOR REALIZING A LEADING-EDGE SYSTEM-ON-A-CHIP
机译:
建立用于实现领先的芯片上系统的设备过程平台
作者:
AKIHIKO MORINO
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
22.
ELECTRONIC STRUCTURE OF NON-CRYSTALLINE HIGH-K TRANSITION METAL AND RARE EARTH OXIDES AND THEIR SILICATE AND ALUMINATE ALLOYS
机译:
非晶体高K过渡金属和稀土氧化物及其硅酸盐和铝酸盐合金的电子结构
作者:
Yu Zhang
;
G. Lucovsky
;
G.B. Rayner
;
G. Appel
;
H. Ade
;
J.L Whitten
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
23.
Fractional Contribution in Si Self-Diffusion: Dopant Concentration and Temperature Dependence on Si Self-Diffusion Mechanism
机译:
Si自扩散的分数贡献:杂质浓度和温度取决于Si自扩散机理
作者:
Yukio Nakabayashi
;
Hirman I. Osman
;
Kazunari Toyonaga
;
Kaori Yokota
;
Satoru Matsumoto
;
Junichi Murota
;
Kazumi Wada
;
Takao Abe
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
24.
CHINA'S SEMICONDUCTOR INDUSTRY AND THE GLOBAL IC ENVIRONMENT
机译:
中国的半导体产业与全球集成电路环境
作者:
Hailing Tu
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
25.
CURRENT AND FUTURE HIGH-K. CAPACITOR TECHNOLOGY FOR DRAM APPLICATIONS
机译:
当前和未来的High-K。 DRAM应用的电容器技术
作者:
Katsuhiko Hieda
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
26.
INTERPRETATION OF NON-LINEAR SHIFTS IN XPS/AES FEATURES IN NON-CRYSTALLINE ZIRCONIUM SILICATE ALLOYS
机译:
非晶体硅酸锆合金中XPS / AES特征中非线性位移的解释
作者:
G.B. Rayner
;
D. Kang
;
M. Schultz
;
K. Mai
;
G. Lucovsky
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
27.
FOUNDRY TECHNOLOGY IN SOC ERA
机译:
SOC时代的基础技术
作者:
S. Y. Chiang
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
28.
GROWTH OF 300 MM SILICON SINGLE CRYSTALS IN A 24' HOT ZONE
机译:
在24英寸热区中生长300毫米硅单晶
作者:
Hailing Tu
;
Xiaolin Dai
;
Zhiqiang Wu
;
Guohu Zhang
;
Jing Wang
;
Feng Fang Qigang Zhou
;
Qinghua Xiao
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
29.
NISI SALICIDE FOR SUB-100NM CMOS
机译:
适用于SUB-100NM CMOS的NISI SALICIDE
作者:
Qi Xiang
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
30.
Realizing the Future for the Semiconductor Industry -Meeting the Challenges of Process, Design and Business
机译:
实现半导体行业的未来-应对流程,设计和业务的挑战
作者:
C. Mark Melliar-Smith
;
C. Robert Helms
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
31.
STUDY ON GEOMETRY, SURFACE DAMAGE AND RAPID THERMAL ANNEALING OF 300 MM AS-CUT SILICON WAFERS
机译:
300毫米直插式硅晶片的几何形状,表面损伤和快速热退火的研究
作者:
Guohu Zhang
;
Bin Liu
;
Jing Zhao
;
Wenjie Chen
;
Jing Wang Qigang Zhou
;
Hailing Tu
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
32.
SOI TECHNOLOGY: THE FUTURE WILL NOT SCALE DOWN
机译:
SOI技术:未来不会缩减规模
作者:
Sorin Cristoloveanu
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
33.
SiGeC DEVICE APPLICATIONS
机译:
SiGeC器件应用
作者:
H. Joerg Osten
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
34.
WAFERS WITH LOW LPD AND REDUCED HAZE PREPARED BY SHORT ANNEALING PROCESS
机译:
通过短退火工艺制备低LPD且雾度降低的晶圆
作者:
J. L. Vasat
;
A. D. Stefanescu
;
T. Torack
;
R. Orizio
会议名称:
《Ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology, Vol.1, May 13-17, 2002, Philadelphia》
|
2002年
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