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International Workshop on Advanced Patterning Solutions
International Workshop on Advanced Patterning Solutions
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1.
Pattern Roughness Analyses in Advanced Lithography: Power Spectral Density and Autocorrelation
机译:
高级光刻中的图案粗糙度分析:功率谱密度和自相关
作者:
Yuyang Bian
;
Xijun Guan
;
Biqiu Liu
;
Xiaobo Guo
;
Cong Zhang
;
Jun Huang
;
Yu Zhang
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Temperature measurement;
Scanning electron microscopy;
Correlation;
Lithography;
Lighting;
Resists;
Standards;
2.
Fast and Accurate Machine Learning Inverse Lithography Using Physics Based Feature Maps and Specially Designed DCNN
机译:
快速准确的机器学习逆光刻,使用基于物理的特征图和专门设计的DCNN
作者:
Xuelong Shi
;
Yan Yan
;
Tao Zhou
;
Xueru Yu
;
Chen Li
;
Shoumian Chen
;
Yuhang Zhao
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Machine learning algorithms;
Lithography;
Neural networks;
Imaging;
Machine learning;
Physics;
Engines;
3.
Source Optimization under Thick Mask Model
机译:
厚面模型下的源优化
作者:
Yang Liu
;
Yiyu Sun
;
Yanqiu Li
;
Pengzhi Wei
;
Lihui Liu
;
Enze Li
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Gradient methods;
Runtime;
Image coding;
Kirchhoff's Law;
Imaging;
Sensors;
Optimization;
4.
Device-Circuit Co-Optimization for Negative Capacitance FinFETs based on SPICE Model
机译:
基于Spice模型的负电容FINFET的装置电路共同优化
作者:
Jiali Huo
;
Weixing Huang
;
Fan Zhang
;
Qiang Huo
;
Weizhuo Gan
;
Haoqing Xu
;
Huilong Zhu
;
Huaxiang Yin
;
Zhenhua Wu
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Ring oscillators;
SPICE;
Capacitance;
FinFETs;
Inverters;
Delays;
Mathematical model;
5.
Modified Anti-windup Control for High Precision Motion System
机译:
用于高精度运动系统的改进的防风控制
作者:
Zhipeng Wu
;
Minxia Ding
;
Jing Li
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Actuators;
Windup;
Simulation;
Process control;
Inspection;
Manufacturing;
Acceleration;
6.
Machine Learning Hotspot Prediction Significantly Improve Capture Rate on Wafer
机译:
机器学习热点预测显着提高了晶圆上的捕获率
作者:
Wei Yuan
;
Yifei Lu
;
Ming Li
;
Bingyang Pan
;
Ying Gao
;
Yu Tian
;
Zhi-qin Li
;
Liang Ji
;
Ying Huang
;
Hao Chen
;
Yueliang Yao
;
Sean Park
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Training;
Computational modeling;
Machine learning;
Resists;
Predictive models;
Tools;
7.
Front Matter
机译:
正面问题
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Conferences;
Universal Serial Bus;
Technological innovation;
Sports;
Microelectronics;
Libraries;
Integrated optics;
8.
An effective method of contour extraction for SEM image based on DCNN
机译:
基于DCNN的SEM图像轮廓提取的有效方法
作者:
Tao Zhou
;
Xuelong Shi
;
YanYan
;
Chen Li
;
Shoumian Chen
;
Yuhang Zhao
;
Wenzhan Zhou
;
Kan Zhou
;
Xuan Zeng
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Training;
Computational modeling;
Lithography;
Resists;
Machine learning;
Feature extraction;
Real-time systems;
9.
Evaluating the Process Performances of Binary, PSM and OMOG Masks in Advanced Technology Node
机译:
评估高级技术节点中二进制,PSM和OMOG MASK的过程性能
作者:
Weimei Xie
;
Yanpeng Chen
;
Shirui Yu
;
Yu Zhang
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Integrated circuits;
Simulation;
Lithography;
Resists;
Glass;
Windows;
Time-domain analysis;
10.
Investigation of A New Method to Weigh the Data Used for OPC Model Calibration
机译:
调查一种重称用于OPC模型校准的数据的新方法
作者:
Le Ma
;
Libin Zhang
;
Liwan Yue
;
Zhibiao Mao
;
Yayi Wei
;
Lisong Dong
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Resists;
Predictive models;
Data models;
Adaptive optics;
Calibration;
Root mean square;
11.
An application of Chebyshev spectral method in modeling the diffusion of the acid during PEB process
机译:
Chebyshev光谱法在PEB过程中酸扩散模拟中的应用
作者:
Pengjie Kong
;
Lisong Dona
;
Yayi Wei
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Simulation;
Partial differential equations;
Resists;
Chebyshev approximation;
Boundary conditions;
Mathematical model;
Automobiles;
12.
Novel Target Design for Thick Resist Layers Overlay Measurement Improvement
机译:
厚抗蚀剂层的新型目标设计覆盖测量改进
作者:
Chao Fang
;
Jinyu Qiu
;
Pandeng Xuan
;
Yaobin Feng
;
Lingyi Guo
;
Jiahui He
;
Jincheng Pei
;
Gang Xu
;
Jin Zhu
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Measurement uncertainty;
Resists;
Metrology;
Robustness;
Servers;
Thickness measurement;
Strain;
13.
Real time process monitoring using diffraction-based overlay measurements from YieldStar
机译:
使用衍射的覆盖测量从产量开始进行实时过程监控
作者:
Henry Chen
;
Jimmy Chang
;
Sheng-Tsung Tsao
;
Junjun Zhang
;
Jie Du
;
Congcong Fan
;
Alex Huang
;
David Xu
;
Sam Liu
;
Liang Wu
;
Kimi Yang
;
Ning Gu
;
Liping Ren
;
Jian Wu
;
Alexander Tan
;
Sunny Xia
;
Ivan Mao
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Process monitoring;
Semiconductor device measurement;
Predictive models;
Real-time systems;
Manufacturing;
Velocity measurement;
14.
The impact of lenses aberration on CD and position for low kl lithography
机译:
镜片像差对低KL光刻的CD和位置的影响
作者:
Tie Li
;
Hsuan-Cheng Lai
;
Jie Xu
;
Xiaodong Meng
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Optical diffraction;
Lithography;
Lighting;
Numerical models;
Pupils;
Lenses;
15.
Reducing Systematic Defects using Calibre Wafer Defect Engineering and Machine Learning Solutions
机译:
使用口径晶圆缺陷工程和机器学习解决方案减少系统缺陷
作者:
Jet Jiang
;
Frank Hou
;
Gavin Li
;
Summy Chen
;
Marfei Fei
;
Qian Xie
;
Liang Cao
;
Qijian Wan
;
Xinyi Hu
;
Chunshan Du
;
David Wang
;
Elven Huang
;
Sankaranarayanan Paninjath
;
Saikiran Madhusudhan
;
Leo Tian
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Systematics;
Machine learning;
Inspection;
Feature extraction;
Software;
Manufacturing;
Qualifications;
16.
Machine Learning Virtual SEM Metrology
机译:
机器学习虚拟SEM Metrology
作者:
Yan Yan
;
Xuelong Shi
;
Tao Zhou
;
Bowen Xu
;
Chen Li
;
Yifei Lu
;
Ying Gao
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Visualization;
Neural networks;
Lithography;
Metrology;
Tools;
Throughput;
Physics;
17.
Mask Optimization based on artificial desired pattern
机译:
基于人工所需图案的掩模优化
作者:
Fei Peng
;
Chengqun Gui
;
Yi Song
;
Yijiang Shen
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Simulation;
Lithography;
Low-pass filters;
Predistortion;
High frequency;
Optimization;
Signal resolution;
18.
A novel SEM image based advanced lithography process control providing quick feedback
机译:
基于SEM图像的新型SEM图像高级光刻过程控制,提供快速反馈
作者:
Xuedong Fan
;
Lijun Chen
;
Jun Zhu
;
Haichang Zheng
;
Xiaolong Wang
;
Yancong Ge
;
Yu Zhang
;
Abhishek Vikram
;
Guojie Cheng
;
Hui Wang
;
Qing Zhang
;
Wenkui Liao
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Scanning electron microscopy;
Lithography;
Process control;
Tools;
Stability analysis;
Reliability;
Monitoring;
19.
Ultrafast and Accurate Proximity Effect Correction of Large-Scale Electron Beam Lithography based on FMM and SaaS
机译:
基于FMM和SaaS的大型电子束光刻的超快和精确的接近效应校正
作者:
Chengyang Hou
;
Wenze Yao
;
Wei Liu
;
Yiqin Chen
;
Huigao Duan
;
Jie Liu
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Electron beams;
Software as a service;
Lithography;
Proximity effects;
Tools;
Central Processing Unit;
Time complexity;
20.
Preliminary Round of OPC Development in 180nm node Silicon Photonics MPW platform
机译:
180nm节点硅光子模型MPW平台初级OPC开发初步回调
作者:
Zengzhi Huang
;
Zhenguo Zheng
;
Shijie Chen
;
Junbo Feng
;
Weiran Huang
;
Guowei Cao
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Quantum computing;
Wavelength division multiplexing;
Silicon;
Production facilities;
Optical sensors;
Photonics;
21.
Fast mask near-field calculation using fully convolution network
机译:
使用完全卷积网络的快速面具近场计算
作者:
Jiaxin Lin
;
Lisong Dong
;
Taian Fan
;
Xu Ma
;
Rui Chen
;
Yayi Wei
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Solid modeling;
Extreme ultraviolet lithography;
Three-dimensional displays;
Convolution;
Diffraction;
Task analysis;
Testing;
22.
Overlay mark sub structure design to improve the contrast
机译:
覆盖标记子结构设计改善对比度
作者:
Libin Zhang
;
Cong Lu
;
Yaobin Feng
;
Yayi Wei
;
Xiaojing Su
;
Le Ma
;
Lisong Dong
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Image recognition;
Conferences;
Lithography;
Metrology;
Tools;
Robustness;
23.
Photoresist for Extreme Ultraviolet Lithography
机译:
极端紫外线光刻的光致抗蚀剂
作者:
Peipei Tao
;
Li Sheng
;
Qianqian Wang
;
Hao Cui
;
Xiaolin Wang
;
Xiangming He
;
Hong Xu
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Nanoparticles;
Extreme ultraviolet lithography;
Ultraviolet sources;
Resists;
Glass;
Polymers;
Automobiles;
24.
Alternative tip- and laser- based nanofabrication up to 100 mm on flat and non-flat surfaces with subnanometre precision
机译:
替代的尖端和激光的纳米制剂高达100毫米的平坦和非平坦表面,具有亚畴精确度
作者:
Eberhard Manske
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Atomic measurements;
Nanofabrication;
Measurement by laser beam;
Surface emitting lasers;
Writing;
Position measurement;
Probes;
25.
OPO Measurement Improvement in Advanced DRAM with Tunable Wavelength Imaging
机译:
具有可调谐波长成像的高级DRAM的OPO测量改进
作者:
Yunsheng Xia
;
Rui Qin
;
Andy Lan
;
Joer Huang
;
Congcong Fan
;
Shaowen Qiu
;
Dong Xue
;
Dashuai Tao
;
Kun Gao
;
Haoran Li
;
Shu Lu
;
Hongpeng Su
;
Linfei Gao
;
Jinyan Song
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Heating systems;
Phase measurement;
Wavelength measurement;
Random access memory;
Lighting;
Position measurement;
Research and development;
26.
3M Immobilized Micro-Bed Ion Exchange Resin Bed Technology Treatment of PGMEA
机译:
3M固定化微床离子交换树脂床技术治疗PGMEA
作者:
Garry Wang
;
Majid Entezarian
;
Bob Gieger
;
Dean Wu
会议名称:
《International Workshop on Advanced Patterning Solutions》
|
2020年
关键词:
Solvents;
Chemistry;
Sodium;
Metals;
Ions;
Resins;
Standards;
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