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Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA
Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA
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1.
Spectroscopic Ellipsometric Scatterometry: Sources of Errors in Critical Dimension Control
机译:
光谱椭偏散射法:关键尺寸控制中的误差来源
作者:
Hazart J.
;
Grand G.
;
Thony P.
;
Herisson D.
;
Garcia S.
;
Lartigue O.
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
scatterometry;
CD-control;
gratings diffraction;
inverse problems;
2.
Intentional Defect Array Wafers; Their practical use in Semiconductor control and monitoring systems
机译:
故意缺陷阵列晶圆;它们在半导体控制和监视系统中的实际使用
作者:
Iraj Emami
;
Mike McIntyre
;
Michael Retersdorf
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
3.
Semiconductor wafer defect detection using digital holography
机译:
使用数字全息术的半导体晶圆缺陷检测
作者:
Mark A. Schulze
;
Martin A. Hunt
;
Edgar Voelkl
;
Joel D. Hickson
;
William Usry
;
Randall G. Smith
;
Robert Bryant
;
C. E. (Tommy) Thomas Jr.
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
digital holography;
semiconductor wafer defects;
semiconductor metrology;
high aspect ratio inspection (HARI);
4.
Novel Technique for Contamination Analysis around the Edge, the Bevel, and the Edge Exclusion Area of 200 and 300mm Silicon Wafers
机译:
200和300mm硅晶圆边缘,斜角和边缘排除区域周围污染分析的新技术
作者:
Chris M. Sparks
;
Carolyn F. H. Gondran
;
Patrick S. Lysaght
;
John T. Donahue
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
trace metals;
contamination;
wafer bevel analysis;
wafer edge exclusion analysis;
5.
Nanovision: a new paradigm for enabling fast optical inspection of nanoscale structures
机译:
Nanovision:一种实现纳米结构快速光学检查的新范例
作者:
Michael E. Watts
;
Rodolfo E. Diaz
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
photonics;
nanostructures;
bow tie antenna;
defect detection;
electromagnetic scattering;
6.
Neural Network Based Time Series Modeling of Optical Emission Spectroscopy Data for Fault Detection in Reactive Ion Etching
机译:
基于神经网络的光发射光谱数据时间序列建模,用于反应离子刻蚀中的故障检测
作者:
Sang Jeen Hong
;
Gary S. May
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
RIE;
OES;
PCA;
time series modeling;
neural networks;
fault detection;
7.
Successful Demonstration of a Comprehensive Lithography Defect Monitoring Strategy
机译:
成功演示综合光刻缺陷监测策略
作者:
Ingrid Peterson
;
Louis Breaux
;
Andrew Cross
;
Mike von den Hoff
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
yield management;
defect reduction;
8.
Industry Survey on Non-visual Defect Detection
机译:
非视觉缺陷检测行业调查
作者:
Carol A. Boye
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
business trends;
defect classification;
defect detection;
yield management;
non-visual defects;
9.
Development of an Electron Optical System using EB Projection Optics in Reflection Mode for EB Inspection
机译:
使用反射模式的EB投射光学系统进行EB检查的电子光学系统的开发
作者:
Yuichiro Yamazaki
;
Ichirota Nagahama
;
Atsushi Onishi
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
projection microscope;
wafer inspection;
secondary electron;
reflection electron;
charge;
10.
Defect Distribution Model Validation and Effective Process Control
机译:
缺陷分布模型验证和有效的过程控制
作者:
Lei Zhong
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
defect;
distribution validation;
lognormal;
process control;
11.
Depth profile characterization of hydrogen implanted silicon using spectroscopic ellipsometry
机译:
椭圆偏振光谱法表征氢注入硅的深度分布
作者:
Thomas Gubiotti
;
David Jacy
;
Ray J. Hoobler
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
thin film;
metrology;
ellipsometry;
SOI;
depth profile;
ion beam;
12.
Copy result exactly using EB-Scope technology
机译:
使用EB-Scope技术精确复制结果
作者:
Keizo Yamada
;
Takeo Ushiki
;
Yousuke Itagaki
;
Robert Newcomb
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
13.
In-line e-beam inspection with optimized sampling and newly developed ADC
机译:
通过优化采样和新开发的ADC进行在线电子束检查
作者:
Masami Ikota
;
Akihiro Miura
;
Munenori Fukunishi
;
Takashi Hiroi
;
Aritoshi Sugimoto
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
e-beam inspection;
defect;
voltage contrast;
auto defect classification (ADC);
14.
CD-SEM Measurement of Line Edge Roughness Test Patterns for 193 nm Lithography
机译:
193 nm光刻的线边缘粗糙度测试图案的CD-SEM测量
作者:
Benjamin D. Bunday
;
Michael Bishop
;
John S. Villarrubia
;
Andras E. Vladar
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
15.
X-ray reflectivity: a new metrology alternative for DUV ARCs
机译:
X射线反射率:DUV ARC的新计量替代
作者:
Dileep Agnihotri
;
Derek Calhoun
;
Joseph Formica
;
Joseph Harmon
;
Lance Nevala
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
anti-reflective;
ARC;
DUV;
metrology;
reflectivity;
reflectometry;
SiO_2;
SiON;
x-ray;
XRR;
16.
Sidewall structure estimation from CD-SEM for lithographic process control
机译:
CD-SEM的侧壁结构估算,用于光刻工艺控制
作者:
Philip R. Bingham
;
Jeffery R. Price
;
Kenneth W. Tobin
;
Thomas P. Karnowski
;
Marylyn H. Bennett
;
Hal Bogardus
;
Michael Bishop
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
sidewall structure;
semiconductor manufacturing;
content-based image retrieval;
critical dimension;
17.
Location of Interconnect Defects Using Focused Ion Beam (FIB)-Induced Voltage Contrast and Subsequent In-situ FIB Cross-Sectioning and Auger Electron Analysis in the Physical Electronics 200/300 mm SMART-Tool
机译:
在物理电子设备200/300 mm SMART-Tool中使用聚焦离子束(FIB)引起的电压对比以及随后的原位FIB横截面和俄歇电子分析来确定互连缺陷
作者:
Carolyn F. H. Gondran
;
Dennis F. Paul
;
Kenton D. Childs
;
Laurie G. Dennig
;
Gregory C. Smith
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
voltage contrast;
focused ion beam (FIB);
auger electron spectroscopy (AES);
full wafer;
18.
LithoCell-Integrated Critical Dimension Metrology
机译:
LithoCell集成临界尺寸计量
作者:
J. Broc Stirton
;
Clint Miller
;
Anita Viswanathan
;
Makoto Miyagi
;
Lawrence Lane
;
Michael Laughery
;
Tarun Parikh
;
KC Chan
;
Apo Sezginer
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
scatterometry;
integrated metrology;
19.
In-Line measurement characterization for multi-layers film stack of SiGe by Advance Spetroscopy Ellipsometer
机译:
先进光谱仪椭偏仪在线测量SiGe多层膜叠层的特性
作者:
Jay Chen
;
Arun Srivatsa
;
Chin Cheng Chien
;
Tony Liu
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
SEG(selective epitaxial growth);
XRD(X-ray diffraction);
RBS(rutherford backscattering spectrometry);
SIMS(secondary ion mess spectrometry);
20.
COPs/particles discrimination using an automated surface inspection tool
机译:
使用自动表面检查工具识别COP /颗粒
作者:
Gabriele Lorenzi
;
Kim Hung Nguyen
;
Cristina Sanna
;
Roberta Orizio
;
Gabriella Borionetti
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
SP1;
COP;
crystal defects;
defects detection;
defects classification;
RTDC;
surface scanning system;
21.
Complete monitoring strategy to quantify matching and performance for multiple CDSEM in advanced fab
机译:
完整的监控策略,可量化先进晶圆厂中多个CDSEM的匹配和性能
作者:
Pey-Yuan Lee
;
Chi-Shen Lo
;
Yi-Hung Chen
;
Thomas Teng
;
Steven Fu
;
Mico Chu
;
Jason Yee
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
CD SEM;
CD matching;
precision;
carryover;
22.
Characterization and Reduction of Copper Chemical Mechanical Polishing Induced Scratches
机译:
铜化学机械抛光引起的划痕的表征和减少
作者:
Tai Yong Teo
;
Wang Ling Goh
;
Lup San Leong
;
Victor Seng Keong Lim
;
Tak Yan Tse
;
Lap Chan
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
chemical mechanical polishing;
copper;
slurry;
abrasives;
alumina;
silica;
scratches;
microscratches;
defects;
23.
Advanced ASIC Defect Control
机译:
先进的ASIC缺陷控制
作者:
Chuck May
;
John Knoch
;
Roger Young
会议名称:
《Conference on Process and Materials Characterization and Diagnostics in IC Manufacturing Feb 27-28, 2003 Santa Clara, California, USA》
|
2003年
关键词:
defects;
system on a chip (SOC);
yield improvement;
integrated yield management;
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