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Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA
Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA
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1.
Corrective actions for stainless steel particle related burn-in failures
机译:
不锈钢颗粒相关的老化故障的纠正措施
作者:
Ana Sacedon
;
Jesus Inarrea
;
Manuel Alvarez
;
Pilar Prieto
;
Jose C.Plaza
;
Jose L.Hernandez
;
Carlos Martinez
;
Salvador Fernandez
;
Pablo S.Dominguez
;
Jose P.Gonzalez
;
Manuel Larran
;
Carlos Mata
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Microelectronic;
burn-in;
stainless steel;
particle;
inspection;
back-side control automatic defect classification;
filter;
maintenance;
material design.;
2.
Characterization of copper oxidation and reduction using spectroscopic ellipsometry
机译:
光谱椭偏法表征铜的氧化和还原
作者:
Ron Powell
;
Derryck Settles
;
Larry Lane
;
Carlos
;
Ygartua
;
Arun Srivatsa
;
Clive Hayzelden
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Ellipsometry;
surface analysis;
copper;
oxidation;
microelectronics;
3.
Towards 100
机译:
迈向100
作者:
M.Recio
;
M.A.Merino
;
C.Mata
;
V.Martin
;
J.A.Ayucar
;
J.Moreno
;
A.Godino
;
A.Lorenzo
;
A.Sacedon
;
R.Fernandez
;
C.Morilla
;
J.Inarrea
;
M.Alvarez
;
A.Fernarez
;
A.Fernandez
;
K.Therryl C.Mateos
;
G.Gonzalez
;
S.Crueta
;
J.Castano
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
4.
Why single machine processing overlay still fails? Reticle interference effect and our solution on IC foundry fab
机译:
为什么单机处理覆盖仍然失败?光罩干扰效应及我们对IC代工厂的解决方案
作者:
H.M.Sheng
;
C.C.Kuoe
;
L.G.Terng
;
D.S.Cheng
;
Y.H.Liao
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
5.
Real time yield checks at Wafer Test
机译:
晶圆测试中的实时良率检查
作者:
Rodriguez Enrique
;
Cano Carlos
;
Sanchez-Vicente. Javier
;
Moreno. Julian
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
statistical bin limits;
test repeatability;
wafer probe;
testing;
6.
Raman Spectroscopy - a multi-functional analysis tool for microelectronics manufacturing
机译:
拉曼光谱法-用于微电子制造的多功能分析工具
作者:
Lynette K.Ballast
;
Tim Z.Hossain
;
Alan Campion
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Raman spectroscopy;
thin films;
defect analysis;
nondestructive chemical analysis;
phase transformations, contamination identification;
cobalt silicide;
polysilicon;
7.
Reliability Certificiation of Semiconductor Devices using Goldthwaite Diagrams
机译:
使用Goldthwaite图进行半导体器件的可靠性认证
作者:
Floarea Baicu
;
Sever Spanulescu
;
Anca Gheorghiu
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
bipolar semiconductor devices;
failure rate;
certification;
validation;
8.
Sensitivity of Polysilicon and Polycide Antenna MOS Capacitor to Ion Implantation Charging Effects
机译:
多晶硅和多晶硅化物天线MOS电容器对离子注入电荷效应的敏感性
作者:
Tomasz Brozek
;
Cory Norton
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
ion implantation;
charging effects;
MOS capacitor;
9.
Real-time Process Control to Prevent CD Variation Induced by Post Exposure Delay
机译:
实时过程控制可防止后期曝光延迟引起的CD变化
作者:
Chin-Yu Ku
;
Tan Fu Lei
;
Jia-Min Shieh
;
Tsann-Bim Chiou
;
Yung-Cheng Chen
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Real-time process control;
Post Exposure Delay (PED);
CD DUV;
10.
Study of nonlinear optical properties of SiC nanocrystallites
机译:
SiC纳米微晶的非线性光学性质研究
作者:
K.J.Plucinski
;
I.V.Kityk
;
A.Kassiba
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
SiC anaocrystallites;
Nonlinear optical measurements;
Photoinduced phenomena;
11.
Structure and electronic properties of silicon oxynitride as gate dielectric
机译:
氮氧化硅作为栅极电介质的结构和电子性能
作者:
K.J.Plucinski
;
I.V.Kityk
;
B.Sahraoui
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Oxynitrides;
Molecular dynamic simulation;
12.
Fast, Wafer-Level Detection and Control of Interconnect Reliability
机译:
快速,晶圆级检测和互连可靠性控制
作者:
S.Foley
;
J.Molyneaux
;
A.Mathewson
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Electromigration;
Stress-voids;
interconnect;
reliability;
wafer-level;
detection;
control;
13.
Influence of pre-annealing on residual stresses in boron doped LPCVD polysilicon film
机译:
预退火对掺硼LPCVD多晶硅膜中残余应力的影响
作者:
Longqing Chen
;
Jianmin Miao
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Polysilicon thin film;
residual stress;
pre-annealing;
boron doping;
14.
Maturity assessment of 300mm etch equipment
机译:
300mm蚀刻设备的成熟度评估
作者:
Karl Mautz
;
Thomas Morgenstern
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Semiconductor;
300mm wafer processing;
Plasma etching;
Oxide and dielectric layer etching;
Polysilicon etching;
Metal etching;
In situ stripping;
Ash processing;
15.
A new method for determining the optical properties of thin films by reflectometry
机译:
用反射法测定薄膜光学性能的新方法
作者:
John F.Bohland
;
Edward K.Pavelchek
;
Charles R.Szmanda
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Refractive index;
n, k, reflectometry;
16.
Off-line Wafer Level Reliability Control: Unique measurement method to monitor the lifetime indicator of gate oxide validated within Bipolar/CMOS/DMOS technology
机译:
离线晶圆级可靠性控制:独特的测量方法,可监控双极/ CMOS / DMOS技术中验证的栅极氧化物的寿命指标
作者:
X.Grgnard
;
O.Bonnaud
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
WLRC;
gate oxide;
BCD technology;
lifetime indicator;
reliability;
17.
Planarization Process of BPSG: Capillary vs. Centrifugal/Gravitational Forces
机译:
BPSG的平面化过程:毛细管力与离心力/重力
作者:
Baw-Ching Perng
;
Kung Linliu
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
BPSG reflow;
planarization;
leveling;
capillary force;
centrifugal force;
18.
Rapid X-Ray reflectometry (XRR) metrology applied to Cu/low-k Damascene process development
机译:
快速X射线反射仪(XRR)计量学应用于Cu /低k镶嵌工艺的开发
作者:
William C.Johnson
;
Ron Powell
;
Lou Koppel
;
Erich Klawuhn
;
Tarek Suwwan de Felipe
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
copper XRR;
Damascene;
interconnect;
X-ray;
thin films;
surface analysis;
microelectronics;
19.
Discolored bondpads caused by aluminum hydroxide formation
机译:
氢氧化铝形成导致键合垫变色
作者:
Wu Zong Min
;
Oh Chong Khiam
;
Neo Soh Ping
;
Shailesh Redkar
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Discolored bondpad;
aluminum hydroxide;
20.
Deep-ultraviolet scatterometry for nanoparticle detection
机译:
深紫外散射法用于纳米粒子检测
作者:
Benjamin D.Buckner
;
E.D.Hirleman
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
surface inspection;
defect detection;
nanoparticles;
ultraviolet light scattering;
21.
Effect of Registration and Proximity Effect in Split-Gate Flash Device
机译:
分割门闪存器件中的配准效应和邻近效应
作者:
J.Y.Chiou
;
D.F.Huang
;
C.L.Liu
;
C.C.Hung
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Flash;
Registration;
Overlay;
Proximity;
OPC;
SERIF;
CD;
22.
Feasibility and applicability of integrated metrology using spectroscopic ellipsometry in a cluster tool
机译:
在群集工具中使用光谱椭圆偏光法进行集成计量的可行性和适用性
作者:
Pierre Boher
;
Christopher
;
Pickering
;
Alexandre Tarnowka
;
Jean-Philippe Piel
;
Patrick Evrard
;
Jean-Louis Stehle
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
integrated metrology;
spectroscopic ellipsometry;
in-situ cluster tool;
SiGe;
23.
Critical Dimension Control of 0.18umm Logic with Dual Polysilicon Gate
机译:
采用双多晶硅栅极的0.18um逻辑的临界尺寸控制
作者:
Kung Linliu
;
Yu-I Wang
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Dual gate;
Deep UV(DUV) lithography;
anti-reflective coating (ARC);
BARC;
critical dimension (CD);
etching bias;
polysilicon gate;
PMOS;
NMOS;
24.
An Automated Alignment Scheme for In-line Defect Data
机译:
在线缺陷数据的自动比对方案
作者:
Julie Segal
;
Tom Ho
;
Arman Sagatelian
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
25.
Real-time control of photoresist thickness uniformity during the bake process
机译:
烘烤过程中光刻胶厚度均匀性的实时控制
作者:
Lee Lay Lay
;
Charles Schaper
;
Ho Weng Khuen
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Model predictive control;
multi-wavelength spectrometer;
temperature control;
resist thickness;
softbake;
26.
Helical sensitive elements with layered filling
机译:
分层填充的螺旋敏感元素
作者:
Andrey A.Yelizarov
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Helical Sensitive element;
Slow Electromagnetic Wave;
Layered Structure;
Nondestructive Control;
27.
Triant model applied to Tegal 90X etchers as an integrated process control module
机译:
Triant模型作为集成过程控制模块应用于Tegal 90X蚀刻机
作者:
Morris Muller
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Scrap reduction;
anti-scrap;
fault detection;
process control;
cost reduction;
28.
Sub-resolution process windows and yield estimation technique based on detailed full-chip CD simulation
机译:
基于详细的全芯片CD模拟的亚分辨率处理窗口和良率估算技术
作者:
Yuri Granik
;
Nick Cobb
;
Emile Sahouria
;
Olivier Toublan
;
luigi Capodieci
;
Robert Socha
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
29.
Small Signal ac-Surface Photovoltage Technique for Non-Contact Monitoring of Near Surface Doping for IC-processing
机译:
小信号交流表面光电压技术用于非接触式监测IC处理的近表面掺杂
作者:
D.Marinskiy
;
J.Lagowski
;
M.Wilson
;
L.Jastrzebski
;
R.Santiesteban
;
Kim Elshot
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
surface photovoltage;
surface doping;
ion implantation;
30.
Formation mechanism of sub-micron poly-Si surface defects
机译:
亚微米多晶硅表面缺陷的形成机理
作者:
Shani Keysar
;
Noah
;
Shafry
;
Ilan Rabinovitch
;
Rafi Mor
;
Marcelo Wolovelsky
;
Denny Hannan
;
Zohar Neidik
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Poly-Si surface defects;
EPROM;
humidity;
drying;
wet operations;
31.
Introduction of a Fault Detection and Predictive Maintenance Program Using SEMY Statistical Machine Control~TM (SMC)
机译:
使用SEMY Statistics Machine Control〜TM(SMC)引入故障检测和预测性维护程序
作者:
Tammie Ogasawara
;
Brian Izzio
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Statistical Machine Control;
Fault Detection;
Predictive Maintenance;
32.
High Density Plasma FSG Charging Damage
机译:
高密度等离子FSG充电损坏
作者:
T.C.Ang
;
M.S.Tse
;
S.Y.Loong
;
Y.C.Wong
;
W.B.Loh
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Plasma induced charging damage;
Antenna test structures;
Area-intensive;
Edge-intensive;
Antenna ratios;
Gate leakage;
Threshold voltage shift;
33.
Lithography overlay controller formulation
机译:
光刻叠加控制器公式
作者:
Christopher A Bode
;
Anthony J.Toprac
;
Richard D.Edwards
;
Thomas F.Edgar
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Lithography overlay;
run-to-run control;
control threads;
Linear Model Predictive Control;
34.
Modeling and Control of Thermocouples for Reduced Measurement Uncertainty in Diffusion Furnaces
机译:
减少扩散炉中测量不确定度的热电偶建模与控制
作者:
Mark E.Yelverton
;
Michael J.McBride
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
thermocouple;
sensor;
temperature measurement;
semiconductor;
diffusion furnace;
thermocouple drift;
decalibration;
35.
New Overlay Pattern Design for Real-time Focus and Tilt Monitor
机译:
实时聚焦和倾斜监视器的新型叠加模式设计
作者:
Chin-Yu Ku
;
Tan Fu Lei
;
Jia-Min Shieh
;
Tsann-Bim Chiou
;
Hwang-Kuen Lin
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Real-time process control;
bar-in-bar (BIB), focus;
tilt;
36.
A Technique of Electrical Beam Treatment Leading to an Accurate and Reliable Critical Dimension Metrology Measurement on a Post-etch Layer
机译:
电束处理技术,可在蚀刻后层上进行准确,可靠的临界尺寸度量衡测量
作者:
Gary X.Cao
;
Nacy J.Wheeler
;
Alan S.Wong
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Metrology;
CD-SEM;
CD;
SEM;
profile;
image;
accuracy reliability;
robustness;
automation;
37.
Adaptive control of multiple product processes
机译:
多种产品过程的自适应控制
作者:
Alexander J.Pasadyn
;
Anthony J.Toprac
;
Thomas F.Edgar
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
chemical-mechanical planarization;
run-to-run control;
adaptive control;
38.
A special simulator to study metast ability
机译:
用于研究元能力的特殊模拟器
作者:
Mary Sue Haydt
;
Samiha Mourad
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Metastability;
CMOS;
39.
Photo developing defect and developing-like defect on DUV process
机译:
DUV工艺中的显影缺陷和类似显影的缺陷
作者:
H.M.Sheng
;
C.C.Kuoe
;
L.G.Terng
;
D.S.Cheng
;
Y.H.Liao
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
40.
Design and reliability aspects of multi-level-metal large-scale-power line layouts in ULSI-ICs
机译:
ULSI-IC中多级金属大型电源线布局的设计和可靠性方面
作者:
Peter Jacob
;
Giovanni Nicoletti
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
|
2000年
关键词:
Reliability;
Thermal Stress;
ILD-failures;
ULSI-design;
41.
Evaluation techniques for 300mm equipment
机译:
300mm设备的评估技术
作者:
Karl Mautz
;
Thomas Morgestern
;
Ralf Schuster
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
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2000年
关键词:
Semiconductor;
Semiconductor equipment;
300 mm wafers;
CoO;
Automation;
CIM;
Process capability;
Reliability;
Factory modeling;
Defectivity;
42.
Electrical reliability of conductive adhesive joints: curing condition and current density dependence
机译:
导电胶接头的电气可靠性:固化条件和电流密度依赖性
作者:
H.K.Kim
;
H.Zhou
;
S.Chungpaiboonpatana
;
F.G.Shi
;
S.Machuga
;
J.Adam
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
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2000年
关键词:
Conductive adhesive;
Ag/Ag-Cu filler;
cure degree;
current density;
contact resistance;
43.
Fault Detection in CMOS Manufacturing Using MBPCA
机译:
使用MBPCA的CMOS制造中的故障检测
作者:
S.Lachman-Shalem
;
N.Haimovitch
;
E.N.Shauly
;
D.R.Lewin
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
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2000年
关键词:
CMOS device fabrication;
model based fault diagnosis;
Model-based PCA;
44.
Feed-Forward Control for a lithography/Etch Sequence
机译:
光刻/蚀刻序列的前馈控制
作者:
Richard Ochsner
;
Thomas Tschaftary
;
Stefan Sommer
;
Lothar Pfitzner
;
Heiner Ryssel
;
Harald Gerath
;
Christine Baier
;
Martin Hafner
会议名称:
《Conference on Process Control and Diagnostics 18-19 September 2000 Santa Clara, USA》
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2000年
关键词:
advanced process control;
run-to-run control;
feed-forward;
lithography/etch sequence;
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