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Advances in Resist Technology and Processing XV
Advances in Resist Technology and Processing XV
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1.
Positive bilayer resists for 248- and 193-nm lithography
机译:
用于248和193 nm光刻的正双层抗蚀剂
作者:
Author(s): Ratnam Sooriyakumaran IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Gregory M. Wallraff IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Carl E. Larson IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Debra Fenzel-Alexander IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Richard A. DiPietro IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Juliann Opitz IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Donald C. Hofer IBM Almaden Research Ctr. San Martin CA USA
;
Douglas C. LaTulip Jr. IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
John P. Simons IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Karen E. Petrillo IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Katherina Babich IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Marie Angelopoulos IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Qinghuang Lin IBM Microelectronics Div. Hopewell Jct NY USA
;
Ahmad D. Katnani IBM Microelectronics Div. Hopewell Jct NY USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
2.
Recent advantages of bilevel resists based on silsesquioxane for ArF lithography
机译:
基于倍半硅氧烷的双水平抗蚀剂在ArF光刻方面的最新优势
作者:
Author(s): Taku Morisawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Nobuyoki N. Matsuzawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Shigeyasu Mori Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Yuko Kaimoto Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Masayuki Endo Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Takeshi Ohfuji Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Japan
;
Koichi Kuhara Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Masaru Sasago Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama-shi Kanagawa Japan.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
3.
Application of a bilayer silylated resist process in volume production
机译:
双层硅烷化抗蚀剂工艺在批量生产中的应用
作者:
Author(s): Robert Franzen Siemens AG Regensburg Germany
;
Andreas Grassmann Siemens AG Regensburg Germany
;
Markus Kirschinger Siemens AG Regensburg Germany
;
Thorsten Schedel Siemens AG Regensburg Germany
;
Harald Wiedenhofer Siemens AG Regensburg Germany
;
Markus Witte Siemens AG Regensburg Germany.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
4.
Extension of 248-nm optical lithography: a thin film imaging approach
机译:
扩展248 nm光刻技术:薄膜成像方法
作者:
Author(s): Qinghuang Lin IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Jct NY USA
;
Ahmad D. Katnani IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Jct NY USA
;
Timothy A. Brunner IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Charlotte DeWan IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Cindy Fairchok IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Douglas LaTulipe IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
John P. Simons IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Karen E. Petrillo IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Katherina Babich IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
David E. Seeger IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Marie Angelopoulos IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
Ratnam Sooriyakumaran IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Gregory M. Wallraff IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Donald C. Hofer IBM Almaden Research Ctr. San Martin CA USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
5.
Novel antireflective structure for metal layer patterning
机译:
用于金属层构图的新型抗反射结构
作者:
Author(s): Sang-Soo Choi Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejeon South Korea
;
Han Sun Cha Hanyang Univ. Seoul South Korea
;
Jong-Soo Kim Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejon South Korea
;
Jong Mun Park Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejon South Korea
;
Doh H. Kim Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejon South Korea
;
Kag Hyeon Lee Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejeon South Korea
;
Jin-Ho Ahn Hanyang Univ. Seoul South Korea
;
Hai Bin Chung Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejon South Korea
;
Bo Woo Kim Electronics and Telecommunications Research Institute Yusong Taejon South Korea.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
6.
Novolak resin analogs for resist applications
机译:
适用于抗蚀剂的Novolak树脂类似物
作者:
Author(s): Stanley F. Wanat Clariant Corp. Somerville NJ USA
;
Kathryn H. Jensen Clariant Corp. Edison NJ USA
;
Ping-Hung Lu Clariant Corp. Bridgewater NJ USA
;
Douglas S. McKenzie Clariant Corp. Somerville NJ USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
7.
193-nm single-layer photoresists based on alternating copolymers of cycloolefins: the use of photogenerators of sulfamic acids
机译:
基于环烯烃交替共聚物的193 nm单层光致抗蚀剂:氨基磺酸光发生剂的使用
作者:
Author(s): Francis M. Houlihan Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Janet M. Kometani Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Allen G. Timko Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Richard S. Hutton Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Raymond A. Cirelli Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Elsa Reichmanis Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Omkaram Nalamasu Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
A.Gabor Olin Microelectronic Materials Inc. East Providence RI USA
;
Arturo Medina Olin Microelectronic Materials Inc. East Providence RI USA
;
J.Biafore Olin Microelectronic Materials Inc. East Providence RI USA
;
Sydney G. Slater Olin Microelectronic Materials Inc. East Providence RI USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
8.
Application of plasma-polymerized methylsilane for 0.18-um photolithography
机译:
等离子体聚合的甲基硅烷在0.18um光刻中的应用
作者:
Author(s): Cedric Monget France Telecom CNET/DTM Meylan Cedex France
;
Carol Y. Lee Intel Corp. Santa Clara CA USA
;
Olivier P. Joubert France Telecom CNET/DTM and CNRS-LPCM-IMN Meylan Cedex France
;
Gilles R. Amblard CNET/SGS-Thomson Meylan Cedex France
;
Timothy W. Weidman Applied Materials Santa Clara CA USA
;
Dian Sugiarto Applied Materials Santa Clara CA USA
;
John Yang Intel Corp. Santa Clara CA USA
;
F.Cormont France Telecom CNET/DTM Meylan Cedex France
;
R.L. Inglebert Univ. dOrleans Orleans Cedex 2 France.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
9.
Reactive ion etching of 193-nm resist candidates: current platforms and future requirements
机译:
193 nm抗蚀剂候选物的反应性离子刻蚀:当前平台和未来要求
作者:
Author(s): Thomas I. Wallow IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Phillip J. Brock IBM Almaden Research Ctr. Sunnyvale CA USA
;
Richard A. DiPietro IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Robert D. Allen IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Juliann Opitz IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Ratnam Sooriyakumaran IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Donald C. Hofer IBM Almaden Research Ctr. San Martin CA USA
;
Jeff Meute SEMATECH Austin TX USA
;
Jeffrey D. Byers SEMATECH Austin TX USA
;
Georgia K. Rich SEMATECH Austin TX USA
;
Martin McCallum SEMATECH Austin TX USA
;
S.Schuetze SEMATECH Austin TX USA
;
Saikumar Jayaraman BFGoodrich Brecksville OH USA
;
K.Hullihen BFGoodrich Brecksville OH USA
;
Richard Vicari BFGoodrich Brecksville OH USA
;
Larry F. Rhodes BFGoodrich Brecksville OH USA
;
Brian L. Goodall BFGoodrich Brecksville OH USA
;
Robert A. Shick BFGoodrich Brecksville OH USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
10.
Taguchi method applied in optimization of Shipley SJR 5740 positive resist deposition
机译:
Taguchi方法在Shipley SJR 5740正性抗蚀剂沉积优化中的应用
作者:
Author(s): Allan P. Hui Jet Propulsion Lab. Seattle WA USA
;
Julian O. Blosiu Jet Propulsion Lab. Pasadena CA USA
;
Dean V. Wiberg Jet Propulsion Lab. Pasadena CA USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
11.
Theoretical calculations of silylation reaction of photoresists
机译:
光刻胶甲硅烷基化反应的理论计算
作者:
Author(s): Nobuyoki N. Matsuzawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Shigeyasu Mori Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Taku Morisawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Yuko Kaimoto Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Masayuki Endo Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Takeshi Ohfuji Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Japan
;
Koichi Kuhara Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Masaru Sasago Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama-shi Kanagawa Japan.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
12.
Chemically amplified resist technology for i-line applications
机译:
用于i-line应用的化学放大抗蚀剂技术
作者:
Author(s): Medhat A. Toukhy Olin Microelectronic Materials North Kingstown RI USA
;
Sanjay Malik Olin Microelectronic Materials E Providence RI USA
;
Andrew J. Blakeney Olin Microelectronic Materials East Providence RI USA
;
Karin R. Schlicht Olin Microelectronic Materials East Providence RI USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
13.
Novel approach to surface imaging
机译:
表面成像的新方法
作者:
Author(s): Mark A. Spak Clariant Corp. Somerville NJ USA
;
Fred Mohr Clariant Corp. Somerville NJ USA
;
Ronald Bradbury Clariant Corp. Raleigh NC USA
;
Ralph R. Dammel Clariant Corp. Somerville NJ USA
;
Jason W. Weigold Univ. of Michigan Ann Arbor MI USA
;
Stella W. Pang Univ. of Michigan Ann Arbor MI USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
14.
High-silicon-concentration TSI process for 193-nm lithography
机译:
用于193 nm光刻的高硅浓度TSI工艺
作者:
Author(s): Shigeyasu Mori Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Taku Morisawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Nobuyoki N. Matsuzawa Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Yuko Kaimoto Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Masayuki Endo Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Takahiro Matsuo Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Koichi Kuhara Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Kanagawa Japan
;
Takeshi Ohfuji Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama Japan
;
Masaru Sasago Association of Super-Advanced Electronics Technologie s Yokohama-shi Kanagawa Japan.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
15.
New approach to 193-nm photoresists: polyspironorbornane polymers
机译:
193 nm光刻胶的新方法:聚螺硼硼烷聚合物
作者:
Author(s): Robert P. Meagley Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA
;
Linus Y. Park Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA
;
Jean M. Frechet Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
16.
New approaches to production-worthy 193-nm photoresists based on acrylic copolymers
机译:
基于丙烯酸共聚物的有价值的193 nm光致抗蚀剂的新方法
作者:
Author(s): Thomas I. Wallow IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Robert D. Allen IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Juliann Opitz IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Richard A. DiPietro IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Phillip J. Brock IBM Almaden Research Ctr. Sunnyvale CA USA
;
Ratnam Sooriyakumaran IBM Almaden Research Ctr. San Jose CA USA
;
Donald C. Hofer IBM Almaden Research Ctr. San Martin CA USA.
会议名称:
《Advances in Resist Technology and Processing XV》
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