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Conference on photomask technology
Conference on photomask technology
召开年:
2009
召开地:
Monterey, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
FPGA as the programmable tool for yield improvement
机译:
FPGA作为提高良率的可编程工具
作者:
Tho L. La
;
Xiao-Yu Li
;
Charles Chen
;
M. H. Wang
;
Chih-Chung Huang
;
Ching-Tsai Chang
;
Hornjaan Lin
;
Yming Tseng
;
Ian Tseng
;
You R. Wu
;
Shih Chieh Lo
;
Sam C. Y. Lin
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
dosemapper;
process variation;
uniformity;
intra-field;
yield;
performance;
2.
Adaptive OPC approach based on image simulation
机译:
基于图像仿真的自适应OPC方法
作者:
Qingwei Liu
;
Liguo Zhang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
model-based;
etch bias;
RET;
OPC;
calibre;
3.
Effect of SRAF placement on process window for technology nodes that uses variable etch bias
机译:
SRAF放置对使用可变蚀刻偏置的技术节点的工艺窗口的影响
作者:
Ahmed M. Seoud
;
Tamer M. Tawfik
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
etch process modeling;
model based retargeting;
SRAF;
process window;
OPC;
4.
Impact of Mask Roughness on Wafer Line-Edge Roughness
机译:
掩模粗糙度对晶圆线边缘粗糙度的影响
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
line-edge roughness;
LER;
mask roughness;
photomask roughness;
LER transfer function;
LTF;
5.
Challenges for the 28nm half node: Is the optical shrink dead?
机译:
28nm半节点面临的挑战:光学收缩是否已死?
作者:
J. Andres Torres
;
Oberdan Otto
;
Fedor G. Pikus
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
design for manufacturability (DFM);
Resolution enhancement techniques (RET);
optical proximity correction (OPC);
litho-friendly design (LFD);
28nm;
32nm;
source and mask optimization;
printability;
6.
Resolving contact conflict for double patterning split
机译:
解决双图案拆分的接触冲突
作者:
N.Zeggaoui
;
V.Farys
;
Y.Trouiller
;
E.Yesilada
;
F.Robert
;
J. Belledent
;
M.Besacier
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
double patterning;
split;
contact layer;
OPC;
ILT;
SMO;
7.
Back-Glass cleaning: reducing repelliclization costs by focused action
机译:
背面玻璃清洁:通过集中行动降低防喷成本
作者:
Francesca Perissinotti
;
Luca Sartelli
;
Hiroyuki Miyashita
;
Ming-Chien Chiu
;
Yu-Chang Liu
;
Hung-Chieh Chung
;
Frank Sundermann
;
Stuart Gough
;
Sonia Tourniol
;
Felix Dufaye
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
8.
Practical Application of OPC in Electrical Circuits
机译:
OPC在电路中的实际应用
作者:
M. McCallum
;
A. Tsiamis
;
S. Smith
;
A.C. Hourd
;
J.T.M. Stevenson
;
A.J. Walton
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
OPC;
corner rounding;
electrical test structure;
9.
Effective Methodology to make DFM Guide Line
机译:
制定DFM指南的有效方法
作者:
Jaeyoung Choi
;
Yeonah Shim
;
Kyunghee Yun
;
Kwangseon Choi
;
Jaewon Han
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
hot spot;
DFM;
DFM guide line;
10.
What is a good empirical model?
机译:
什么是好的经验模型?
作者:
Eldar Khaliullin
;
Yaogang Lian
;
Mark Davey
;
Xin Zhou
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
model calibration;
estimation;
uncertainty;
fisher information matrix;
cramer-rao lower bound;
11.
Fabless Company Mask Technology Approach (Fabless but not fab-careless)
机译:
无晶圆厂公司掩模技术方法(无晶圆厂,但并非无晶圆厂)
作者:
Toshiyuki Hisamura
;
Xin Wu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
fabless;
time to market;
quality;
FPGA speed uniformity;
mask defect waiver;
12.
50 nm particle removal from EUV mask blank using standard wet clean
机译:
使用标准湿法清洁从EUV掩模空白中去除50 nm颗粒
作者:
Takeya Shimomura
;
Ted Liang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
cleaning;
defect-free mask;
13.
Novel EUV mask inspection tool with 199-nm laser source and high-resolution optics
机译:
具有199 nm激光源和高分辨率光学元件的新型EUV掩模检测工具
作者:
Nobutaka Kikuiri
;
Masatoshi Hirono
;
Ryoichi Hirano
;
Tsuyoshi Amano
;
Osamu Suga
;
Hiroyuki Shigemura
;
Hideaki Hashimoto
;
Kenichi Takahara
;
Kinya Usuda
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV;
EUV mask;
pattern defect;
mask inspection;
inspection optics;
DUV;
polarization;
14.
Aerial Plane Inspection for Advanced Photomask Defect Detection
机译:
用于高级光掩模缺陷检测的飞机检查
作者:
Won Sun Kim
;
Jin Hyung Park
;
Dong Hoon Chung
;
Chan Uk Jeon
;
Han Ku Cho
;
Trent Hutchinson
;
Oscar (JeonHung) Lee
;
William Huang
;
Aditya Dayal
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
aerial plane inspection;
API;
reticle plane inspection;
RPI;
lithographic simulation;
15.
Patterning of 90nm node Flash contact hole with assist feature using KrF
机译:
使用KrF对具有辅助功能的90nm节点Flash接触孔进行构图
作者:
Yeon-Ah Shim
;
Sungho Jun
;
Jaeyoung Choi
;
Kwangsun Choi
;
Jae-won Han
;
Kechang Wang
;
John McCarthy
;
Guangming Xiao
;
Grace Dai
;
DongHwan Son
;
Xin Zhou
;
Tom Cecil
;
David Kim
;
KiHo Baik
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
sub-resolution assist feature (SRAF);
inverse lithography technology (ILT);
16.
On Comparing Conventional and Electrically Driven OPC Techniques
机译:
关于常规和电动OPC技术的比较
作者:
Dominic Reinhard
;
Puneet Gupta
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
electrical OPC;
electrically driven OPC;
performance driven OPC;
EDOPC;
17.
Revisit to aberration: A simulation study of lens aberration induced overlay misalignment and its experimental validation
机译:
重温像差:镜头像差引起的重叠失准的仿真研究及其实验验证
作者:
Hoyeon Kim
;
Sung-Woo Lee
;
Byeongcheol Lee
;
Sanghwa Lee
;
Kyoungyong Cho
;
Seong-Woon Choi
;
Chan-Hoon Park
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
lens aberration;
overlay;
lens heating;
18.
Calibration of e-beam and etch models using SEM images
机译:
使用SEM图像校准电子束和蚀刻模型
作者:
Constantin Chuyeshov
;
Jesus Carrero
;
Apo Sezginer
;
Vishnu Kamat
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask process compensation;
MPC;
model calibration;
SEM image;
contour extraction;
image-based calibration;
e-beam model;
etch model;
19.
Mask Data Prioritization based on Design Intent - II
机译:
基于设计意图的蒙版数据优先级划分-II
作者:
Masakazu Endo
;
Kokoro Kato
;
Tadao Inoue
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask data rank (MDR);
design intent;
mask DFM;
MDP;
20.
Reduced basis method for computational lithography
机译:
计算光刻的简化基方法
作者:
Jan Pomplun
;
Lin Zschiedrich
;
Sven Burger
;
Frank Schmidt
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
inspection;
computational lithography;
reduced basis;
model order reduction;
optical proximity correction;
scatterometry;
21.
Efficient Analysis of Three Dimensional EUV Mask Induced Imaging Artifacts Using the Waveguide Decomposition Method
机译:
使用波导分解法对三维EUV掩模诱发的成像伪像进行高效分析
作者:
Feng Shao
;
Peter Evanschitzky
;
Tim Fuhner
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
simulation;
masks topography;
mask induced aberration;
22.
Study of EUVL mask defect inspection using 199-nm inspection tool with super resolution method
机译:
使用超分辨率方法的199 nm检测工具进行EUVL掩模缺陷检测的研究
作者:
Hiroyuki Shigemura
;
Tsuyoshi Amano
;
Yukiyasu Arisawa
;
Osamu Suga
;
Hideaki Hashimoto
;
Masanori Saito
;
Masaya Takeda
;
Nobutaka Kikuiri
;
Ryoichi Hirano
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUVL mask;
mask defect;
mask inspection;
199nm;
polarization;
hp-27nm node;
23.
Model-Based Hints for Litho-Hotspots Repair
机译:
基于模型的光刻热点修复技巧
作者:
Yue Yang
;
Marko Chew
;
Toshikazu Endo
;
Mark Simmons
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
litho hotspot;
design layout;
litho hotspot repair;
region query;
feature model;
24.
Feasibility study of the approach to Flare, Shadowing, Optical and Process corrections for EUVL OPC
机译:
EUVL OPC的光晕,阴影,光学和工艺校正方法的可行性研究
作者:
Peter Nikolsky
;
Natalia Davydova
;
Koen van Ingen Schenau
;
Paul van Adrichem
;
Eric Hendrickx
;
Gian Lorusso
;
Jiong Jiang
;
Wei Liu
;
Huayu Liu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV;
modeling;
accuracy;
OPC;
CDU budget;
flare;
shadowing;
MDP;
NXE3100;
ADT;
25.
New analysis tools and processes for mask repair verification and defect disposition based on AIMS? images
机译:
基于AIMS的掩模修复验证和缺陷处置的新分析工具和过程?图片
作者:
Rigo Richter
;
Eric Poortinga
;
Thomas Scheruebl
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
photomask;
repair;
AIMS;
CD control;
aerial image;
mask defect disposition;
26.
Reducing the shot counts of mask writing with OPC by extracting repeating patterns
机译:
通过提取重复图案减少OPC掩膜写入的镜头数量
作者:
Masahiro Shoji
;
Tadao Inoue
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
DFM;
OPC;
mask writing;
character projection;
27.
Improved Particle Control by Adopting Advanced Ceramic Materials in Dry Etcher for Defect Reduction
机译:
在干式蚀刻机中采用先进的陶瓷材料改善缺陷控制,以减少缺陷
作者:
Dong-Soo Min
;
Guen-Ho Hwang
;
Dong-Heck Lee
;
Sang-Soo Choi
;
Hyo-Seok Son
;
Hyung-Jae Lee
;
Seung-Mun Son
;
Kyung-Ho Park
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
yttria;
defect;
alumina;
plasma;
28.
Noble approach for mask-wafer measurement by Design-based metrology integration system
机译:
基于设计的计量集成系统进行掩模晶圆测量的高尚方法
作者:
Hiroaki Mito
;
Katsuya Hayano
;
Tatsuya Maeda
;
Hiroshi Mohri
;
Hidetoshi Sato
;
Ryoichi Matsuoka
;
Shigeki Sukegawa
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
OPC;
CD-SEM;
DesignGauge;
contour;
correlation;
R~2 value;
29.
OPC model space approach to in-line process monitoring structures
机译:
在线过程监控结构的OPC模型空间方法
作者:
Romuald Sabatier
;
Antonio Di Giacomo
;
Caroline Fossati
;
Salah Bourennane
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
optical lithography;
optical proximity correction;
in-line monitoring;
resist modeling;
polynomial extrapolation;
30.
Wafer Topography Proximity Effect Modeling and Correction for Implant Layer Patterning
机译:
晶圆形貌邻近效应建模和植入层图案校正
作者:
Hua Song
;
James Shiely
;
Irene Su
;
Lin Zhang
;
Wen-Kang Lei
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
implant blocking layer;
mask synthesis;
wafer topography proximity effect (TPE);
optical proximity correction (OPC);
OPC modeling;
model calibration;
fast simulation;
31.
Extensions of Boundary Layer Modeling of Photomask Topography Effects to Fast-CAD using Pattern Matching
机译:
使用图案匹配将光掩模形貌效果的边界层建模扩展到Fast-CAD
作者:
Marshal A. Miller
;
Kenji Yamazoe
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
boundary layer;
pattern matching;
edge effects;
electromagnetic simulation;
focus shift;
topography effects;
hotspot detection;
32.
Introducing Process Variability Score for Process Window OPC Optimization
机译:
为过程窗口OPC优化引入过程可变性评分
作者:
Moutaz.Fakhry
;
H.Maaty
;
A.Seoud
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
PVBand;
PVS;
process window OPC;
33.
A Universal Mask Management Relational Database
机译:
通用遮罩管理关系数据库
作者:
Philippe Morey-Chaisemartin
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
order form;
database;
traceability;
management;
34.
Deployment of OASIS.MASK (P44) as Direct Input for Mask Inspection of Advanced Photomasks
机译:
部署OASIS.MASK(P44)作为高级光掩模的掩模检查的直接输入
作者:
Suheil Zaatri
;
Yan Liu
;
Michael Asturias
;
Joan McCall
;
Wei-Guo J. Lei
;
Tsafi Lapidot
;
Khen Ofek
;
Aviram Tarn
;
Mark Wagner
;
Amanda Bowhill
;
Emile Sahouria
;
Minyoung Park
;
Neil DeBella
;
Pradiptya Ghosh
;
Steffen Schulze
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
OASIS;
OASIS.MASK;
aerial image based inspection;
mask data preparation;
35.
Latest Results and Computing Performance of the ePLACE Data Preparation Tool
机译:
ePLACE数据准备工具的最新结果和计算性能
作者:
J. Gramss
;
R. Galler
;
V. Neick
;
A. Stoeckel
;
U. Weidenmueller
;
D. Melzer
;
M. Suelzle
;
J. Butschke
;
U. Baetz
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
e-beam lithography;
ePLACE;
data prep;
distributed computing;
cell projection;
CP;
SB3050 series;
PEC;
Multi Shaped Beam;
MSB;
36.
Accurate models for EUV Lithography
机译:
EUV光刻的精确模型
作者:
Eric Hendrickx
;
Gian F. Lorusso
;
Jiong Jiang
;
Luoqi Chen
;
Wei Lui
;
Eelco Van Setten
;
Steve Hansen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
CD uniformity;
resist model;
OPC model;
37.
Investigation of buried EUV mask defect printability using actinic inspection and fast simulation
机译:
使用光化检查和快速仿真研究掩埋的EUV掩模缺陷可印刷性
作者:
Chris H. Clifford
;
Tina T. Chan
;
Andrew R. Neureuther
;
Kenneth A. Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Ted Liang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
actinic EUV inspection;
fast simulation;
buried defect;
EUV mask;
38.
Inspection of complex OPC patterns for 4x node and beyond
机译:
检查4x节点及以上的复杂OPC模式
作者:
Sang Hoon Han
;
Wonil Cho
;
Won-Sun Kim
;
Dong Hoon Chung
;
Chan-Uk Jeon
;
HanKu Cho
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
reticle inspection;
mask inspection;
SRAF inspection;
OPC;
model-based assist feature;
high resolution;
aerial image;
39.
Economic Assessment of Lithography Strategies for the 22nm Technology Node
机译:
22nm技术节点光刻技术的经济评估
作者:
Tejas Jhaveri
;
Andrzej Strojwas
;
Larry Pileggi
;
Vyacheslav Rovner
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
lithography;
economics;
scaling;
cost-per-good-die;
40.
Fast and accurate computation of partially coherent imaging by stacked pupil shift operator
机译:
堆叠瞳孔移位算子可快速准确地计算部分相干成像
作者:
Yaogang Lian
;
Xin Zhou
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
TCC;
stacked pupil shift operator;
fast lithography simulation;
41.
Parallel Processing for Pitch Splitting Decomposition
机译:
音高分割分解的并行处理
作者:
Levi Barnes
;
Yong Li
;
David Wadkins
;
Steve Biederman
;
Alex Miloslavsky
;
Chris Cork
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
42.
Single-Mask Double-Patterning Lithography
机译:
单面双图案光刻
作者:
Rani S. Ghaida
;
George Torres
;
Puneet Gupta
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
double patterning;
shift-trim;
photomask;
trim exposure;
overlay;
bimodal CD distribution;
scanner throughput;
43.
AIMS? Mask Qualification for 32nm node
机译:
目标? 32nm节点的掩模资格
作者:
Rigo Richter
;
Thomas Thaler
;
Holger Seitz
;
Ulrich Stroessner
;
Thomas Scheruebl
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
photomask;
repair;
AIMS;
aerial image;
double patterning;
source mask optimization;
44.
pRSM: Models for Model-Based Litho-Hotspot Repairs
机译:
pRSM:基于模型的光刻热点修复的模型
作者:
Marko Chew
;
Toshikazu Endo
;
Yue Yang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
design layout;
litho hotspot fixing;
response surface methodology;
45.
The Study of the Birefringence as MoSi Based Materials for Immersion Lithography
机译:
双折射作为MoSi基浸没式光刻材料的研究
作者:
Ju-Hyun Kang
;
Han-Sun Cha
;
Sin-Ju Yang
;
Jin-Ho Ahn
;
Kee-Soo Nam
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
birefringence;
thin film composition;
dopant;
heat treatment;
substrate;
stress;
46.
3D Si Aperture-Plates combined with programmable Blanking-Plates for Multi-Beam Mask Writing
机译:
3D Si孔径板与可编程空白板相结合,用于多光束掩模写入
作者:
Florian Letzkus
;
Mathias Irmscher
;
Michael Jurisch
;
Elmar Platzgummer
;
Christof Klein
;
Hans Loeschner
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
multi-beam;
mask writing;
programmable blanking-plate;
aperture-plate;
47.
Optical Metrology for Template and Disk Patterned Imprints
机译:
模板和磁盘图案压印的光学计量
作者:
Roman Sappey
;
Art Jenkins
;
Sri Venkataram
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
HDD;
OCD;
scatterometry;
NIL;
metrology;
replication;
template;
imprint;
BPM;
patterned media;
48.
Jet and Flash Imprint Lithography for the Fabrication of Patterned Media Drives
机译:
Jet和Flash压印光刻技术,用于制造图案化介质驱动器
作者:
Gerard M. Schmid
;
Cynthia Brooks
;
Zhengmao Ye
;
Steve Johnson
;
Dwayne LaBrake
;
S. V.Sreenivasan
;
Douglas J. Resnick
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
jet and flash imprint lithography;
J-FIL;
template;
imprint;
patterned media;
defect inspection;
49.
Favorable Hierarchy Detection through Lempel-Ziv coding based algorithm to aid Hierarchical Fracturing in Mask Data Preparation
机译:
通过基于Lempel-Ziv编码的算法进行有利的层次检测,以帮助进行掩模数据准备中的分层压裂
作者:
Bhardwaj D S S
;
Nilanjan Ghosh
;
Nageswara Rao
;
Ravi R Pai
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask data preparation;
MDP;
fracturing;
hierarchy detection;
hierarchy extraction;
50.
Improving the Quality of Fractured Mask Data through In-place Optimization of the Fracturing Solution
机译:
通过压裂解决方案的就地优化提高裂缝掩膜数据的质量
作者:
Bhardwaj D S S
;
Nageswara Rao
;
Archana Rajagopalan
;
Nitin P Bhat
;
Ravi R Pai
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask data preparation;
MDP;
fracturing;
fracturing quality;
optimizing fracture solution;
CD uniformity;
51.
A Study of Contour Image Comparison Measurement for Photomask Patterns of 32 nm and Beyond
机译:
32nm及以上光掩模图形的轮廓图像比较测量研究
作者:
Isao Yonekura
;
Hidemitsu Hakii
;
Keishi Tanaka
;
Masaru Higuchi
;
Yoshiaki Ogiso
;
Toshihide Oba
;
Toshimichi Iwai
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
CD-SEM;
contour comparison measurement;
measurement uncertainty;
ΔCD;
ΔArea;
aerial image;
52.
A Non-Destructive Metrology Solution for Detailed Measurements of Imprint Templates and Media
机译:
用于压印模板和介质详细测量的无损计量解决方案
作者:
Jeffrey Roberts
;
Linlin Hu
;
Torbjoern Eriksson
;
Kristian Thulin
;
Babak Heidari
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
optical metrology;
RCWA;
forouhi-bloomer dispersion equations;
DTR;
BPM;
imprint lithography;
residual layer thickness;
patterned media;
53.
Predictive modeling for EBPC in EBDW
机译:
EBDW中的EBPC的预测建模
作者:
Rainer Zimmermann
;
Martin Schulz
;
Wolfgang Hoppe
;
Hans-Juergen Stock
;
Wolfgang Demmerle
;
Alex Zepka
;
Artak Isoyan
;
Lars Bomholt
;
Serdar Manakli
;
Laurent Pain
会议名称:
《Conference on photomask technology》
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2009年
关键词:
e-beam;
e-beam direct write (EBDW);
e-beam proximity correction (EBPC);
proximity effect correction (PEC);
maskless lithography;
lithography simulation;
verification;
54.
Isotropic Treatment of EMF Effects in Advanced Photomasks
机译:
各向同性处理先进光掩模中的EMF效应
作者:
Jaione Tirapu Azpiroz
;
Alan E. Rosenbluth
;
Ioana Graur
;
Geoffrey W. Burr
;
Gustavo Villares
会议名称:
《Conference on photomask technology》
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2009年
关键词:
mask topography;
thin mask approximation;
electromagnetic models;
optical lithography;
OPC;
55.
Theoretical foundations of Die-to-Model inspection
机译:
模具检验的理论基础
作者:
Lev Faivishevsky
;
Sergey Khristo
;
Ishai Schwarzband
;
Shmoolik Mangan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
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2009年
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