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Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society

召开年：2009
召开地：Vienna(AT);Vienna(AT)
出版时间：-

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1.Formation of Silicide Nanowires by Annealing of Atomic Layer Deposition Cobalt/Silicon Core-Shell Nanowires

机译：通过原子层沉积钴/硅核壳纳米线退火形成硅化物纳米线
- 作者：Han-Bo-Ram Lee;Kwang Heo;Seunghun Hong;Hyungjun Kim
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
2.Synthesis of Microscale Lead Sulfide Disks by Patterned Self-Assembled Monolayer

机译：图案化自组装单分子膜合成微米级硫化铅圆片
- 作者：Takane Usui;Neil P. Dasgupta;Xirong Jiang;Wonyoung Lee;Fritz B. Prinz
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
3.Formation of Cd_xZn_(1-x)S Films for Photovoltaic Buffer Layers by Atomic Layer Deposition

机译：通过原子层沉积形成用于光伏缓冲层的Cd_xZn_（1-x）S膜
- 作者：J. R. Bakke;S. F. Bent
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
4.Patterning of ALD HfO_2 layers on silicon

机译：在硅上形成ALD HfO_2层的图案
- 作者：R. Andreu;J.Sanchez;A. Sanchez;M. Zabala;M. C. Acero;J. M. Rafi;F. Campabadal
- 会议名称：《》 | 2009年
5.Optimizing the Release of ALD Grown ZnO Nanotubes from Anodic Aluminum Oxide Templates

机译：从阳极氧化铝模板优化ALD生长的ZnO纳米管的释放
- 作者：Tarek M. Abdel-Fattah;Diefeng Gu;Helmut Baumgart;G. Namkoong
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
6.Performance and Characterization of ALD Vanadium Oxide Catalytic Nanoliths

机译：ALD钒氧化物催化纳米材料的性能与表征
- 作者：P. C. Stair;J. W. Elam;J. A. Libera;H. Feng;M. J. Pellin;H.-S. Kim
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
7.Structures, Properties and Applications of Functional Thin Films by ALD

机译：ALD功能薄膜的结构，性能及应用
- 作者：K. L. Choy
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
8.Modeling and Characterization of ALD Grown ZnO Nanotubes and their Application to Sub-Micron Devices

机译：ALD生长的ZnO纳米管的建模，表征及其在亚微米器件中的应用
- 作者：Tarek M. Abdel-Fattah;Diefeng Gu;Helmut Baumgart;Ritu Bajpai;Mona Zaghloul
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
9.Atomic Layer Deposition of high-k oxides on InAlN/GaN-based materials

机译：InAlN / GaN基材料上高k氧化物的原子层沉积
- 作者：S. Abermann;C. Ostermaier;G. Pozzovivo;J. Kuzmik;O Bethge;C. Henkel;G. Strasser;D. Pogany;C. Giesen;M. Heuken;E. Kohn;M. Alomari;E. Bertagnolli
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
10.Highly Conformal ALD of ZrO_2 At Higher Process Temperatures Than The Conventional TEMAZr-Based ALD Process

机译：与传统的基于TEMAZr的ALD工艺相比，在更高的工艺温度下ZrO_2的高度共形ALD
- 作者：Yoshi Senzaki;Yoshi Okuyama;Gi Youl Kim;Hae Young Kim;Carl Barelli;Johannes Lindner;Zia Karim;Sasangan Ramanathan
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
11.Physical Characterization of Zinc Oxide Thin Films Grown by ALD

机译：ALD生长氧化锌薄膜的物理表征
- 作者：K. Tapily;D. Stegall;D. Gu;H. Baumgart;G. Namkoong;A.A Elmustafa
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
12.In-situ studies of atomic layer deposition studies on high-mobility channel materials

机译：高迁移率通道材料的原子层沉积原位研究
- 作者：M. Milojevic;A.M.Sonnet;C.L.Hinkle;H.C.Kim;E.M.Vogel;J. Kim;R.M.Wallace
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
13.ALD Synthesis of Tube-in-Tube Nanostructures of Transition Metal Oxides by Template Replication

机译：模板复制通过ALD合成过渡金属氧化物的管中纳米结构
- 作者：Diefeng Gu;Pragya Shrestha;Helmut Baumgart;Gon Namkoong
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
14.Recent Development of ALD Precursors for Semiconductor Devices

机译：半导体器件的ALD前体的最新发展
- 作者：Senji Wada;Atsushi Sakurai;Naoki Yamada;Tsuyoshi Watanabe;Hiroyuki Uchiuzo
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
15.Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Ta(C)N Thin Films for Copper Diffusion Barrier

机译：用于铜扩散阻挡层的Ta（C）N薄膜的等离子体增强原子层沉积
- 作者：K. H. Kim;S. J. Jeong;J. S. Yoon;Y. M. Kim;S. H. Kwon
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
16.ALD of Vanadium Oxide

机译：氧化钒的ALD
- 作者：J. Musschoot;D. Deduytsche;R. L. Van Meirhaeghe;C. Detavernier
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
17.Remote Plasma Atomic Layer Deposition of CO_3O_4 Thin Films

机译：CO_3O_4薄膜的远程等离子体原子层沉积
- 作者：M. E. Donders;H. C. M. Knoops;M. C. M. van de Sanden;W. M. M. Kessels;P. H. L. Notten
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
18.Effects of Surface Functionalization on Titanium Dioxide Atomic Layer Deposition on Ge Surfaces

机译：表面功能化对Ge表面二氧化钛原子层沉积的影响
- 作者：Pendar Ardalan;Charles B. Musgrave;Stacey F. Bent
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
19.Atomic layer deposition of GdHfO_x thin films

机译：GdHfO_x薄膜的原子层沉积
- 作者：C. Adelmann;D. Pierreux;J. Swerts;E. Rosseel;X. Shi;H. Tielens;J. Kesters;S. Van Elshocht;J.A. Kittl
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
20.Novel 'In-situ~2' Approach to Modified ALD Processes for Nano-functional Metal- oxide Films

机译：新型“原位〜2”方法修饰纳米功能金属氧化物薄膜的ALD工艺
- 作者：M. Tallarida;K. Karavaev;D. Schmeisser
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
21.ALD based Metal-insulator-metal (MIM) Nanocapacitors for Energy Storage

机译：基于ALD的用于储能的金属-绝缘体-金属（MIM）纳米电容器
- 作者：P.Banerjee;I. Perez;L. Henn-Lecordier;S.B.Lee;G.W.Rubloff
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
22.Plasma-Assisted ALD of TiN/Al_2O_3 Stacks for MIMIM Trench Capacitor Applications

机译：适用于MIMIM沟道电容器应用的TiN / Al_2O_3堆的等离子体辅助ALD
- 作者：D. Hoogeland;K.B. Jinesh;F.C. Voogt;W.F.A. Besling;Y. Lamy;F. Roozeboom;M.C.M. van de Sanden;W.M.M. Kessels
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
23.Atomic Layer Deposition of Materials for Phase-Change Memories

机译：相变存储材料的原子层沉积
- 作者：Markku Leskelae;Viljami Pore;Timo Hatanpaeae;Mikko Heikkilae;Mikko Ritala;Alejandro Schrott;Simone Raoux;Stephen M. Rossnagel
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
24.Low Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Metal Oxide Thin Films

机译：金属氧化物薄膜的低温等离子体原子层沉积
- 作者：S. E. Potts;L. R. J. G. van den Elzen;G. Dingemans;E. Langereis;W. Keuning;M. C. M. van de Sanden;W. M. M. Kessels
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
25.Liquid Injection Atomic Layer Deposition of Metallic Ru Thin Films from Ru(thd)_3 and of High-k TiO_2 Thin Films from Ti(O-i-Pr)_2(thd)_2

机译：Ru（thd）_3的金属Ru薄膜和Ti（O-i-Pr）_2（thd）_2的High-k TiO_2薄膜的液相注射原子层沉积
- 作者：S. K. Kim;S. Hoffmann-Eifert;R. Waser
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
26.Metal Alloy Catalysts with Pt Surface Coating by Atomic Layer Deposition for Intermediate Temperature Ceramic Fuel Cells

机译：中温陶瓷燃料电池原子层沉积Pt表面涂层的金属合金催化剂
- 作者：Joon Hyung Shim;Xirong Jiang;Stacey Bent;Fritz B. Prinz
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
27.Detailed Correlation of Electrical and Breakdown Characteristics to the Structural Properties of ALD Grown HfO_2- and ZrO_2-based Capacitor Dielectrics

机译：电学和击穿特性与ALD生长的基于HfO_2和ZrO_2的电容器电介质的结构特性的详细关联
- 作者：U. Schroeder;W. Weinreich;E. Erben;J. Mueller;L. Wilde;J. Heitmann;R. Agaiby;D. Zhou;G. Jegert;A. Kersch
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
28.Interface Analysis of Transparent Analog Capacitor Using ITO Electrodes and ALD High-k Dielectrics

机译：使用ITO电极和ALD高k电介质的透明模拟电容器的界面分析
- 作者：Seok-Jun Won;Myung Soo Huh;Sanghyun Park;Sungin Suh;Yu Jin Choi;Jaeyeong Heo;Cheol Seong Hwang;Hyeong Joon Kim
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
29.Quantum Dot Formation in Polymer Wires by Three-Molecule Molecular Layer Deposition (MLD) and Applications to Electro-Optic/Photovoltaic Devices

机译：三分子分子层沉积（MLD）在聚合物导线中形成量子点及其在光电/光伏器件中的应用
- 作者：Tetsuzo Yoshimura;Akio Oshima;Dong-Il Kim;Yoshinori Morita
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
30.The benefits of atomic layer deposition in non-semiconductor applications; producing metallic nanomaterials and fabrication of flexible display

机译：原子层沉积在非半导体应用中的优势;生产金属纳米材料并制造柔性显示器
- 作者：Hyungjun Kim;Woo-Hee Kim;Han-Bo-Ram Lee;S.J. Lim
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
31.Copper Oxide ALD from a Cu(I)β-Diketonate: Detailed Growth Studies on SiO_2 and TaN

机译：铜（I）β-二酮酸铜的氧化铜ALD：SiO_2和TaN的详细生长研究
- 作者：Thomas Waechtler;Nina Roth;Robert Mothes;Steffen Schulze;Stefan E. Schulz;Thomas Gessner;Heinrich Lang;Michael Hietschold
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
32.Atomic Layer Deposition of Ru and RuO_2 for MIMCAP Applications

机译：用于MIMCAP应用的Ru和RuO_2的原子层沉积
- 作者：C. Zhao;M. A. Pawlak;M. Popovici;M. Schaekers;E. Sleeckx;E. Vancoille;D. J. Wouters;Zs. Tokei;J. A. Kittl
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
33.Extreme Scaled Gate Dielectrics By Using ALD HfO_2/SrTiO_3 Composite Structures

机译：ALD HfO_2 / SrTiO_3复合结构的超大规模栅介质
- 作者：D. Pierreux;V. Machkaoutsan;E. Tois;J. Swerts;T. Schram;C. Adelmann;S. Van Elshocht;M. Popovici;T. Conard;J. Tseng;L-A. Ragnarsson;J.W. Maes
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
34.Atomic Layer Deposition for All-Solid-State 3D-Integrated Batteries

机译：全固态3D集成电池的原子层沉积
- 作者：H. C. M. Knoops;M. E. Donders;L. Baggetto;M. C. M. van de Sanden;P. H. L. Notten;W. M. M. Kessels
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
35.ALD Applications Beyond Outside IC Technology - Existing and Emerging Possibilities

机译：超出IC技术之外的ALD应用-现有和新兴的可能性
- 作者：M. Putkonen
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
36.Advanced Precursor Development for Sr and Ti Based Oxide Thin Film Applications

机译：用于Sr和Ti基氧化物薄膜应用的高级前体开发
- 作者：R.Katamreddy;Z.Wang;V.Omarjee;P.Venkateswara Rao;C.Dussarrat;N.Blasco
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
37.Atomic Layer Deposition of Quantum Confined Nanostructures on Particles

机译：粒子上量子受限纳米结构的原子层沉积
- 作者：D. M. King;Xinhua Liang;Jianhua Li;Samantha I. Johnson;A. W. Weimer
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年
38.Functionalization of Fine Particles Using Atomic and Molecular Layer Deposition

机译：使用原子和分子层沉积技术对微粒进行功能化
- 作者：D. M. King;X. H. Liang;A. W. Weimer
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2009年