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Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International
Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International
召开年:
1998
召开地:
Lake Tahoe, CA
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
1998 IEEE International Integrated Reliability Workshop Final Report
机译:
1998年IEEE国际综合可靠性研讨会最终报告
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
2.
Reliability Issues 'the Development Of Advanced Dram Products
机译:
可靠性问题'先进Dram产品的开发
作者:
Ellis
;
W.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
3.
Characterization of quasi-breakdown in ultra-thin gate oxides in an automated test environment
机译:
在自动化测试环境中表征超薄栅极氧化物中的准击穿
作者:
Brisbin
;
D.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
4.
C-V Measurements - And Its Implication On Oxide, Transistor And Non-volatile Memory Cell Reliability
机译:
C-V测量-及其对氧化物,晶体管和非易失性存储单元可靠性的影响
作者:
Schwalke U.
;
Gordon B.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
5.
Discussion Group Summary Interconnect Reliability--with A Focus On Copper
机译:
讨论组摘要互连可靠性-以铜为重点
作者:
Sullivan
;
T.
;
Pierce
;
D.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
6.
Equilibrium-controlled static C-V method and its applications
机译:
平衡控制的静态C-V方法及其应用
作者:
Schwalke U.
;
Gruensfelder C.
;
Kerber M.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
7.
Investigation on the reduction of the dark current for PIN silicon photodiodes using statistical methods
机译:
用统计方法研究减少PIN硅光电二极管暗电流的方法
作者:
Aceves
;
M.
;
Rosales
;
P.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
8.
Oxides - Ultra Thin Oxides
机译:
氧化物-超薄氧化物
作者:
Vollertsen R.-P.
;
Dumin D.J.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
9.
Electrostatic Discharge - Esd
机译:
静电放电-Esd
作者:
Gieser H.
;
Worley E.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
10.
Interconnect Reliability Test Chip Nist 36: For Development Of Measurement Tools Standards
机译:
互连可靠性测试芯片第36号:用于开发测量工具和标准
作者:
Schafft
;
H.A.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
11.
Wafer level monitoring and process optimization for robust via EM reliability
机译:
晶圆级监控和工艺优化,通过EM可靠性实现稳健
作者:
Zhao
;
T.
;
Shih
;
C.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
12.
Complete method for E/sub bd/ correction by series resistance characterization
机译:
通过串联电阻表征进行E / sub bd /校正的完整方法
作者:
Monroe
;
D.K.
;
Swanson
;
S.E.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
13.
Electric field and temperature acceleration of quasi-breakdown phenomena in ultrathin oxides
机译:
超薄氧化物中准击穿现象的电场和温度加速
作者:
Roy
;
D.
;
Bruyere
;
S.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
14.
Electrostatic discharge (ESD) technology benchmarking strategy for evaluating ESD robustness of CMOS technologies
机译:
静电放电(ESD)技术基准测试策略,用于评估CMOS技术的ESD鲁棒性
作者:
Voldman
;
S.
;
Anderson
;
W.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
15.
Investigation of initial charge trapping and oxide breakdown under Fowler-Nordheim injection
机译:
Fowler-Nordheim注入下的初始电荷俘获和氧化物分解的研究
作者:
Martin
;
A.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
16.
A constant gate current technique for obtaining low-frequency C-V characteristics of MOS capacitors
机译:
用于获得MOS电容器的低频C-V特性的恒定栅极电流技术
作者:
Qian
;
J.G.
;
Hensley
;
R.A.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
17.
A preliminary investigation of the kinetics of post-oxidation anneal induced E'-precursor formation
机译:
氧化后退火诱导的E'前体形成动力学的初步研究
作者:
Conley
;
J.F.
;
Jr.
;
Lenahan
;
P.M.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
18.
Practical triggering of early breakdowns in thin oxides
机译:
实际触发薄氧化物的早期击穿
作者:
Jackson J.C.
;
Dumin D.J.
;
Messick C.
;
Bendall R.E.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
19.
Wafer level electromigration applied to advanced copper/low-k dielectric process sequence integration
机译:
晶圆级电迁移技术应用于高级铜/低k介电工艺序列集成
作者:
Pierce
;
D.
;
Educato
;
J.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
20.
A Comprehensive Physical Model Of Oxide Wearout And Breakdown Involving Trap Generation, Charging, And Discharging
机译:
涉及陷阱产生,充电和放电的氧化物磨损和击穿的综合物理模型
作者:
Qian
;
D.
;
Durnin
;
D.J.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
21.
Thermal conductance of IC interconnects embedded in dielectrics
机译:
嵌入电介质中的IC互连的热传导
作者:
Harmon D.
;
Gill J.
;
Sullivan T.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
22.
The analysis of oxide reliability data
机译:
氧化物可靠性数据分析
作者:
Hunter W.R.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
23.
A new mechanism for gate oxide degradation and its applications
机译:
栅极氧化物降解的新机理及其应用
作者:
Liu C.H.
;
Fu K.Y.
;
DeMassa T.A.
;
Sanchez J.J.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
24.
A study of field dependence of TDDB of ultra-thin gate oxide and anomaly in the I-V of MOS devices with active guard ring
机译:
具有有源保护环的MOS器件的I-V中超薄栅氧化物TDDB的场依赖性和异常的研究
作者:
Yassine
;
A.
;
Nariman
;
H.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
25.
A study of stress voiding effect on AlSi metal bank allowed lifetime for IC foundry fabs
机译:
对IC代工工厂的AlSi金属库的应力空化效应允许寿命的研究
作者:
Kuang-Peng Lin
;
Chai-Der Chang
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
26.
Characterizing electron shower with CHARM(R)-2 wafers on Eaton NV-8200P medium current ion implanter
机译:
在Eaton NV-8200P中电流离子注入机上使用CHARM(R)-2晶圆表征电子喷淋
作者:
Reno
;
S.
;
Gonzalez
;
H.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
27.
Monitoring charging in high current ion implanters yields optimum preventive maintenance schedules and procedures
机译:
监视大电流离子注入机中的充电可产生最佳的预防性维护计划和程序
作者:
Gonzalez
;
H.
;
Reno
;
S.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
28.
Non-contact in-line monitoring of plasma-induced latent damage
机译:
非接触在线监测血浆诱发的潜在损伤
作者:
Turner T.
;
Weinzierl S.
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
29.
The life time model using the correlation between dielectric thickness, and voltage stress for 64 Mb DRAM accelerated reliability testing
机译:
使用电介质厚度和电压应力之间的相关性的寿命模型,用于64 Mb DRAM加速可靠性测试
作者:
Yumi Kwon
;
Namhyun Cha
会议名称:
《Integrated Reliability Workshop Final Report, 1998. IEEE International》
|
1998年
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