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Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US
Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US
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1.
Investigation of UFO defect on DUV CAR BARC Process
机译:
DUV CAR&BARC工艺中UFO缺陷的调查
作者:
Yet Siew Ing
;
Ko Bong Sang
;
Lee Soo Man
;
Mike May
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
defect;
deep-UV;
chemically amplified resist;
bottom anti-reflective coating;
post exposure bake;
acid diffusivity;
2.
Lithography Process Window Analysis with Calibrated Model
机译:
校准模型光刻工艺窗口分析
作者:
Wenzhan Zhou
;
Jin Yu
;
James Lo
;
Johnson Liu
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
focus exposure matrix;
critical dimension;
process window;
defocus;
exposure;
calibration;
prodata;
prolith;
3.
Laser Sample Stage-based Image Resolution Enhancement Method for SEMs
机译:
基于激光样品台的SEM图像分辨率增强方法
作者:
Andras E. Vladar
;
Eranga C. Jayewardene
;
Bradley N. Damazo
;
William J. Keery
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
SEM;
CD-SEM;
scanning electron microscope;
resolution;
stage;
laser;
interferometer;
enhancement;
image;
measurement;
4.
Linewidth measurement simulations for semiconductor circuits by scatterometry using the FDTD and the time shortening calculation method
机译:
使用FDTD和时间缩短计算方法通过散射法对半导体电路进行线宽测量的仿真
作者:
Hirokimi Shirasaki
;
Kunio Ueta
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
semiconductor;
silicon;
trench;
oblique incidence;
linewidth measurements;
FDTD method;
scatterometry;
5.
MPPC technique for gate etch process monitoring using CD-SEM images and its validity verification
机译:
MPPC技术用于使用CD-SEM图像进行栅极蚀刻过程监控及其有效性验证
作者:
Maki Tanaka
;
Chie Shishido
;
Yuji Takagi
;
Hidetoshi Morokuma
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
critical-dimension scanning electron microscopy (CD-SEM);
gate control;
device property;
sidewall angle;
footing roundness;
three-dimensional evaluation;
image analysis;
6.
Nanocal~(TM) Calibration and Pitch Re-Certification of a Hitachi Micro Scale Standard
机译:
Hitachi微型标样的Nanocal〜(TM)校准和螺距重新认证
作者:
D. Yeremin
;
A. Nikitin
;
A. Sicignano
;
M. Sandy
;
T. Goldburt
;
B. Tracy
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
pitch measurement;
SEM calibration;
pitch uniformity;
uncertainty;
magnification error;
7.
Belly Button Reduction using Optimized Resist Filtration Method in CMOS Gate Pattern Process
机译:
在CMOS栅极图案工艺中使用优化的电阻过滤方法减少肚脐
作者:
Jeong-Heon Baik
;
Dong-Jin Lee
;
Sung-Ho Lee
;
Sun-Hyung Park
;
Il-Ho Lee
;
Jae-Sung Choi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
belly button;
BARC;
gate pattern;
resist filter;
poly silicon block;
wafer coating defects;
pore size;
8.
Characterizing SiO_XN_Y ARC materials with laser ellipsometry and DUV reflectometry
机译:
用激光椭偏仪和DUV反射仪表征SiO_XN_Y ARC材料
作者:
Gary Jiang
;
Timothy Sun
;
Donald Pelcher
;
Jana Clerico
;
Jui-Ping Li
;
Yi-Ru Chen
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
metrology;
process control;
inorganic ARC;
tuneable ARC;
ellipsometry;
reflectometry;
9.
Characterization of the Integrated Optical CD for the Process Control
机译:
用于过程控制的集成光盘CD的特性
作者:
Jackie Yu
;
Junichi Uchida
;
Youri van Dommelen
;
Rene Carpaij
;
Shaunee Cheng
;
Ivan Pollentier
;
Anita Viswanathan
;
Lawrence Lane
;
Kelly Barry
;
Nickhil Jakatdar
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
process control;
scatterometry;
ODP;
FEM;
CDU;
correlation;
integrated metrology;
10.
CD SEM Application for Generic Analysis of Two Dimensional Features on Wafers and Reticles
机译:
CD SEM在晶片和掩模版二维特征通用分析中的应用
作者:
R.Kris
;
A.Tam
;
O.Menadeva
;
R.Peltinov
;
L.Segal
;
N.Wertsman
;
O.Adan
;
N.Shcolnik
;
G.Gottlib
;
A.Vilenkin
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
SEM metrology;
optical proximity correction;
corner roundness;
smoothing spline;
11.
Capability of Spectroscopic Ellipsometry Based Profile Metrology for Detecting the Profile Excursion of Polysilicon Gate
机译:
基于光谱椭偏仪的轮廓计量能力,可检测多晶硅栅的轮廓偏移
作者:
Mike Yeh
;
Shu-Ping Fang
;
Bo-Jau Tsau
;
C. C. Huang
;
Benjamin Lin
;
Steven Fu
;
Jay Chen
;
Regina Freed
;
Ted Dziura
;
Mike Slessor
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
spectroscopic ellipsometry;
spectraCD;
CD;
metrology;
polysilicon gate;
profile excursion;
12.
Carbon Nanotube Atomic Force Microscopy Cantilevers
机译:
碳纳米管原子力显微镜悬臂
作者:
Y. N. Emirov
;
J. D. Schumacher
;
B. Lagel
;
N. Nguyen
;
Z. F. Ren
;
Z. P. Huang
;
B. B. Rossie
;
R. Schlaf
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
atomic force microscopy;
metrology;
critical dimension;
carbon nanotube;
cantilever;
13.
Dielectric Anti-Reflection Layer Optimization: Correlation of Simulation and Experimental Data
机译:
介电抗反射层优化:仿真和实验数据的关联
作者:
Yiming Gu
;
Anthony Wang
;
Dyiann Chou
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
residual swing effect;
anti-reflection;
swing curve;
CD control;
single wafer swing curve;
14.
Edge Printability ― Techniques used to Evaluate and Improve Extreme Wafer Edge Printability
机译:
边缘可印刷性―用于评估和改善极端晶圆边缘可印刷性的技术
作者:
Bill Roberts
;
Cort Demmert
;
Igor Jekauc
;
Jason Tiffany
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
edge exclusion;
focus sensor design;
wafer layout;
edge bead removal;
dummy fields;
non-zero overlay targets;
15.
Dual Side Wafer Metrology for Micromachining Applications
机译:
用于微加工应用的双面晶圆计量
作者:
Daniel Schurz
;
Warren W. Flack
;
Doug Anberg
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
dual side alignment;
DSA;
lithography tool performance;
repeatability;
reproducibility;
16.
Electron beam inspection system for semiconductor wafer based on projection electron microscopy
机译:
基于投影电子显微镜的半导体晶圆电子束检查系统
作者:
Tohru Satake
;
Nobuharu Noji
;
Takeshi Murakami
;
Manabu Tsujimura
;
Ichirota Nagahama
;
Yuichiro Yamazaki
;
Atsushi Onishi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
patterned wafer inspection;
electron beam;
projection imaging;
yield management;
TDI;
17.
Finite Difference Algorithm in Real-Time Optical CD Applications
机译:
实时光CD应用中的有限差分算法
作者:
Jon Opsal
;
Hanyou Chu
;
Jingmin Leng
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
finite difference algorithm;
real-time critical dimension (RT/CD);
shallow trench isolation (STI);
shallow trench removal (STR);
deep trench isolation (DTI);
deep trench removal (DTR);
18.
Advanced alignment optical system for DUV scanner
机译:
用于DUV扫描仪的高级对准光学系统
作者:
Tadashi Nagayama
;
Masahiko Yasuda
;
Yuho Kanaya
;
Takahiro Masada
;
Ayako Sugaya
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
alignment;
scanner;
stepper;
image processing;
optical system;
alignment mark;
19.
Alignment Offset Analyzer against Wafer Induced Shift (WIS)
机译:
对准偏移分析仪,可防止晶圆引起的偏移(WIS)
作者:
Takahiro Matsumoto
;
Hideki Ina
;
Koichi Sentoku
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
alignment;
WIS;
topography;
profiler;
scalar;
vector;
simulation;
20.
A Novel and Robust Method for the Accurate Magnification Characterization and Calibration of Out-of-Fab SEM Cluster Tools
机译:
一种新颖且鲁棒的精确测量和校准SEM簇外工具的方法
作者:
A. Sicignano
;
A. Nikitin
;
D. Yeremin
;
T. Goldburt
;
B. Tracy
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
21.
OCD study of critical dimension and line-shape control of shallow-trench-isolation structures
机译:
浅沟槽隔离结构的临界尺寸和线形控制的OCD研究
作者:
Ye Feng
;
Xiaodong Zhang
;
Beverly Cheung
;
Zhuan Liu
;
Mita Isao
;
Manabu Hayashi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical scatterometry;
critical dimension;
OCD;
FEM;
STI;
photoresist;
22.
Overlay Advanced Process Control for Foundry Application
机译:
覆盖用于铸造应用程序的高级过程控制
作者:
Xudong Wan
;
Andy Zhou
;
Fjord Zhang
;
Jerry Li
;
Xiaolan Gu
;
Evert Mos
;
Aernout Kisteman
;
Vivien Wang
;
Ron Schuurhuis
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
advanced process control;
foundry;
lithographic overlay control;
data sharing;
23.
Photomask Disposition Based on Simulated Device Performance
机译:
基于模拟器件性能的光掩模配置
作者:
Linyong Pang
;
Xiaopeng Xu
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
defect inspection;
wafer printability;
OPC;
lithography simulation;
defect severity score;
virtual stepper;
photomask quality;
process simulation;
device modeling;
24.
Optimization Method of Edge Shot Yield for Various Wafer Layouts
机译:
各种晶圆布局的边缘发射率优化方法
作者:
Anna Eidelman
;
Avi Blau
;
Irit K. Abramovich
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
edge shots;
yield;
critical dimension measurement;
focus algorithm;
25.
Production Control of Shallow Trench Isolation (STI) at the 130nm Node Using Spectroscopic Ellipsometry Based Profile Metrology
机译:
使用基于光谱椭偏仪的轮廓计量学在130nm节点处进行浅沟槽隔离(STI)的生产控制
作者:
Robert M. Peters
;
Ray H. Chiao
;
Timothy Eckert
;
Rene Labra
;
Dario Nappa
;
Susan Tang
;
Jarvis Washington
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
spectroscopic ellipsometry;
critical dimension (CD);
metrology;
shallow trench isolation;
26.
PSM alignment for Sigma7300: Signal quality and resist effects from using the writing DUV laser light, spatial light modulator and a CCD camera as measurement tool for 2:nd layer alignment metrology
机译:
用于Sigma7300的PSM对准:通过使用DUV激光,空间光调制器和CCD摄像头作为第二层对准度量衡的测量工具,可获得信号质量和抗蚀效果
作者:
Thomas Oestroem
;
Sten Lindau
;
Mats Ekberg
;
Hans Fosshaug
;
Raoul Zerne
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
27.
Qualification of a low cost, high quality reticle process for 90nm contact layers
机译:
用于90nm接触层的低成本,高质量掩模版工艺的资格鉴定
作者:
Kirk Strozewski
;
Joe Perez
;
Rusty Carter
;
Bob Kiefer
;
Curt Jackson
;
Susan MacDonald
;
Franklin Kalk
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
28.
Quasi-Brewster angle technique for evaluating the quality of optical surfaces
机译:
准布鲁斯特角技术,用于评估光学表面的质量
作者:
Jue Wang
;
Robert L. Maier
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
CaF_2;
MgF_2;
quasi-brewster angle;
surface roughness;
subsurface damage;
surface contamination;
magnetorheological finishing;
29.
Segmented Alignment Mark Optimization and Signal Strength Enhancement for Deep Trench Process
机译:
深度对准过程的分段对准标记优化和信号强度增强
作者:
Yuanting Cui
;
Frank Goodwin
;
Richard van Haren
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
alignment;
signal strength;
mark;
process;
deep trench;
overlay;
30.
Scanning Holographic Scatterometer for Wafer Surface Inspection
机译:
扫描全息散射仪,用于晶圆表面检查
作者:
Alex Klooster
;
James Marks
;
Kael Hanson
;
Takeo Sawatari
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
wafer inspection;
particle detection;
holographic scatterometer;
submicron contaminant;
surface defects;
TDI with CCD camera;
31.
Test of a new sub 90 nm DR Overlay Mark for DRAM Production
机译:
测试用于DRAM生产的新的低于90 nm的DR覆盖标记
作者:
Stefan Gruss
;
Ansgar Teipel
;
Carsten Fuelber
;
Elyakim Kassel
;
Mike Adel
;
Mark Ghinovker
;
Pavel Izikson
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
metrology;
overlay;
semiconductor manufacturing;
DRAM;
32.
Three-Dimensional Measurement by Tilting Moving Objective Lens in CD-SEM (II)
机译:
在CD-SEM中通过倾斜和移动物镜进行三维测量(II)
作者:
K.Abe
;
K. Kimura
;
Y.Tsuruga
;
S.Okada
;
H.Suzuki
;
N.Kochi
;
H.Koike
;
A.Hamaguchi
;
Y.Yamazaki
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
CD-SEM;
electron-magnetic optical system;
three-dimensional measurement;
33.
Influence of line edge roughness on MOSFET devices with sub-50nm gates
机译:
线边缘粗糙度对具有50nm以下栅极的MOSFET器件的影响
作者:
K. Shibata
;
N. Izumi
;
K. Tsujita
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
line edge roughness (LER);
gate;
MOSFET;
drive current (I_(on));
off-state leakage (I_(off));
threshold voltage (V_(th)) fluctuation;
period;
autocorrelation function;
34.
Innovative Rapid Photo-goniometry method for CD metrology
机译:
CD计量学的创新快速光测角法
作者:
P. Boher
;
M. Luet
;
T. Leroux
;
J. Petit
;
P. Barritault
;
J. Hazart
;
P. Chaton
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
OFT;
photo-goniometry;
fourier optics;
35.
Improvement of aluminum interconnect overlay measurement capability through metrology and hardmask process development
机译:
通过计量和硬掩模工艺开发提高铝互连覆层测量能力
作者:
Albert L. Ihochi
;
Matthew E. Ross
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
overlay measurement of metal interconnects;
overlay on grainy surface;
registration;
36.
Infrared Spectroscopic Ellipsometry in Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造中的红外光谱椭圆仪
作者:
P.-Y. Guittet
;
Ulrich Mantz
;
Peter Weidner
;
J.-L. Stehle
;
Marc Bucchia
;
Sophie Bourtault
;
Dorian Zahorski
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
IR-SE;
small spot;
depth monitoring;
effective medium;
3D structures;
DRAM;
37.
Application of Spectroscopic Ellipsometry based Scatterometry for Ultra Thin Spacer Structure
机译:
基于光谱椭圆仪的散射法在超薄垫片结构中的应用
作者:
Ryan Chia-Jen Chen
;
Fang-Cheng Chen
;
Ying-Ying Luo
;
Baw-Ching Pemg
;
Yuan-Hung Chiu
;
Hun-Jan Tao
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
scatterometry;
spectroscopic ellipsometry;
minispacer;
offset spacer;
critical dimension (CD);
metrology;
38.
Application of scatterometry to shallow trench isolation monitoring
机译:
散射法在浅沟槽隔离监测中的应用
作者:
Ian Dudley
;
Anjan Somadder
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
ODP;
process monitoring;
precision;
39.
Arbitrary 3D linewidth form measurement simulations for the next-generation semiconductor circuits by scatterometry using the FDTD method
机译:
使用FDTD方法通过散射法对下一代半导体电路进行任意3D线宽形式的测量模拟
作者:
Hirokimi Shirasaki
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
semiconductor;
silicon;
trench;
shape measurements;
FDTD method;
scatterometry;
40.
Automated Defect Cross-sectioning with an in-line DualBeam
机译:
内嵌DualBeam的自动缺陷横截面
作者:
Stephanie Blanc-Coquand
;
Benoit Hinschberger
;
Eric Rouchouze
;
Emmanuel Sicurani
;
Marc Castagna
;
Matthew Weschler
;
Larry Dworkin
;
Didier Renard
;
Atsavinn Panyasak
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
in-line dual beam;
e-beam inspection;
automated defect cross-section;
41.
Investigation of systematical overlay errors limiting litho process performance of thick implant resists
机译:
系统性覆盖误差限制厚植入抗蚀剂光刻工艺性能的研究
作者:
A.G. Grandpierre
;
R. Schiwon
;
J.-U. Bruch
;
C. Nacke
;
U. P. Schroder
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
overlay;
i-line;
resist;
tapers;
chip magnification;
42.
Mask Line Monitor: process improvements and yield learning
机译:
掩膜线监控器:工艺改进和成品率学习
作者:
Yiyang Wang
;
Andrew J. Watts
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
mask;
line monitor;
defect;
partition;
yield improvement;
43.
Metrology Exposure-Induced Resist and ARC Damage
机译:
计量暴露引起的抗性和ARC损坏
作者:
Jackie Yu
;
Anita Viswanathan
;
Makoto Miyagi
;
Junichi Uchida
;
Lawrence Lane
;
Kelly Barry
;
Machi Kajitani
;
Toshihiko Kikuchi
;
K.C. Chan
;
Fred E. Stanke
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
scatterometry;
precision;
metrology;
optical properties;
measurement damage;
44.
Measurement Precision of CD-SEM for 65 nm Technology Node
机译:
用于65 nm技术节点的CD-SEM测量精度
作者:
Hideaki Abe
;
Hiroshi Motoki
;
Takahiro Ikeda
;
Yuichiro Yamazaki
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
CD-SEM;
measurement precision;
short-term repeatability;
long-term variation;
tool matching;
45.
New technique to reconstruct effective 3D profile from tilt images of CD-SEM
机译:
从CD-SEM倾斜图像重建有效3D轮廓的新技术
作者:
Hidetoshi Morokuma
;
Atsushi Miyamoto
;
Maki Tanaka
;
Masato Kazui
;
Atsushi Takane
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CD-SEM;
tilt image;
3D reconstruction;
inverse stereo matching;
MPPC;
46.
New Method for the Measurement of SEM Stage Vibrations
机译:
测量SEM工作台振动的新方法
作者:
B. N. Damazo
;
E. C. Jayewardene
;
A. E. Vladar
;
W. J. Keery
;
M. T. Postek
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
SEM;
magnification;
vibration;
laser;
interferometer;
sample stage;
47.
New Methodology for Evaluating and Quantifying Reticle Line End Shortening
机译:
评估和量化标线末端缩短的新方法
作者:
Mark C. Simmons
;
John Jensen
;
Robert Muller
;
Andrew M. Jost
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
photomask;
line end;
region of interest;
metrology;
48.
Optical characterization of defects on patterned wafers: exploring light polarization
机译:
图案化晶圆上缺陷的光学表征:探索光的偏振
作者:
Byoung-Ho Lee
;
Soo-Bok Chin
;
Do-Hyun Cho
;
Chang-Lyong Song
;
Jeong-Ho Yeo
;
Daniel Some
;
Silviu Reinhorn
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
critical defect;
dark field inspection;
SNR;
polarization;
49.
Overlay Errors Induced by Metallic Stress -- Mechanism and Solutions
机译:
金属应力引起的叠加误差-机理与解决方案。
作者:
Yulin Yen
;
Charles Chang
;
Francis Lin
;
Jason Su
;
Tahone Yang
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
50.
Prospects for Using Primary Electron-based CD Metrology
机译:
使用基于电子的主要CD计量学的前景
作者:
Bryan J. Rice
;
Gary Crays
;
Alex Danilevsky
;
Michael Grumski
;
Shunsuke Koshihara
;
Tadashi Otaka
;
Jeanette Roberts
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
CD SEM;
CD metrology;
high voltage;
low loss;
BSE;
51.
Productivity and yield improvement through implementation of automated defect review SEM at 45° column tilt in a high capacity production Fab
机译:
通过在高产能生产Fab中以45°柱倾斜实施自动缺陷检查SEM来提高生产率和良率
作者:
Jackie Tan
;
Sandeep Kulkarni
;
Sern Loong Ng
;
Alok Jain
;
Vish Srinivasan
;
Nurit Raccah
;
Ofer Rotlevi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
SEM;
automatic defect re-detection;
EDX;
yield enhancement;
excursion control;
productivity;
52.
Real-time optics contamination monitoring using surface acoustic wave technology
机译:
使用表面声波技术进行实时光学污染监测
作者:
Steven Rowley
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
airborne molecular contamination;
chemical filtration;
optics hazing;
photolithography;
purge gas;
contamination;
surface acoustic wave;
53.
Scatterometry for contact hole lithography
机译:
接触孔光刻的散射法
作者:
Kelly Barry
;
Anita Viswanathan
;
Xinhui Niu
;
Joerg Bischoff
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
scatterometry;
ODP;
contact hole;
integrated metrology;
FEM;
54.
Robust and efficient image processing scheme for electron beam LSI wafer pattern inspection
机译:
用于电子束LSI晶片图案检查的鲁棒高效的图像处理方案
作者:
Takashi Hiroi
;
Munenori Fukunishi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
wafer pattern inspection;
image processing;
electron beam;
inspection condition preparation;
55.
Simulation-based Mask Quality Control in a Production Environment
机译:
生产环境中基于仿真的掩模质量控制
作者:
Linyong Pang
;
Jiunn-Hung Chen
;
Lynn Cai
;
Don Lee
;
Brian Chu
;
Vinsent Huang
;
T. Y. Fang
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
defect inspection;
wafer printability;
OPC;
assist bar;
simulation;
defect severity score;
virtual stepper;
subwavelength;
feature;
photomask quality;
56.
Towards a Complete Description of Line Width Roughness: A Comparison of Different Methods for Vertical and Spatial LER and LWR Analysis and CD variation
机译:
走向线宽粗糙度的完整描述:垂直和空间LER和LWR分析和CD变化的不同方法的比较
作者:
Vassilios Constantoudis
;
George P. Patsis
;
L.H. A. Leunissen
;
Evangelos Gogolides
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
line edge roughness (LER);
line width roughness (LWR);
CD variation;
correlation function;
fractal dimension;
roughness exponent;
fourier analysis;
power spectrum;
57.
Total Test Repeatability, a new figure of merit for CD metrology tools
机译:
全面测试可重复性,CD计量工具的新优势
作者:
Hugo Cramer
;
Ton Kiers
;
Peter Vanoppen
;
Jeroen Meessen
;
Frans Blok
;
Mircea Dusa
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
CD uniformity;
CD fingerprint;
CD-SEM;
electrical linewidth measurement (ELM);
CD scatterometry;
repeatability;
58.
Height And Sidewall Angle SEM Metrology Accuracy
机译:
高度和侧壁角度SEM计量精度
作者:
R. Kris
;
O. Adan
;
A.Tam
;
A.Karabekov
;
O.Menadeva
;
R.Peltinov
;
A.Pnueli
;
O.Zoran
;
A.Vilenkin
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
CD metrology;
SEM;
3D metrology;
accuracy;
monte-carlo simulations;
59.
Inspection performances of the electron beam inspection system based on projection electron microscopy
机译:
基于投影电子显微镜的电子束检查系统的检查性能
作者:
Ichirota Nagahama
;
Atsushi Onishi
;
Yuichiro Yamazaki
;
Tohru Satake
;
Nobuharu Noji
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EBI-PEM;
EBI-SEM;
capture rate;
inspection speed;
pixel size;
60.
Image Quality Monitoring for enhanced Precision and Tool Matching of CD measuring tools
机译:
图像质量监控可提高CD测量工具的精度和工具匹配度
作者:
Ayelet Pnueli
;
Albert Karabekov
;
Guy Eytan
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
critical dimension (CD) metrology;
resolution;
signal to noise ratio (SNR);
contrast to noise ratio (CNR);
tool matching;
61.
Application of the rigorous treatment for the characterization of sub-micron structures on photomasks
机译:
严格处理在光掩模上表征亚微米结构的应用
作者:
P. Triebel
;
P. Weissbrodt
;
S. Nolte
;
E. B. Kley
;
A. Tuennermann
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
binary optics;
transmission measurement;
subwavelength structures;
polarization;
62.
Approaching New Metrics for Wafer Flatness: An Investigation of the Lithographic Consequences of Wafer Non-Flatness
机译:
寻求晶圆平坦度的新指标:晶圆非平坦度的光刻后果研究
作者:
John Valley
;
Noel Poduje
;
Jaydeep Sinha
;
Neil Judell
;
Jie Wu
;
Marc Boonman
;
Sjef Tempelaars
;
Youri van Dommelen
;
Hans Kattouw
;
Jan Hauschild
;
Bill Hughes
;
Alexis Grabbe
;
Les Stanton
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
63.
Are Ambient SO_2 Levels a Valid Indicator of Projected Acid Gas Filter Life?
机译:
SO_2含量是否是预计的酸性气体过滤器寿命的有效指标?
作者:
Andrew J. Dallas
;
Lefei Ding
;
Jon Joriman
;
Brian Hoang
;
Jonathan Parsons
;
Kevin Seguin
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
NO_x;
oxides of nitrogen;
SO_2;
sulfur dioxide;
acid gas filtration;
acid gas removal;
chemical filtration;
fuel cells;
DAPS;
dilution air purification systems;
hard disk drives;
cleanrooms;
exposure tools;
contamination control;
64.
Barometric Pressure Compensation to Control Photo resist Film Thickness
机译:
气压补偿以控制光刻胶膜的厚度
作者:
Vandana Vishnu
;
Mai Randall
;
Carole Pillette
;
Kyoshige Katayama
;
Kazuhisa Omura
;
Ryoichi Uemura
;
Hiroshi Tomita
;
Ryoji Ando
;
Kunie Ogata
;
Hiromitsu Maejima
;
Anthony DiDonato
;
Jim Nicholson
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
barometric pressure;
process control;
photo resist film thickness;
65.
Characterization and Control of Sub-100 nm Etch and Lithography Processes
机译:
100 nm以下蚀刻和光刻工艺的表征和控制
作者:
Kirk Miller
;
Vincent Geiszler
;
Dean Dawson
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
atomic force microscope;
AFM;
lithography;
etch;
metrology;
66.
Detection method for a T-topped profile in resist patterns by CD-SEM
机译:
用CD-SEM检测抗蚀剂图案中T形轮廓的方法
作者:
Atsuko Yamaguchi
;
Hiroshi Fukuda
;
Osamu Komuro
;
Shozo Yoneda
;
Takashi Iizumi
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
T-top;
CD-SEM;
cross-sectional profile;
top-down observation;
line-edge roughness;
67.
Defect Learning with 193-nm Resists
机译:
193 nm抗蚀剂的缺陷学习
作者:
Iris Maege
;
Beatrix Pinter
;
Martin Tuckermann
;
Oreste Donzella
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
193nm photo-resist technology;
defect inspection;
automatic in-line defect classification;
micro bridging;
resist defect reduction;
68.
Contact hole application for lithography process development using the Opti-Probe~(~R) 3-Dimensional RT/CD~(~R) technology
机译:
使用Opti-Probe〜(〜R)三维RT / CD〜(〜R)技术在光刻工艺开发中的接触孔应用
作者:
Zhiming Jiang
;
Osman Sorkhabi
;
Hanyou Chu
;
Xuelong Cao
;
Guangwei Li
;
Youxain Wen
;
Jon Opsal
;
Y. C. Chang
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
metrology;
spectroscopic ellipsometry;
scatterometry;
critical dimension;
contact hole;
69.
Development of high repetition rate molecular Fluorine lasers for metrology and inspection
机译:
开发用于计量和检查的高重复率分子氟激光器
作者:
Heinz Huber
;
Michael Bauer
;
Andreas Goertler
;
Claus Strowitzki
;
Alexander Hohla
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
UV source;
excimer laser;
fluorine laser;
VUV;
157 nm;
F_2 laser;
inspection;
metrology;
70.
Effect of Inline Dose and Focus Monitoring and Control on Post Etch CD
机译:
在线剂量和焦点监控对蚀刻后CD的影响
作者:
Berta Dinu
;
Venky Subramony
;
Pei Chin Lim
;
Dawn Goh
;
Brad Eichelberger
;
Kwong Boo Chew
;
Kevin Monahan
会议名称:
《》
|
2004年
关键词:
focus;
dose;
inline;
process monitoring;
71.
Edge Die Focus-Exposure Monitoring and Compensation to Improve CD Distributions
机译:
边缘模具焦点曝光监控和补偿,以改善CD分布
作者:
Brad Eichelberger
;
Venky Subramony
;
Augustine Chew
;
Berta Dinu
;
Dawn Goh
;
Pel Chin Lim
;
Kevin Monahan
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
focus;
dose;
exposure;
yield;
inline;
process monitoring;
line end shortening;
edge die;
72.
Electrical Defect SEM Review under the Various Electric Circumstances on SAC layer
机译:
SAC层在各种电环境下的电缺陷SEM审查
作者:
Tae Yong Lee
;
Whan Nam-Koong
;
Byoung Ho Lee
;
Soo Bok Chin
;
Do Hyun Cho
;
Jong Il Choi
;
Seo Shik Hur
;
Ki Hwa Ko
;
Jeong Ho Yeo
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
inspection;
defect review;
SEM;
electrical defect;
negative charge;
positive charge;
73.
Enhancing Film Thickness Metrology Optical Coefficient Control
机译:
增强膜厚计量光学系数控制
作者:
Igor Jekauc
;
Elizabeth Donohue
;
Bill Roberts
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
DARC;
film thickness;
optical coefficients;
index of refraction;
extinction coefficient;
spectroscopic ellipsometry;
CD control;
offsets;
74.
Fine Tune W-CMP Process with Alignment Mark Selection for Optimal Metal Layer Overlay and Yield Benefits
机译:
带有对准标记选择的微调W-CMP工艺,可实现最佳的金属层覆盖和良率
作者:
Yuanting Cui
;
Albert So
;
Sean Louks
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
W-CMP;
erosion;
alignment;
process;
overlay control;
75.
Aerial Image Measurement Technique for fast evaluation of 193 nm lithography masks
机译:
快速评估193 nm光刻掩模的航空影像测量技术
作者:
A.M. Zibold
;
T. Scheruebl
;
W. Harnisch
;
R. Brunner
;
J. Greif
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
aerial image;
lithography emulation;
mask or reticle quality control;
immersion;
hyper numerical aperture;
beam homogenization;
76.
A high-resolution contamination-mode inspection method providing a complete solution to the inspection challenges for advanced photomasks
机译:
高分辨率污染模式检查方法为高级光掩模的检查挑战提供了完整的解决方案
作者:
Kaustuve Bhattacharyya
;
Yao-Tsu Huang
;
Kong Son
;
Den Wang
;
Louie Liu
;
C.H Liao
;
Yi-Ming Dai
;
Jyh-Ching Lin
会议名称:
《Conference on Metroloty, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII pt.2; 20040223-20040226; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
mask contamination;
photomask;
fab;
OPC;
TeraStar;
STARlight;
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