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Magnetic materials, processes and devices 10
Magnetic materials, processes and devices 10
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1.
Lab-On-Chip Fabrication Of Atomic Scale Magnetic Junctions
机译:
芯片实验室制造的原子尺度磁性结
作者:
N.T. Kemp
;
H. Majjad
;
P. Lunca Popa
;
G. Dalmas
;
B. Doudin
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
2.
Extreme Nano-structure Control by Sputtering for the High Density Perpendicular Recording Media and Head
机译:
通过溅射对高密度垂直记录介质和喷头进行极端纳米结构控制
作者:
Migaku Takahashi
;
Masakiyo Tsunoda
;
Shin Saito
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
3.
Annealing-induced Solid-phase Epitaxy at Interfaces between CoFeB Layers and MgO Barrier-layer in CoFeB/MgO/CoFeB Magnetic Tunnel Junctions and their Magnetic Properties
机译:
CoFeB / MgO / CoFeB磁性隧道结中CoFeB层和MgO势垒层之间的界面上的退火诱导固相外延及其磁性
作者:
Y. Kitamoto
;
T. Takeuchi
;
K. Tsunekawa
;
Y. S. Choi
;
Y. Nagamine
;
D. D. Djayaprawira
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
4.
Microstructure of Bit Patterned Media and Recording Characteristics in Perpendicular Magnetic Recording
机译:
垂直磁记录中位图媒体的微观结构和记录特性
作者:
H. Muraoka
;
Y. Nakamura
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
5.
Electrochemical Fabrication of CoPt Nanodot Arrays on Glass Disks by UV Nanoimprint Lithography
机译:
UV纳米压印光刻技术在玻璃盘上电化学制备CoPt纳米点阵列
作者:
T. Ouchi
;
Y. Arikawa
;
J. Mizuno
;
S. Shoji
;
T. Homma
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
6.
Effects of Organic Additives on the Residual Stress of Ni and Ni Alloys Electrodeposited from the Sulfamate Bath
机译:
有机添加剂对氨基磺酸浴中镍和镍合金电沉积残余应力的影响
作者:
H. C. Kim
;
Y. S. Kim
;
S. J. Lee
;
J. D. Lee
;
M. S. Lee
;
Y. D. Kim
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
7.
Electrodeposition of NiP Film Used as a Nonmagnetic Spacer in Laminated (CoFe/NiP)n Writer Pole
机译:
NiCo薄膜在层状(CoFe / NiP)n写入极中用作非磁性间隔物的电沉积
作者:
Ming Sun
;
Steve Riemer
;
Mark Kief
;
Ibro Tabakovic
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
8.
Electrodeposition of Magnetic Nickel Matrix Nanocomposites
机译:
磁性镍基纳米复合材料的电沉积
作者:
A. Bund
;
C. Graef
;
D. Thiemig
;
C. Kubeil
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
9.
Magnetic Micro Electro-mechanical Systems for Sensor and Actuator Applications
机译:
用于传感器和执行器的磁性微机电系统
作者:
H.H. Gatzen
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
10.
A Concept for the Characterization and Analysis of the Permeability of Soft Magnetic Thin-Films
机译:
软磁薄膜的磁导率表征和分析的概念
作者:
O. Traisigkhachol
;
L. Rissing
;
H.H. Gatzen
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
11.
Design of a Multiple-Electrode Magnetic-Alloy Plating Cell Using Numerical Modeling
机译:
基于数值模型的多电极磁性合金电镀槽的设计
作者:
Paul R. McHugh
;
Gregory J. Wilson
;
David J. Erickson
;
Daniel J. Woodruff
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
12.
Magnetostrictive TMR Sensors for Mechanical Measurements
机译:
用于机械测量的磁致伸缩TMR传感器
作者:
D. Meyners
;
T. von Hofe
;
A. Malave
;
E. Quandt
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
13.
Filling of FePt in AAO Nanohole Array by DC Pulsed Electrodeposition
机译:
直流脉冲电沉积法在AAO纳米孔阵列中填充FePt
作者:
H. Mori
;
T. Korenaga
;
N. Hosomi
;
T. Terui
;
S. Shingubara
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
14.
Process of CoPt Alloys Electrodeposition for MEMS/NEMS Applications
机译:
用于MEMS / NEMS应用的CoPt合金电沉积工艺
作者:
O. Berkh
;
Y. Shacham-Diamand
;
E. Gileadi
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
15.
Electrodeposition of an Iron-Cobalt Phase Isostructural to α-Mn
机译:
铁-钴相同构的电沉积成α-Mn
作者:
B. Crozier
;
Q. Liu
;
D.G. Ivey
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
16.
Crystallographic Damage to Mn-Ir Antiferromagnets by Ion Beam Etching
机译:
离子束刻蚀对Mn-Ir反铁磁体的晶体学破坏
作者:
K. Watanabe
;
K. Ueda
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
17.
Controlled Synthesis and Magnetic Properties of Iron Oxide Nanostructures Using Biogenic Polyamines
机译:
生物多胺控制氧化铁纳米结构的合成与磁性
作者:
Sangaraju Shanmugam
;
Takuya Nakanishi
;
Tetsuya Osaka
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
18.
Surface Modification of Chemically Synthesized FePt Nanoparticles
机译:
化学合成的FePt纳米粒子的表面改性
作者:
Takuma Hachisu
;
Takahiro Yotsumoto
;
Atsushi Sugiyama
;
Tetsuya Osaka
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
19.
Investigations on Embedding Nanoparticles by Electroplating
机译:
电镀嵌入纳米颗粒的研究
作者:
M. Wurz
;
T. Oekermann
;
P. Wagner
;
C. Ruffert
;
J. Caro
;
H.H. Gatzen
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
20.
Novel Thermoelectric Cooling of Magnetic Sensors
机译:
磁传感器的新型热电冷却
作者:
Raja Mannam
;
Mangilal Agarwal
;
Amitava Roy
;
Varshini Singh
;
Kody Varahramyan
;
Despina Davis
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
21.
Electroplated Cu Micro Electrode for the Application in Micro Sinking Electro Discharge Machining (Micro-SEDM)
机译:
电镀铜微电极在微沉放电加工(Micro-SEDM)中的应用
作者:
H.H. Gatzen
;
F. Klocke
;
S. Kamenzky
;
O. Traisigkhachol
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
22.
Long Term Investigations on NiFe Electroplating Processes
机译:
镍铁电镀工艺的长期研究
作者:
J. Chen
;
S. Hansen
;
H.H. Gatzen
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
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2008年
23.
Critical Parameters of Solution Design for Electrodeposition of 2.4 T CoFe Alloys
机译:
2.4 T CoFe合金电沉积溶液设计的关键参数
作者:
S. R. Brankovic
;
J. George
;
S. -E. Bae
;
D. Litvinov
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2008年
24.
Influence of pH on Electrodeposition and Properties of 2.4T CoFe Alloys
机译:
pH对2.4T CoFe合金电沉积和性能的影响
作者:
Jie Gong
;
Steve Riemer
;
Vlad Vasko
;
Mark Kief
;
Ibro Tabakovic
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2008年
25.
Electrodeposition of Co, Sm and Co-Sm Thin Layers
机译:
Co,Sm和Co-Sm薄层的电沉积
作者:
A. Ispas
;
M. Buschbeck
;
S. Pitula
;
A. Mudring
;
M. Uhlemann
;
A. Bund
;
F.Endres
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2008年
26.
DC Aqueous Electrodeposition of Sm-Co Permanent Magnets
机译:
Sm-Co永磁体的直流水电沉积
作者:
J.C.Wei
;
M. Schwartz
;
K. Nobe
会议名称:
《Magnetic materials, processes and devices 10》
|
2008年
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