摘要：电解液的组成对铝合金微弧氧化过程及陶瓷膜层的性能有重要影响,控制电解液的组成对获得良好的陶瓷膜层具有重要的意义。通过在硅酸盐电解液体系中加入0～12.0g/L(NaP0<,3>)<,6>,研究其对ZAlSi12Cu2Mg1表面微弧氧化陶瓷膜层厚度、孔隙率及相组成的影响。采用电涡流测厚仪测量膜层的厚度,用国标《GB/T1966-1996》测定膜层孔隙率,并且用XRD分析陶瓷层的相组成。研究结果表明:当(NaPO<,3>)<,6>的加入量在0～12.0g/L逐渐变化时,微弧氧化陶瓷膜层的厚度逐渐上升。加入量为0-6.0g/L时,膜层孔隙率逐渐下降,超过6.0g/L时,孔隙率开始上升。XRD分析结果表明,电解液中未加(NaPO<,3>)<,6>时,陶瓷膜层主要由γ-Al<,2>O<,3>、α-Al<,2>O<,3>、及Al<,2>SiO<,3>组成,α-Al<,2>O<,3>和γ-Al<,2>O<,3>相衍射峰强度大致相同。而加入6.0g/L(NaPO<,3>)<,6>后,陶瓷层中没有发现Na<'+>或PO3<'->,但α-Al<,2>O<,3>相的衍射峰强度明显高于γ-Al<,2>O<,3>相,且铝基体的衍射峰强度有所降低。
