制版属于《中国图书分类法》中的六级类目，该分类相关的期刊文献有34篇，会议文献有8篇，学位文献有7篇等，制版的主要作者有陈宝钦、李金儒、汤跃科，制版的主要机构有中国电子科技集团公司第四十七研究所、中国科学院微电子研究所、中国科学院研究生院等。
统计的文献类型来源于 期刊论文、 学位论文、 会议论文
1.[期刊]
摘要： 德国特吕茨勒公司日前推出了专门为转杯纺设计的TC07型梳棉机。该机在TC03型梳棉机在线控制技术的基础上，根据具体用途精确调整和优化工艺参数，最大限度地提高生...
2.[期刊]
摘要： 提出了微光刻图形CIF数据格式到PG3600数据格式转换软件新的图形切割算法,该算法将L-EDIT输出的CIF格式中的四种图形当作任意多边形处理,然后把多边形...
3.[期刊]
摘要： 介绍了制版工艺中常见的缺陷类型,分析了缺陷产生与温湿度的关系。通过实际工作应用,就缺陷控制的办法进行了有益的探讨,对光掩模版的制造有一定的指导意义。
4.[期刊]
摘要： 电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用。介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOLJBX5000LS、...
5.[期刊]
摘要： 基于ANSYS的激光熔覆成形温度场数值模拟可以真实再现熔覆工艺全过程,为优化工艺参数和预测成形缺陷提供可靠的理论依据。本文系统总结了ANSYS在熔覆成形温度场...
6.[期刊]
摘要： 激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的版图精度有很大的影响。文章根据光栏的...
7.[期刊]
摘要： Diamond/metal composites with 50 vol.% diamond have been produced by spark plas...
8.[期刊]
摘要： 介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技...
9.[期刊]
Effects of A-EMS processing parameters on semisolid slurry production
摘要： A computational model coupling an electromagnetic model with a macroscopic heat...
10.[期刊]
摘要： 首先简要介绍了缺陷修复系统中自动喷涂技术的定义,应用自动喷涂技术修复掩模版透明缺陷的优势以及实验目的,然后通过实验确定了对掩模版透明缺陷实现完美修复的自动喷涂...
11.[期刊]
摘要： 通过对实例版图从版图绘制、数据分割、格式转换和创建MEBES(生产用电子束曝光系统)工作文件几个方面来详细说明使用CATS(计算机辅助翻译系统)软件分割含圆的...
12.[期刊]
摘要： 激光图形发生器是一种用于图形转化的硬件接口设备，直接影响着掩膜版的加工质量。激光图形发生器曝光过程中出现的曝光偏移、曝光遗漏问题，严重影响了掩膜版加工的质量和...
13.[期刊]
摘要： 通过对MEBES 4700S电子束曝光机不同图形曝光模式特性的比较和分析，得到其在160MHz和320MHz曝光像素频率和不同设计栅格尺寸下的适用范围，以利用...
14.[期刊]
摘要： 提出一种由曝光单元拼接斜矩形线条的数学模型,基于该模型编制了一款数据处理程序.利用该数据处理程序和特制的光栏版,使精缩机实现图形发生器的功能,精确拼接出无锯齿...
15.[期刊]
摘要： The study of process and property of filed plate on the reliability and high vo...
16.[期刊]
摘要： 在集成电路中光刻、腐蚀、横向扩散等工艺步骤常会引起电阻阻值的变化,因此在集成电路版图绘制过程中,版图画法对电阻的影响很大.在集成电路设计过程中电阻通常都设计得...
17.[期刊]
摘要： 为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图...
18.[期刊]
摘要： 为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密...
19.[期刊]
摘要： 浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质.曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致光刻性能下降,因此,有必要确定液...
20.[期刊]
摘要： 为了进一步挖掘传统光学曝光的潜力、扩展其应用范围、提高其曝光效率,对GCA3600F光学图形发生器数据处理技术开展了研究,其中包括对曝光数据的优化处理技术以及...
