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スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会(SP部会)第137回定例研究会テーマ: バッファ層を用いた機能膜

机译:溅射和等离子工艺技术小组委员会(SP小组委员会)第137定期研究小组主题:使用缓冲层的功能膜

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摘要

スパッタリング法は,大面積成膜が容易,膜厚制御性が高い,多様な材料へ適用可能などの特徴から,汎用性の高い真空成膜プロセスとして,ますます用途を拡大しております.今後付加価値を高めた機能膜への応用として,より高度な結晶構造制御が求められています.
机译:由于溅射方法易于在大面积上沉积并且具有高的膜厚度可控性并且可以应用于各种材料,因此其作为通用的真空沉积工艺的应用正越来越广泛。需要更高级的晶体结构控制,以用于增加附加值的功能膜。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2014年第2期|a1-a2|共2页
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  • 正文语种 jpn
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