机译:硅掺杂对等离子体增强化学气相沉积的氮掺杂金刚石状碳膜化学粘合状态及性质
Hirosaki Univ Grad Sch Sci & Technol 3 Bunkyo Hirosaki Aomori 0368561 Japan;
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Tohoku Univ Res Inst Elect Commun 2-1-1 Katahira Sendai Miyagi 9808577 Japan;
Hirosaki Univ Grad Sch Sci & Technol 3 Bunkyo Hirosaki Aomori 0368561 Japan;
Diamond-like carbon; Silicon; Nitrogen; Chemical vapor deposition; Chemical bonding state; Internal stress; Electrical and optical properties;
机译:等离子体增强化学气相沉积在Si衬底上掺氮类金刚石碳膜的结构和电学性质以及电流电压特性
机译:原料气对等离子体增强化学气相沉积法制备的硅/氮结合类金刚石碳膜性能的影响
机译:脉冲偏压对等离子体增强化学气相沉积法制备的硅/氮结合类金刚石碳膜结构和性能的影响
机译:6.2:通过使用等离子体化学气相沉积沉积的无氢类金刚石碳膜来增强场发射特性
机译:电子回旋共振化学气相沉积的贵金属掺杂类金刚石碳膜。
机译:吡啶化学气相沉积制得的氮掺杂石墨烯薄膜:工艺参数对电学和光学性质的影响
机译:低温中性光束合成的氮掺杂金刚石状碳膜的结构和电化学性能增强化学气相沉积