机译:微波和电炉加热快速退火中Au薄膜的表面粗糙度变化和微结构演化
Tohoku Univ Grad Sch Environm Studies Aoba Ku 6-6-02 Aza Aoba Sendai Miyagi 9808579 Japan;
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Post-annealing; microwave; Thin film; Gold; Surface roughness; Grain structure; Structure zone model;
机译:微波岗位退火的Au薄膜表面粗糙度变化的仿真
机译:PS-b-PMMA薄膜快速微波退火过程中表面形态的演变
机译:IGZO薄膜沉积方法和条件对复合薄膜质量,表面粗糙度,微观结构缺陷和Ti / IgZO /石墨烯/聚酰亚胺样品的电学性能的影响
机译:快速热退火对费用,磁性和微波性能的快速热退火
机译:退火金薄膜对表面等离子体共振测量的影响。
机译:金膜厚度和表面粗糙度对室温晶圆键合和金-金表面活化键合的晶圆级真空密封的影响
机译:快速热退火工艺结晶SRBI2TA2O9薄膜的铁电和微观结构特征
机译:微波消解硅上Cu薄膜的快速选择性退火