机译:不同氧气压力下电子束蒸发沉积的氧化锆 - 氧化铝 - 氧化铝 - 氧化钛复合薄膜的压痕模量和微观结构性能
Bhabha Atom Res Ctr Atom & Mol Phys Div Mumbai 400085 Maharashtra India;
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Zirconia - Alumina - Magnesia; Ternary composite thin films; Atomic force acoustic microscopy; Indentation modulus; Atomic force microscopy; Grazing incidence X-ray reflectivity;
机译:改变氧分压对反应蒸发铝酸锌薄膜性能的影响
机译:氧气压力对电子束蒸发沉积的Al2O3-SiO2薄膜组织和性能的影响
机译:氧分压对电子束蒸发沉积ZrO_2薄膜结构及相关性能的影响
机译:通过电子束蒸发沉积YBF_3-CAF_2复合薄膜的光学性质
机译:电子束蒸发生长的氧化铝薄膜的沉积和表征。
机译:纳米压痕法测量气溶胶沉积BaTiO3薄膜的电学性质与其机械硬度之间的关系
机译:电子束蒸发在不同氧分压下制备的ZrO2薄膜的激光损伤阈值