机译:通过MO掺杂通过化学喷雾热解途径的Cugas_2薄膜子带的工程
Univ Tokyo Res Ctr Adv Sci & Technol RCAST Tokyo Japan|Madurai Kamaraj Univ Sch Phys Madurai Tamil Nadu India;
Univ Tokyo Res Ctr Adv Sci & Technol RCAST Tokyo Japan;
Vellore Inst Technol Ctr Crystal Growth Vellore Tamil Nadu India;
Univ Tokyo Res Ctr Adv Sci & Technol RCAST Tokyo Japan;
Cent Univ Tamil Nadu Sch Technol Dept Mat Sci Thiruvarur India|Madurai Kamaraj Univ Sch Phys Madurai Tamil Nadu India;
Univ Tokyo Res Ctr Adv Sci & Technol RCAST Tokyo Japan;
Thin films; Chalcopyrite; Copper gallium sulfide; Spray pyrolysis; Intermediate bandgap;
机译:易化学喷雾热解技术通过掺杂铬来调节CuGaS_2薄膜的亚带隙
机译:化学喷雾热解技术Zn掺杂PBS薄膜的结构,形态学和电性能
机译:喷雾热解化学技术研究Ni掺杂ZnO薄膜的结构,形貌,光学和光热性质
机译:SN掺杂在化学喷雾热解沉积Cugas_2薄膜中的影响
机译:使用化学喷雾热解法生长和表征二硒化铜铟(CIS)薄膜。
机译:超声喷涂热解氟掺杂氧化锡薄膜的纳米力学和材料性能:F掺杂的影响
机译:掺杂对通过化学喷雾热解制备的(Cds:Fe + 3)薄膜光学性质的影响