机译:氧气压力对脉冲激光沉积生长的Al和Sb共掺杂P型ZnO薄膜结构和电性能的影响
Kyungpook Natl Univ Sch Mat Sci & Engn Daegu 41566 South Korea;
Kyungpook Natl Univ Sch Mat Sci & Engn Daegu 41566 South Korea;
Kyungpook Natl Univ Sch Mat Sci & Engn Daegu 41566 South Korea;
Kyungpook Natl Univ Sch Mat Sci & Engn Daegu 41566 South Korea;
Yeungnam Univ Sch Mat Sci & Engn Gyongsan 38541 South Korea;
Kyungpook Natl Univ Sch Mat Sci & Engn Daegu 41566 South Korea;
机译:氧气压力对脉冲激光沉积Ga,P共掺杂ZnO薄膜p型电导率的影响
机译:氧气压力对脉冲激光沉积的Ga,P掺杂ZnO薄膜的p型导电性的影响
机译:氧气压力对脉冲激光沉积生长Ge掺杂ZnO薄膜电性能的影响
机译:在不同氧气压力下通过脉冲激光沉积制备的未掺杂和掺杂Cu的ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:氧分压对脉冲激光沉积在(LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO6)0.35(001)上生长的Ba(Zr0.3Ti0.7)O3薄膜的结构和介电性能的影响