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机译:比较UV / O_3和ECR氧等离子体清洗方法对塑料盒中存储的硅晶片上有机污染物的去除效率
Department of Materials Science and Engineering, Inha University;
Inchon 402-75, South Korea;
dry cleaning; organic contaminants; electron cyclotron resonance (ECR) plasma; UV/O_3; attenuated total reflection-fourier transform infrared spectroscopy (ATR-FTIR); atomic force microscopy (AFM);
机译:使用UV / O_3和ECR等离子干洗Si晶片上的有机污染物
机译:N2O ECR等离子体技术去除硅晶片表面有机污染物的效率
机译:UV / H_2O_2和O_3 / H_2O_2继之以UV / H_2O_2组成的联合过程在再生水中减少有机污染物:减排效率,能耗和副产物形成的预测
机译:硅晶片上含氧等离子体剥离有机结构引起的棉状二氧化硅污染物的分析
机译:土壤含水层处理在去除废水污染物和内分泌干扰物方面的效率。研究了三氯卡班和雌激素的去除以及化学需氧量和水力加载速率对减少含水层不饱和和饱和区有机物和养分的影响。