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机译:Cu / CMP中Cu / SiLK〜(TM)工艺中的剥离和分层
Institute of Microelectronics, 11 Science Park Road, Science Park II, Singapore 117685, Singapore;
Cu/SiLK; CMP; peeling; delamination and critical pressure;
机译:有限元法分析整个Cu-CMP过程中Cu / low-k互连结构的应力
机译:TOF-SIMS和XPS对Cu-CMP工艺的评估:铜表面吸附剂和氧化态的时间依赖性
机译:TOF-SIMS法分析Cu-CMP工艺下电镀铜膜的表面化学状态
机译:Ta / SiLK〜(TM)在0.13μm工艺集成中的分层
机译:在Cu / SiLK(TM)金属化方案中,集成非晶钽氮化硅(TaSiN)薄膜作为扩散阻挡层。
机译:用水将CVD石墨烯从基底上进行浸泡和剥离剥离的简便方法
机译:一种简便的CVD石墨烯浸渍和剥离分层工艺 使用水的基材
机译:mg-Tm-X合金中mg基金属玻璃的形成和性质(Tm = Cu或Ni; X = sn,si,Ge,Zn,sb,Bi或In)