机译:使用高真空MOCVD方法沉积外延碳化硅膜用于MEMS应用
Department of Chemistry, Sungkyunkwan University, 300 Chunchun-Dong, Jangan-Gu, Suwon 440-746, South Korea;
high vacuum metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD); epitxial SiC thin film; diethylmethylsilane (DEMS); selective deposition of SiC;
机译:化学气相沉积工艺条件对MEMS应用的碳化硅薄膜的影响
机译:使用高真空金属有机化学气相沉积法和单源前驱体沉积碳化硅膜:其结构性质的研究
机译:通过超高真空化学气相沉积直接在硅衬底上外延生长的富锗硅锗薄膜
机译:碳化硅外延薄膜的化学气相沉积及缺陷表征
机译:通过快速热化学气相沉积在硅上形成β-碳化硅薄膜的成核,外延生长和表征。
机译:通过PI-MOCVD在电阻开关应用中将LaMnO3 +δ薄膜集成到镀铂硅基板上
机译:通过横向外延沉积的碳化硅上高度有序的氮化硼/形状外延薄膜