机译:自动化的计量系统,包括用于300 mm硅微电子学的VUV光谱椭圆仪和X射线反射仪
SOPRA, 26 rue Pierre Joigneaux, F-92270 Bois-Colombes, France;
spectroscopic ellipsometry; grazing X-ray reflectance; VUV; high k dielectrics; antireflective coatings; 157 nm lithography;
机译:自动化的计量系统,包括用于300 mm硅微电子学的VUV光谱椭圆仪和X射线反射仪
机译:X射线反射仪和光谱椭圆仪的系统结合:可靠的厂内计量的强大技术
机译:使用异位台式和椭圆椭偏仪以及X射线和VUV反射仪对原子层沉积的Al_2O_3薄膜进行比较测量
机译:结合计量技术,包括紫外光谱椭圆偏振法和掠射X射线反射率,可精确表征157nm处的薄膜和多层膜
机译:光谱反射法和椭圆偏振法测定固体薄膜的光学性能
机译:n-i-p氢化非晶硅基光伏器件的光谱椭圆偏振法研究
机译:使用穆勒基矩阵光谱椭圆形测定法测定28纳米间距硅翅片的敏感性分析和线边缘粗糙度测定光学关键尺寸计量
机译:光谱椭偏仪和干涉反射测量在氧化硅上生长的CVD硅