机译:氢氩等离子体清洗的硅表面的原位光谱椭圆偏振法
FG Nanotechnologie, Zentrum fuer Mikro- und Nanotechnologien, TV Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
cleaning; in situ ellipsometry; hydrogen plasma; silicon;
机译:不同表面化学计量比的InN等离子体辅助分子束外延原位光谱椭圆仪
机译:使用卢瑟福反向散射光谱,透射电子显微镜和椭圆偏振光谱法对等离子浸没离子注入的硅的近表面区域进行表征
机译:氧化,氢化和天然锆表面在0.3至25μm波长范围内的光学性质-通过异位和原位光谱椭圆仪研究
机译:在氢等离子体下氧化物蚀刻和表面损伤过程的原位光谱椭圆形研究
机译:二氧化硅/硅RIE之后的原位远程RF等离子体清洁和表面表征。
机译:通过原位光谱椭圆偏振法在金属氧化物薄膜的等离子体增强原子层沉积过程中发现前体-表面相互作用
机译:光谱椭圆形测定法。氢化硅膜生长初始阶段的原位椭圆形研究。