机译:椭圆偏振光谱法表征多孔硅复合材料
Jobin Yvon S.A.S. Thin Film Division Horiba Group, ZI de la vigne aux loups - 5, avenue Arago - 91380 Chilly Mazarin, France;
porous silicon; spectroscopic ellipsometry; optical properties;
机译:具有非线性光学特性的多孔二氧化硅复合材料:通过椭圆偏振光谱法和二次谐波表征
机译:多孔硅氧化锡纳米复合层的椭圆偏振光谱研究
机译:拉曼光谱和椭圆偏振光谱能为表征薄膜和材料表面带来什么?
机译:通过光谱椭圆形测定法无硅烷沉积硅氮化硅薄膜的光学表征
机译:pH响应和光稳定的IV组金属氧化物官能化的多孔硅平台以及光谱成像方法在功能和混合材料分析中的新应用。
机译:椭圆偏振光谱法评估氧化剂混合物作为多孔硅微结构表面改性剂的作用
机译:多孔硅/聚(L-丙交酯) ud的表征 表面引发的开环聚合反应制备的复合材料
机译:多晶硅多层结构CVD沉积和掺杂的光谱椭偏法表征