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机译:退火对阴极电沉积ZnO薄膜光学性能的影响
Univ Sci & Technol China, Hefei Natl Lab Phys Sci Microscale, Hefei 230026, Anhui, Peoples R China;
Univ Sci & Technol China, Dept Phys, Hefei 230026, Anhui, Peoples R China;
zinc oxide; electrodeposition; photo emission; annealing; ZINC-OXIDE FILMS; LOW-TEMPERATURE ELECTRODEPOSITION; THIN-FILMS; PHOTOLUMINESCENCE PROPERTIES; GROWTH; LUMINESCENCE; GOLD;
机译:由高阴极电沉积电位制备的ZnO薄膜的物理和电化学性质
机译:混合溶剂中甲醇比对阴极电沉积ZnO薄膜光学性能和润湿性的影响
机译:阴极电沉积在Si衬底上生长的纳米ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:阴极电沉积制备ZnO薄膜及其光学性质
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:使用Zn(NO3)的ZnO膜的一些物理性质使用Zn(NO3).6H2O水溶液在不同的阴极电位下