机译:氧气压力对脉冲激光沉积在MgO衬底上生长的(Ba_(0.02)Sr_(0.98))TiO_3薄膜的晶格参数,取向,表面形貌和沉积速率的影响
Department of Earth Sciences, University of Cambridge, Downing Street, Cambridge, CB2 3EQ, UK;
oxygen pressure; pulsed laser deposition; BST thin film; structural characterization;
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:生长温度和膜厚对脉冲激光沉积在铂硅衬底上生长的Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜的电性能的影响
机译:沉积温度对Si衬底上集成的Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3外延薄膜结晶度的影响
机译:脉冲激光沉积在各种衬底上生长的ZnO薄膜的结构特征和表面形态比较
机译:通过脉冲激光沉积生长的功能性复合氧化物薄膜和相关超晶格
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:衬底温度和环境氧压对脉冲激光沉积Ba(Fe1 / 2Nb1 / 2)O3薄膜生长的影响