...
机译:等离子体沉积氢化非晶碳氮化碳和氧化膜的光学和电子性质
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces, UMR 7647 CNRS-Ecole Polytechnique, 91128 Palaiseau-Cedex, France;
plasma-deposited hydrogenated amorphous carbon nitride; carbon oxide films; raman studies;
机译:退火对氢化非晶碳和氢化非晶氮化碳薄膜光学和化学键合性能的影响
机译:非晶碳和氮化碳膜的介电功能,电子性质和光学常数
机译:非晶碳和氮化碳膜的介电功能,电子性质和光学常数
机译:射频功率对氢化非晶氮化碳薄膜光学,化学键合和光致发光性能的依赖性
机译:非晶态氢化碳膜的光学性质。
机译:非晶氢化碳膜(a-C:H)精制可持续的聚己二酸对苯二甲酸丁二醇酯(PBAT)揭示了膜厚度随sp2 / sp3比率变化而变化的不稳定性
机译:等离子体沉积的无定形氢化含氧碳膜的结构和光学性质
机译:等离子体沉积的无定形氢化碳膜及其摩擦学性能