机译:使用3C-SiC缓冲层的Si(111)衬底上ZnO薄膜的异质外延
Univ Sci & Technol China, Dept Phys, Anhua 230026, Peoples R China;
ZnO films; SiC buffer layer; MOCVD; structure model; photoluminescence; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; MOLECULAR-BEAM EPITAXY; THIN-FILMS; GROWTH; SI; GAN;
机译:使用AIN缓冲层在Si衬底上的多晶3C-SiC薄膜的异质外延
机译:使用各种缓冲层表征3C-SiC / Si(111)衬底上GaN薄膜的生长
机译:具有Sc_2o_3缓冲层的(111)Si衬底上的外延Zno膜
机译:ZnO膜在(0001)A1_2O_3和(111)Si衬底上沉积的ZnO膜通过MOCVD用作缓冲层的ZnO薄膜生长的GaN层
机译:半透明氧化锌:低温制备的铝/铜(I)氧化物薄膜异质结:结处本征ZnO缓冲层的作用
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:3C-SiC缓冲层对RF溅射在Si(111)衬底上形成氧化锌膜的影响