机译:Ar离子束辅助和退火温度对反应性DC磁控溅射沉积TiO2薄膜性能的影响
Inha Univ, Dept Phys, Inchon 402751, South Korea;
ion-beam deposition; DC; magnetron; reactive sputtering; titanium oxide; TITANIUM-OXIDE FILMS; ELECTRON-BEAM; MICROSTRUCTURE;
机译:N掺杂和空气退火对室温反应DC溅射沉积TiO2薄膜结构和光学性能的影响
机译:退火温度对直流磁控溅射沉积TiO2薄膜组织和性能的影响
机译:Ar离子束辅助和衬底温度对RF磁控溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜物理性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积锡薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:直流磁控溅射沉积TiO2薄膜的生物相容性和表面性质
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性