机译:用直流电法制备的五氧化二钒薄膜的光学和结构性能。反应磁控溅射
Inst Super Engn Porto, Dept Fis, P-4200 Oporto, Portugal;
Univ Minho, Ctr Fis, P-4710 Braga, Portugal;
Univ Evora, Dept Fis, Evora, Portugal;
Beijing Jiaotong Univ, Inst Optoelectron, Beijing 100044, Peoples R China;
vanadium pentoxide; thin film; sputtering; optical properties; Raman; OXIDE THIN-FILMS; SUBSTRATE-TEMPERATURE; ELECTROCHEMICAL PROPERTIES; DIOXIDE FILMS; MICROSTRUCTURE;
机译:通过反应性直流电制备的氧化铋薄膜的光学性质。磁控溅射到p-GaSe(Cu)上
机译:微波辅助反应磁控溅射制备钒氧化物的结构和光学性质
机译:通过RF反应磁控溅射在不同的基板温度和O-2通量下制备的F掺杂的SnO或SnO2膜的结构,电气和光学性质
机译:通过反应性DC磁控溅射制备五氧化氧化钒薄膜纳米结构的结构性
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构Cr掺杂CdO薄膜的温度依赖性结构和光学性质