机译:硅上的Al2O3-TiO2纳米层合物和AlTiO膜的组成,表面形貌和电特性
Technion Israel Inst Technol, Dept Elect Engn, IL-32000 Haifa, Israel;
thin dielectric films; electron beam gun deposition; chemical and structural properties; electrical characterization; TA2O5 THIN-FILMS; KAPPA GATE DIELECTRICS; BEAM GUN EVAPORATION; OPTICAL-PROPERTIES; METAL; Y2O3; DEPOSITION; SI; SI(100); GD2O3;
机译:沉积在氧化硅和多晶金表面上白藜芦醇薄膜的原子组成和形态
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机译:Si / sub 3 / N / sub 4 /沉积之前多晶硅电极的表面预处理对Si / sub 3 / N / sub 4 /介电膜的电学特性的影响
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机译:方解石表面富Cd碳酸盐碳酸盐薄膜的摩擦特性:对纳米尺度成分差异的影响
机译:N-Pert硅太阳能电池介电层激光烧蚀机理的研究(NI)电镀工艺:激光撞击表面形态,组成,电学性能和金属化质量