机译:原子层沉积制备高介电常数氧化铝薄膜的同步X射线反射率研究
Pohang Univ Sci & Technol, Sch Environm Sci & Engn, Ctr Integrated Mol Syst, Natl Res Lab Polymer & Phys,Dept Chem, Pohang, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Div Mol & Life Sci, Program BK21, Pohang, South Korea;
Res Inst Ind Sci & Technol, Mat Anal Team, Pohang 790600, South Korea;
aluminium oxide; dielectrics; atomic layer deposition; synchrotron X-ray reflectivity; SILICON; OXIDES;
机译:纳米多孔低介电常数有机硅薄膜的同步X射线反射率研究
机译:在外延稳定性HCP镍薄膜中相变化的原位同步X射线衍射分析,通过等离子体增强原子层沉积制备
机译:原子层沉积对薄膜生长的原位同步加速器X射线散射研究
机译:等离子体增强原子层沉积制备的SrRuO_3种子上SrTiO_3薄膜的介电性能
机译:用原子层沉积(ALD)制备的钙钛矿薄膜金属催化剂的研究
机译:亚微米级逐层电喷沉积制备高介电常数无裂纹钛酸钡薄膜
机译:低介电常数的纳米多孔有机硅酸盐薄膜的同步X射线反射率研究